专利名称：一种煎烤器的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种煎烤器。
背景技术：
现有市场上的一种煎烤器，请查阅
图1和图2，它包括一上烤盘单元IO、 一下烤盘单元20以及一连接该上烤盘单元10和该下烤盘单元20的抬杆单元 30。该上烤盘单元10包括一上基座11和一装设在该上基座11的上烤盘12; 该下烤盘单元20包括一下基座21和一装设在该下基座21的下烤盘22。该上 烤盘单元10和该下烤盘单元20之间具有展开状态或对面状态。请查阅
图1 和2，该对面状态分为间隔距离不等的第一对面状态和第二对面状态。其中 在第二对面状态时，该下烤盘单元20的下烤盘22与该上烤盘单元10的上烤 盘12对应靠接；在第一对面状态时，该上烤盘单元向后向上运动，因此该下 烤盘单元20的下烤盘22与该上烤盘单元10的上烤盘12之间产生断差H，如
图1所示，该断差将影响煎烤器外观。
实用新型内容
本实用新型提供一种煎烤器，它克服了背景技术的煎烤器所存在的在第 一对面状态时产生断差的不足。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是
一种煎烤器，它包括一上烤盘单元、 一下烤盘单元以及一连接该上烤盘 单元和该下烤盘单元的抬杆单元，该上烤盘单元和该下烤盘单元之间具有展 开状态或对面状态，而且，该对面状态至少分为间隔距离不等的第一对面状 态和第二对面状态；该上烤盘单元包括一上基座和一装设在该上基座的上烤盘；该下烤盘单元包括一下基座；该下烤盘单元还配设有
一在第一对面状态时能分离地装设在该下基座、顶周缘对应靠接该上烤
盘的深烤盘；以及
一在第二对面状态时能分离地装设在该下基座、顶周缘对应靠接该上烤
盘的浅烤盘。
本实用新型的一较佳实施例中，该深烤盘深度大于浅烤盘深度，而且， 该深度之差等于该上烤盘在第一对面状态和第二对面状态之间的上下活动距 离。
本实用新型的一较佳实施例中，该深烤盘具有一第一底壁、 一固设在该 第一底壁之上的第一周壁和一第一装接部，该第一装接部能分离地装设在该 下基座；该浅烤盘具有一第二底壁、 一固设在该第二底壁之上的第二周壁和 一第二装接部，该第二装接部能分离地装设在该下基座。
本实用新型的一较佳实施例中，该第一装接部和该第二装接部的结构相同。
本实用新型的 一较佳实施例中，该第二周壁由该第二底壁周缘向上延伸 而成。
本实用新型的一较佳实施例中，该第 一周壁的前侧边位于该第 一底壁的 前侧边之后，而且，它们之间形成断差。
本实用新型的一4^f圭实施例中，该断差等于该上烤盘在第一对面状态和 第二对面状态之间的前后活动距离。
本实用新型的 一较佳实施例中，该第 一底壁和该第二底壁的结构相同。
本技术方案与背景技术相比由于该下烤盘单元配设有两个烤盘，它们 都能分离地装设在下基座，在第一对面状态时装设深烤盘，在第二对面状态时装设浅烤盘，因此不管是在第一对面状态还是在第二对面状态，该下烤盘 单元的烤盘都能对应靠接该上烤盘的底周缘，避免出现断差，整个煎烤器外 观美观，便于加热食物。由于该深度之差等于该上烤盘在第一对面状态和第 二对面状态之间的上下活动距离，该断差等于该上烤盘在第一对面状态和第 二对面状态之间的前后活动距离，因此不管是在第一对面状态还是在第二对 面状态，该下烤盘单元的烤盘都能对应靠接、贴合该上烤盘的底周缘。由于 该第一装接部和该第二装接部的结构相同，该第一底壁和该第二底壁的结构 相同，因此两烤盘都能分离地装设下基座。该第一周壁和该第一底壁之间形 成断差，使得两烤盘的周壁能对应靠接、贴合该上烤盘的周壁。以下结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图l绘示了背景技术的煎烤器处于第二对面状态的立体示意图。
图2绘示了背景技术的煎烤器处于第一对面状态的立体示意图。 图3绘示了一较佳实施例的煎烤器处于第二对面状态的立体示意图。 图4绘示了 一较佳实施例的煎烤器处于第 一对面状态的立体示意图。 图5绘示了一较佳实施例的煎烤器的深烤盘的立体示意图。
具体实施方式
请查阅图2、图3和图4， 一种煎烤器，它包括一上烤盘单元IO、 一下烤 盘单元20以及一连接该上烤盘单元10和该下烤盘单元20的抬杆单元30。该 上烤盘单元10包括一上基座11和一装设在该上基座11的上烤盘12;该下烤 盘单元20包括一下基座21，另配设有一深烤盘23和一浅烤盘24。
该上烤盘单元10和该下烤盘单元20之间具有展开状态或对面状态，而 且，该对面状态至少分为间隔距离不等的第一对面状态和第二对面状态。请查阅图5，该深烤盘23具有一第一底壁231、 一固设在该第一底壁231 之上的第一周壁232和一第一装接部，该第一周壁232的前侧边位于该第一 底壁231的前侧边之后，而且，它们之间形成断差233，该断差等于该上烤盘 12在第一对面状态和第二对面状态之间的前后活动距离。
该浅烤盘24具有一第二底壁、 一固设在该第二底壁之上的第二周壁和一 第二装接部，该第二周壁由该第二底壁周缘向上延伸而成。
该第一底壁和该第二底壁的结构相同，该第一装接部和该第二装接部的 结构相同，而且，该第一装接部、第二装接部都能分离地装设在该下基座21。
该深烤盘23深度大于浅烤盘24深度，而且，该深度之差等于该上烤盘 12在第一对面状态和第二对面状态之间的上下活动距离。
当在第一对面状态时，该深烤盘23能分离地装设在该下基座21，该深烤 盘23的第一周壁的顶面和该上烤盘贴合，而且，贴合后该上烤盘与深烤盘23 边沿平齐，如图3所示。
当在第二对面状态时，该浅烤盘24能分离地装设在该下基座21，该浅烤 盘24的第二周壁的顶面和该上烤盘贴合，而且，贴合后该上烤盘与浅烤盘24 边沿平齐，如图4所示。
以上所述，仅为本实用新型较佳实施例而已，故不能以此限定本实用新 型实施的范围，即依本实用新型申请专利范围及说明书内容所作的等效变化 与修饰，皆应仍属本实用新型专利涵盖的范围。
权利要求1. 一种煎烤器，它包括一上烤盘单元、一下烤盘单元以及一连接该上烤盘单元和该下烤盘单元的抬杆单元，该上烤盘单元和该下烤盘单元之间具有展开状态或对面状态，而且，该对面状态至少分为间隔距离不等的第一对面状态和第二对面状态；该上烤盘单元包括一上基座和一装设在该上基座的上烤盘；该下烤盘单元包括一下基座；其特征是该下烤盘单元还配设有一在第一对面状态时能分离地装设在该下基座、顶周缘对应靠接该上烤盘的深烤盘；以及一在第二对面状态时能分离地装设在该下基座、顶周缘对应靠接该上烤盘的浅烤盘。
2. 根据权利要求l所述的一种煎烤器，其特征是该深烤盘深度大于浅 烤盘深度，而且，该深度之差等于该上烤盘在第一对面状态和第二对面状态 之间的上下活动距离。
3. 根据权利要求1或2所述的一种煎烤器，其特征是该深烤盘具有 一第 一底壁、 一 固设在该第 一底壁之上的第 一周壁和一第 一装接部，该第一装接部能分离地装设在该下基座；该浅烤盘具有一第二底壁、 一 固设在该第二底壁之上的第二周壁和一第 二装接部，该第二装接部能分离地装设在该下基座。
4. 根据权利要求3所述的一种煎烤器，其特征是该第一装接部和该第 二装接部的结构相同。
5. 根据权利要求3所述的一种煎烤器，其特征是该第二周壁由该第二 底壁周缘向上延伸而成。
6. 根据权利要求3所述的一种煎烤器，其特征是该第一周壁的前侧边 位于该第一底壁的前侧边之后，而且，它们之间形成断差。
7. 根据权利要求6所述的一种煎烤器，其特征是该断差等于该上烤盘 在第一对面状态和第二对面状态之间的前后活动距离。
8. 根据权利要求3所述的一种煎烤器，其特征是该第一底壁和该第二 底壁的结构相同。
专利摘要本实用新型公开了一种煎烤器，它包括一上烤盘单元、一下烤盘单元以及一抬杆单元，该上烤盘单元和该下烤盘单元之间具有展开状态或对面状态，而且，该对面状态至少分为间隔距离不等的第一对面状态和第二对面状态。该上烤盘单元包括一上基座和一装设在该上基座的上烤盘；该下烤盘单元包括一下基座，另配设有一深烤盘和一浅烤盘，该深烤盘在第一对面状态时能分离地装设在该下基座，该深烤盘顶周缘对应靠接该上烤盘；该浅烤盘在第二对面状态时能分离地装设在该下基座，该浅烤盘顶周缘对应靠接该上烤盘。不管是在第一对面状态还是在第二对面状态，该下烤盘单元的烤盘都能对应靠接该上烤盘的底周缘，避免出现断差，整个煎烤器外形美观，便于加热食物。
文档编号A47J37/00GK201271160SQ20082014542
公开日2009年7月15日 申请日期2008年8月29日 优先权日2008年8月29日
发明者郭怀湘 申请人:厦门灿坤实业股份有限公司