一种新生儿科抹粉器的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及医疗器械技术领域，尤其是一种新生儿科抹粉器。
【背景技术】
[0002]婴儿刚出生时，各方面的免疫力很差，需要医务人员的悉心照料，由于婴儿的皮肤比较嫩，容易遭到细菌的感染，特别是颈部和腋部，刚产出时，容易发生感染，因此，需要在婴儿的皮肤上，擦一层爽肤粉，保持婴儿身体的清爽；现有的操作过程是:医疗人员直接在新生婴儿身体上擦拭爽肤粉，然后抹匀；由于医疗人员在擦拭的过程中，很难控制均匀，使过多的爽肤粉停留在婴儿身上，浪费了过多的爽肤粉，工作过程费时费力，同时也对婴儿身体不利，为解决这一问题，国家专利局公布了公告号为“CN204352373U”的一种新生儿科用打粉装置，但是该装置在使用过程中，爽肤粉在扇叶的作用下容易通过擦粉头飞扬到外界空气中，若新生儿或医疗人员吸入鼻中，会对身体造成一定的影响。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的技术任务是针对以上现有技术的不足而提供的一种新生儿科抹粉器。
[0004]本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种新生儿科抹粉器，包括手柄、储粉腔、搅拌杆和盖体，在所述手柄的底端设有抹粉头，所述抹粉头与手柄转动连接，在所述抹粉头的底端设有凹槽，在所述凹槽内设有抹粉球，所述凹槽的口径小于抹粉球的直径，在所述抹粉球的外表面设有涂抹层，在所述手柄的内壁上设有若干个搅拌杆，在所述手柄的外壁上设有滑槽，在所述滑槽内设有限位块，在所述抹粉头的外壁上与滑槽对应处设有限位槽。
[0005]作为进一步优化方案:所述涂抹层为棉质或者丝绒质材料。
[0006]本实用新型的优点在于:1、本实用新型结构设计合理简单，操作方便；2、本实用新型在使用时，抹粉球自由转动会将粉末带出涂抹到皮肤上，这样能够保证涂抹的均匀，并且抹粉球可无限制的灵活转动，可在任意方向涂抹，实用性强；3、本实用新型可转动手柄使搅拌杆转动，从而防止粉末结块，方便实用。
【附图说明】
[0007]图1为本实用新型的主视图。
[0008]图2位本实用新型的侧视图。
[0009]图3为图2中A部分的放大图。
【具体实施方式】
[0010]下面结合说明书附图对本实用新型做以下详细说明。
[0011]如图1?图3所示，一种新生儿科抹粉器，包括手柄2、储粉腔8、搅拌杆9和盖体1，在所述手柄2的底端设有抹粉头6，所述抹粉头6与手柄2转动连接，在所述抹粉头6的底端设有凹槽，在所述凹槽内设有抹粉球7，为防止抹粉球7从凹槽内掉落，所述凹槽的口径要小于抹粉球7的直径，在所述抹粉球7的外表面设有涂抹层10，这样涂抹层10可以作为粉末的一个载体，将储粉腔8内的粉末运送到外面涂抹到新生儿皮肤上，在所述手柄2的内壁上设有若干个搅拌杆9，在所述手柄2的外壁上设有滑槽3，在所述滑槽3内设有限位块4，在所述抹粉头6的外壁上与滑槽3对应处设有限位槽5，当限位块4与限位槽5配合时可防止在涂抹过程中涂抹头6转动，影响涂抹效果，因新生儿皮肤比较娇嫩，所述涂抹层10可由棉质或者丝绒质材料等软质材料制成。使用前，将爽肤粉装入储粉腔内8，然后盖上盖体1，然后在需要涂抹爽肤粉的皮肤上涂抹即可，在涂抹的过程中，抹粉球7会自由转动，抹粉球7在转动的过程中会将储粉腔8内的爽肤粉带出并均匀涂抹到皮肤上，当储粉腔8内的爽肤粉结块时，将限位块4从限位槽5中滑到滑槽3的一侧，然后一只手固定住抹粉头6，另一只手转动手柄2，手柄2带动搅拌杆9转动，将爽肤粉打散即可。
【主权项】
1.一种新生儿科抹粉器，包括手柄、储粉腔、搅拌杆和盖体，其特征在于:在所述手柄的底端设有抹粉头，所述抹粉头与手柄转动连接，在所述抹粉头的底端设有凹槽，在所述凹槽内设有抹粉球，所述凹槽的口径小于抹粉球的直径，在所述抹粉球的外表面设有涂抹层，在所述手柄的内壁上设有若干个搅拌杆，在所述手柄的外壁上设有滑槽，在所述滑槽内设有限位块，在所述抹粉头的外壁上与滑槽对应处设有限位槽。2.根据权利要求1所述的一种新生儿科抹粉器，其特征在于:所述涂抹层为棉质或者丝绒质材料。
【专利摘要】本实用新型公开了一种新生儿科抹粉器，属于医疗器械技术领域，包括手柄、储粉腔、搅拌杆和盖体，其特征在于：在所述手柄的底端设有抹粉头，所述抹粉头与手柄转动连接，在所述抹粉头的底端设有凹槽，在所述凹槽内设有抹粉球，所述凹槽的口径小于抹粉球的直径，在所述抹粉球的外表面设有涂抹层，在所述手柄的内壁上设有若干个搅拌杆，在所述手柄的外壁上设有滑槽，在所述滑槽内设有限位块，在所述抹粉头的外壁上与滑槽对应处设有限位槽，本实用新型在使用时，抹粉球会自由转动，抹粉球在转动的过程中会将粉末带出涂抹到皮肤上，这样能够保证涂抹的均匀，实用性强，并且粉末不会扬起，避免了对新生儿和医护人员造成伤害。
【IPC分类】A61M35/00
【公开号】CN204932574
【申请号】CN201520655105
【发明人】崔桂杰
【申请人】崔桂杰
【公开日】2016年1月6日
【申请日】2015年8月20日