专利名称：X射线系统和具有剂量面积乘积测量室的瞄准器的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种改进的X射线系统和一种具有DAP测量室的瞄准器。
背景技术：
在医学中X射线主要用于确定身体的解剖结构，其与症状、征兆(Zeichen)和可能的其它检查结合可以进行诊断。人或动物身体的不同厚度的组织不同强度地吸收X射线，从而可以实现身体内部的影像(阴影化、亮化和其它X射线图)。 在治疗和诊断中应用X射线的问题是，X射线会致癌。因此人们致力于将照射患者的X射线降低到刚好能产生足够质量的X射线图所需的量。在这点上不同的立法者要求对于每个进行的X射线措施确定所谓的剂量面积乘积或者说Dose Area Products (DAP)。
在现有技术中，在瞄准器单元和患者之间的射程中设置为此所需的DAP测量室，通常作为在相应的规定生效之前安装的X射线系统的加装装备。 然而，如果X射线系统具有用于预告与检查目的匹配的辐射入射场的装置(所谓的光学瞄准器(Lichtvisier))，则瞄准器光线(Visierlicht)同样穿过DAP测量室并在那里被衰减，从而要求用于光学瞄准器的更强的光源，或者说不能采用特定的光源，例如LED,因为典型的DAP测量室具有70%或者更少的透射比，即30%或者更多的可见的瞄准器光线被吸收。
发明内容
由此本发明要解决的技术问题是，提出一种具有DAP测量室的改进的X射线系统。
本发明通过一种X射线系统解决上述技术问题，该X射线系统具有
-在X射线源和检测器之间延伸的射程；-在射程中设置的分光镜(Teilerspiegel)，用于将可见光耦合到射程中；以及
-DAP测量室，其设置在X射线源和分光镜之间的射程中。 在此，检测器理解为可以用于采集X射线辐射的任何装置，例如电子检测器或者X光片。 将DAP测量室设置在射程中在用于耦合用于光学瞄准器的可见光的分光镜之前
的优点是，瞄准器光线不会被衰减并且由此可以使用市场上常见的LED。 还可以将DAP室作为第一元件设置在瞄准器中在靠近焦点的用于保护防止不期
望释放的辐射、即在射线途径中过滤并进一步遮光的薄片(Lamellen)之后。 最后，可以设置计算单元，其确定设置在射程中在DAP测量室之后的元件的影响
并相应校正由DAP测量室提供的测量结果，从而确定计算的DAP值，该值与从瞄准器最后发
出的射线相一致。 在现有技术中，DAP测量室通常被设置在瞄准器外部，这要求附加的位置并且带来提高的清洗开销。通过按照本发明将DAP测量室设置在瞄准器内部，避免了该缺陷。
本发明还涉及一种相应构造的用于X射线系统的瞄准器。
以下结合附图详细解释本发明的实施例。其中， 图1示出了具有X射线源、瞄准器和检测器的X射线系统。
具体实施例方式
图1示出了具有X射线源110、瞄准器120和检测器130的X射线系统100。未示出的有三脚架、支架、患者卧榻和类似机械元件。瞄准器120设置在从射线源110延伸到检测器130的射程111中。 瞄准器120包括可运动的靠近焦点的薄片121，其首先用于防护不期望释放的辐射，并且构成瞄准器120的位于射程中的第一元件。在示出的实施例中在射程中紧接着设置DAP测量室122。在DAP测量室122之后设置可机械地在射程中运动的滤镜元件123A、123B、123C。 在射程中在滤镜元件123之后的分光镜124用于将来自光源125的可见光耦合到射程111中以实现所谓的光观测器，其用于预告与检查目的匹配的辐射入射场。可运动的光阑126形成射程中最后的瞄准器元件，利用该光阑可以对照射场进行限制。
未示出的有计算和分析单元，利用该计算和分析单元考虑在射程中在DAP测量室之后的元件(在图1的例子中滤镜123、镜124、光阑126)对测量结果的影响。对于这些元件的每个，各个改变辐射的影响是已知的。各个位于射程中的元件作为参数被传输给在计算和分析单元中运行的软件。每个元件的或者元件的每个合适组合的影响，例如由于前面的测量，是已知的并且以合适的方式存储在存储器中(软件根据传输的参数访问该存储器)，或者根据涉及的元件的已知的影响辐射的参数，通过仿真或者类似方法在特别的处理步骤中被确定。然后可以从实际的DAP测量值(其相应于在该元件之前的射程)计算DAP值，该值与从瞄准器中最后出发的辐射相一致。 按照本发明，DAP测量室还可以被设置在滤镜元件123之后，然而在任何情况下都在射程中在分光镜124之前。 具有优势地可以使用LED作为光源125，因为不存在瞄准器光通过DAP测量室的衰减。
权利要求
一种X射线系统(100)，具有在X射线源(110)和检测器(130)之间延伸的射程(111)；设置在该射程(111)中的分光镜(124)，用于将可见光耦合到该射程(111)中；以及剂量面积乘积测量室(122)，其设置在X射线源(110)和分光镜(124)之间的射程(111)中。
2. 根据权利要求1所述的X射线系统(100)，附加地包括设置在射程(111)中靠近焦点的薄片(121)，用于保护防止不期望释放的辐射；一个或多个滤镜(123);其中，所述剂量面积乘积测量室设置在靠近焦点的薄片(121)和滤镜(123)之间的射 程(111)中。
3. 根据权利要求1或2所述的X射线系统(IOO)，包括计算单元，其确定射程(111)中 的设置在剂量面积乘积测量室(122)之后的元件的影响，并且相应地校正由剂量面积乘积 测量室(122)提供的测量结果。
4. 一种用于X射线系统(100)的瞄准器(120)，其设置在X射线系统的射程(111)中 并且具有分光镜(124)，用于将可见光耦合到射程(111)中；以及剂量面积乘积测量室(122)，其设置在瞄准器(120)的辐射入射开口和分光镜(124)之 间的射程(111)中。
5. 根据权利要求4所述的瞄准器，附加地具有 靠近焦点的薄片(121)，用于保护防止不期望释放的辐射；一个或多个滤镜(123);其中，所述剂量面积乘积测量室(122)设置在靠近焦点的薄片(121)和滤镜(123)之 间的射程(111)中。
全文摘要
本发明涉及一种具有剂量面积乘积测量室(122)的改进的X射线系统(100)。按照本发明的X射线系统(100)具有在X射线源(110)和检测器(130)之间延伸的射程(111)。在该射程(111)中设置了分光镜(124)，用于将可见光耦合到射程(111)中。此外所述X射线系统具有剂量面积乘积测量室(122)，其设置在X射线源(110)和分光镜(124)之间的射程(111)中。此外本发明还涉及一种具有剂量面积乘积测量室(122)的改进的瞄准器(120)。
文档编号A61B6/00GK101791226SQ20101010585
公开日2010年8月4日 申请日期2010年1月26日 优先权日2009年2月3日
发明者英戈·克莱姆 申请人:西门子公司