表面处理装置的制作方法

专利名称：表面处理装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种对小零件进行表面处理的表面处理装置。所谓小零件，是指例如 0. 5 5000 μ m的粉状体、片状电容器、二极管、连接器、簧片开关、钉子、螺栓、螺母、垫片等 小型零件。
背景技术：
作为用于对小零件进行表面处理的表面处理装置，例如已知专利文献1、2所示的 装置。这些装置通过一边使收容有小零件的处理容器旋转一边在处理容器内注入表面处理 液，来对小零件进行表面处理。专利文献1 日本专利特表平11-505295号公报专利文献2 美国专利第5879520公报发明的公开发明所要解决的技术问题然而，以往的上述装置存在表面处理液的飞散或泄漏会弄脏装置的内部和外部的 问题。另外，在对小零件进行表面处理时，通常是在进行了第一表面处理后利用期望的 金属进行第二表面处理。即，进行两种表面处理。通常，两种表面处理中使用的表面处理液 分别进行回收并重复使用。因此，在用一台表面处理装置进行两种表面处理时，理想的是将 各表面处理液不相混地严密分开并加以回收。然而，以往的一台表面处理装置并不能很好 地实现这样的回收。本发明的目的在于提供一种能防止装置的内部和外部被弄脏的表面处理装置，还 在于提供一种主要效果是在一台装置中能将两种表面处理液严密分开地加以回收并重复 使用的表面处理装置。解决技术问题所采用的技术方案本发明的第一形态的表面处理装置是一种用于一边使收容有小零件的处理容器 旋转一边对小零件进行表面处理的表面处理装置，其特征在于，包括具有使液体从内向外 流出的液体流出机构、并能收容小零件的处理容器；从下方围绕处理容器的承接槽；设置 成从上方封住承接槽、在中央具有开口的盖体；将表面处理液朝处理容器内供给的表面处 理液供给机构；以及将清洗水朝处理容器内供给的清洗水供给机构，在一边使处理容器旋 转一边使表面处理液供给机构动作时，朝处理容器内供给表面处理液并利用液体流出机构 使表面处理液从处理容器流出，对小零件进行表面处理，在一边使处理容器旋转一边使清 洗水供给机构动作时，朝处理容器内供给清洗水并利用液体流出机构使清洗水从处理容器流出，对小零件 进行清洗，另外，还包括使清洗水朝盖体的内表面和/或处理容器的外表面 喷出的第一清洗机构，在一边使处理容器旋转一边使第一清洗机构动作时，对盖体的内表 面和/或处理容器的外表面进行清洗。本发明的第二形态的表面处理装置是一种用于一边使收容有小零件的处理容器 旋转一边对小零件进行表面处理的表面处理装置，其特征在于，包括具有使液体从内向外 流出的液体流出机构、并能收容小零件的处理容器；从下方围绕处理容器的承接槽；设置 成从上方封住承接槽、在中央具有开口的盖体；将表面处理液朝处理容器内供给的表面处 理液供给机构；以及将清洗水朝处理容器内供给的清洗水供给机构，在一边使处理容器旋 转一边使表面处理液供给机构动作时，朝处理容器内供给表面处理液并利用液体流出机构 使表面处理液从处理容器流出，对小零件进行表面处理，在一边使处理容器旋转一边使清 洗水供给机构动作时，朝处理容器内供给清洗水并利用液体流出机构使清洗水从处理容器 流出，对小零件进行清洗，另外，还包括使盖体相对于承接槽开闭的开闭机构，开闭机构使 盖体以水平状态从封住承接槽的位置升降至规定高度位置，再使盖体从该规定高度位置移 动以从承接槽离开。本发明的第三形态的表面处理装置是一种用于一边使收容有小零件的处理容器 旋转一边对小零件进行表面处理的表面处理装置，其特征在于，包括具有使液体从内向外 流出的液体流出机构、并能收容小零件的处理容器；从下方围绕处理容器的承接槽；设置 成从上方封住承接槽、在中央具有开口的盖体；用于收容表面处理液的箱；将收容在箱内 的表面处理液朝处理容器内供给的表面处理液供给机构；将清洗水朝处理容器内供给的 清洗水供给机构；以及使承接槽承接到的表面处理液返回收容该表面处理液的箱、并使承 接槽承接到的清洗水朝排出部流动的排放机构，在一边使处理容器旋转一边使表面处理液 供给机构动作时，朝处理容器内供给表面处理液并利用液体流出机构使表面处理液从处理 容器流出，对小零件进行表面处理，在一边使处理容器旋转一边使清洗水供给机构动作时， 朝处理容器内供给清洗水并利用液体流出机构使清洗水从处理容器流出，对小零件进行清 洗，上述排放机构具有与承接槽的排出口连通的排出部件；设置成与排出部件的前端部、 或者箱和排出部的各入口可自由上下动地连结的连结管；使连结管上下运动的升降部；以 及使排出部件的前端部移动的移动机构，使排出部件的前端部移动而配置在箱和排出部中 所选的入口之上，并使连结管上升或下降，利用连结管使排出部件与上述入口连结。本发明的第四形态的表面处理装置是一种用于一边使收容有小零件的处理容器 旋转一边对小零件进行两种表面处理的表面处理装置，其特征在于，包括具有使液体从内 向外流出的液体流出机构、并能收容小零件的处理容器；从下方围绕处理容器的承接槽； 设置成从上方封住承接槽、在中央具有开口的盖体；用于分别收容两种表面处理液的两个 箱；将收容在两个箱内的表面处理液分别朝处理容器内供给的两个的表面处理液供给机 构；将清洗水朝处理容器内供给的清洗水供给机构；使承接槽承接到的表面处理液返回收 容该表面处理液的箱、并使承接槽承接到的清洗水朝排出部流动的排放机构，在一边使处 理容器旋转一边使表面处理液供给机构动作时，朝处理容器内供给表面处理液并利用液体 流出机构使表面处理液从处理容器流出，对小零件进行表面处理，在一边使处理容器旋转 一边使清洗水供给机构动作时，朝处理容器内供给清洗水并利用液体流出机构使清洗水从 处理容器流出，对小零件进行清洗，另外，还包括使清洗水朝盖体的内表面和/或处理容器的外表面喷出的第一清洗机构，在一边使处理容器旋转一边使第一清洗机构动作时，对盖 体的内表面和/或处理容器的外表面进行清洗，另外，还包括使盖体相对于承接槽开闭的 开闭机构，开闭机构使盖体以水平状态从封住承接槽的位置升降至规定高度位置，再使盖 体从该规定高度位置移动以从承接槽离开，上述排放机构具有与承接槽的排出口连通的 排出部件；设置成与排出部件 的前端部、或者两个箱和排出部的各入口可自由上下动地连 结的连结管；使连结管上下运动的升降部；以及使排出部件的前端部移动的移动机构，使 排出部件的前端部移动而配置在两个箱和排出部中所选的入口之上，并使连结管上升或下 降，利用连结管使排出部件与上述入口连结。本发明较为理想的是适当采用如下的具体结构。(a)第一清洗机构具有喷出清洗水的第一喷出部和/或第二喷出部，第一喷出部 由在沿着盖体的开口的边缘设置的供水通路上形成的喷出口形成，将清洗水朝盖体的内表 面喷出，第二喷出部由在沿着盖体的内表面设置的供水通路上形成的喷出口形成，将清洗 水朝处理容器的外表面喷出。(b)开闭机构具有从盖体延伸的臂；设置在臂的另一端侧、可绕与臂正交的水平 轴自由旋转地得到支撑的旋转体；将臂可自由转动地支撑的水平支撑轴；对臂予以支撑以 防止将水平支撑轴作为支点的臂的盖体侧变低的支撑机构；使水平支撑轴与臂一起升降的 升降机构；上升至规定高度位置的臂的旋转体从下方与其抵接的抵接体，在使水平支撑轴 上升时，盖体以水平状态上升，直到旋转体与抵接体抵接，在旋转体与抵接体抵接后，臂绕 水平支撑轴转动，同时盖体一边倾斜一边上升。(c)具有将清洗水朝排出部件的内表面喷出的第二清洗机构。另外，本发明也可适当采用如下的具体结构。(I)还包括阳极电极，阳极电极设置成从上方插入固定在垂直转轴上的处理容器 内，处理容器还具有沿着内表面的导电环，导电环能从垂直转轴进行通电。(II)在上述(I)中，阳极电极具有阳极端子；通过螺钉可装拆地安装在阳极端子 上的、用于收容表面处理用的阳极金属的阳极壳体。(III)在上述(II)中，阳极电极安装在盖体上，在利用盖体将承接槽封住时，阳极 电极从上方插入处理容器内。(IV)表面处理液供给机构具有用于将箱内的表面处理液经由过滤器朝处理容 器内供给的供给管、用于将箱内的表面处理液经由过滤器朝该箱内供给的返回管，在动作 时，经由供给管和返回管来供给表面处理液，在非动作时，仅经由返回管来供给表面处理 液。(V)安装处理容器的装置主体内的室具有底面，该底面倾斜，以朝着形成在底面上 的排出口变低。(VI)盖体封住承接槽时与盖体的周壁的下端抵接的树脂体沿着承接槽的周壁内 表面设置。(VII)在盖体的周壁的下端内表面上设置有朝着内侧向下倾斜的凸缘。(VIII)垂直转轴被承接槽的内周壁从承接槽隔开。(IX)在上述(VIII)中，与垂直转轴的上端连结并载放处理容器的托板在下表面 上具有围绕承接槽的内周壁的上端部的周壁。
发明 效果根据本发明的第一形态 第四形态，能发挥如下效果。(1)通过一边利用垂直转轴 使收容有小零件的处理容器旋转一边使表面处理液供给机构动作，能朝处理容器内供给表 面处理液。由此，能对小零件进行表面处理。(2)由于包括盖体，因而能防止表面处理液在 处理中朝外部飞散。另外，根据本发明的第一形态和第四形态，通过使第一清洗机构动作，能对盖体的 内表面和处理容器的外表面进行清洗。即，能将飞散在盖体的内表面和处理容器的外表面 上的表面处理液冲走。因此，能更有效地分别回收上述表面处理液。另外，根据本发明的第二形态和第四形态，通过使开闭机构动作，能将盖体自动开 闭。而且，由于能使盖体从承接槽的稍上方以水平状态下降，利用盖体将承接槽封住，因而 能将盖体的周壁较深地插入承接槽内，因此，能利用盖体良好地封住承接槽。另外，根据本发明的第三形态和第四形态，能发挥如下效果。(1)通过使表面处理液供给机构动作，能使用箱内的表面处理液来进行表面处理， 通过使排放机构动作，能将使用后的表面处理液返回箱。由此，能重复使用表面处理液。(2)通过使清洗水供给机构动作，能对处理容器内进行清洗，通过使排放机构动 作，能将清洗水从排出部排出并将表面处理液收容在箱内。(3)通过使排放机构动作，能自动地将清洗水从排出部排出并将表面处理液回收 在箱内。(4)由于使连结管上升或下降来使排出部件与箱和排出部的入口连结，因而可确 保液体的流路不会中断，因此，能可靠地防止表面处理液和清洗水朝外部泄漏。另外，根据本发明的第四形态，通过使清洗水供给机构动作，能对处理容器内进行 清洗，通过使排放机构动作，能将两种表面处理液收容在原来的各个箱内。因此，在使用某 种表面处理液并将其收容在箱内后，通过清洗，可使用其它表面处理液并将其收容在箱内。 因此，能将各表面处理液不相混地严密分开并加以回收。根据上述结构(a)，能可靠地对盖体的内表面和处理容器的外表面进行清洗。根据上述结构(b)，能使盖体自动开闭。而且，能将盖体提升至不会妨碍处理容器 的装拆作业的位置。根据上述结构(C)，能对排出部件的内表面进行清洗。因此，例如在使用某种表面 处理液并将其经由排出部件回收在箱内后，利用第二清洗机构来对排出部件内表面进行清 洗，可使用其它表面处理液并将其经由排出部件回收在箱内。因此，能将各表面处理液特别 是在排出部件中不相混地严密分开并加以回收。根据上述结构(I)，通过在阳极电极与处理容器的导电环之间通电，作为表面处 理，能进行电解处理、例如电镀处理等。根据上述结构(II)，能容易地进行阳极电极的维护。根据上述结构(III)，由于能在开闭盖体的同时进行阳极电极的装拆，因而能提高 作业效率。而且，由于能省去仅支撑阳极电极的支撑机构，因而能简化装置结构。根据上述结构(IV)，不仅是在表面处理液供给机构的动作时，在表面处理液供给 机构的非动作时也能使箱内的表面处理液经由过滤器返回箱内，因而能始终净化箱内的表 面处理液。因此，能重复使用洁净的表面处理液。
根据上述结构(V)，在安装处理容器的装置主体内的室中，滴落在底面上的表面处 理液和清洗水朝着排出口逐渐流动。因此，能容易地进行底面的清扫。根据上述结 构(VI)或者(VII)，能防止表面处理液和清洗水朝承接槽的外部漏
出ο根据上述结构(VIII)，能防止表面处理液和清洗水朝垂直转轴侧漏出。根据上述结构(IX)，能防止表面处理液和清洗水从托板与内周壁之间的间隙朝垂 直转轴侧漏出，因此，能更可靠地发挥上述结构(VIII)的效果。


图1是第一实施方式的表面处理装置的主视剖视图。图2是图1的II-II截面向视图。图3是图2的III-III截面向视图。图4是图1的装置的后视透视图。图5是图3的V-V截面向视图。图6是图1的部分放大图。图7是表示处理容器的安装构造的分解立体图。图8是处于将承接槽封住的状态的盖体的俯视图。图9是图8的IX-IX截面向视图。图10是图8的X-X截面向视图。图11是图8的XI-XI截面向视图。图12是表示第一阳极电极和第一支撑机构的局部剖视图。图13是第一阳极电极的放大剖视图。图14是臂的俯视透视图。图15是图3的局部放大图，表示盖体的开闭机构。图16是图15的XVI向视图。图17是图15的XVII向视图。图18是开闭机构的支撑体的俯视图。图19是开闭机构的主要部分放大立体图。图20是图3的局部放大图，表示排放机构。图21是图20的XXI向视图。图22是图18的XXII-XXII截面向视图。图23是第一阳极电极的放大主视剖视图。图24是第一阳极电极的分解放大主视剖视图。图25是表示装置主体前部的上室的内部的上方立体示意图。图26是表示盖体被开闭机构打开后的状态的剖视图。图27是表示盖体被开闭机构关闭后的状态的剖视图。图28是表示开闭机构的动作中途的剖视图。图29是表示第一阳极电极装填工序中第一支撑机构动作之前的第一阳极电极的 状态的上方立体图。
图30是表示第一阳极电 极装填工序中接着图29的状态的上方立体图。图31是表示第一阳极电极装填工序中接着图30的状态的上方立体图。图32是表示第一阳极电极装填工序中接着图31的状态的上方立体图。图33是表示第一清洗机构的第一变形例的剖视图。图34是图33的管的俯视图。图35是表示第一清洗机构的第二变形例的剖视图。图36是图35的XXXVI向视图。图37是表示第一清洗机构的第三变形例的剖视图。图38是表示第一清洗机构的第四变形例的剖视图。图39是图38的XXXIX向视图。图40是表示第一清洗机构的第五变形例的俯视图。图41是表示开闭机构的第一变形例的立体图。图42是表示盖体被图41的开闭机构关闭后的状态的剖视图。图43是表示图41的开闭机构打开盖体的打开动作的剖视图。图44是表示接着图43的打开动作的剖视图。图45是表示盖体被图41的开闭机构打开后的状态的剖视图。图46是表示开闭机构的第二变形例的侧视图。图47是表示开闭机构的第三变形例的立体图。图48是表示开闭机构的第四变形例的立体图。图49是表示排放机构的第一变形例的剖视图。图50是表示排放机构的第二变形例的剖视图。图51是表示图50的排放机构的动作状态的剖视图。图52是表示阳极电极支撑机构的第一变形例的侧视图。图53是表示阳极电极支撑机构的第二变形例的剖视图。图54是表示阳极电极支撑机构的第三变形例的侧视图。图55是第二实施方式的表面处理装置的立体图。(符号说明)10旋转表面处理装置11处理容器112电极环(导电环)12垂直转轴143 周壁15承接槽154树脂体155内周壁16 盖体165 凸缘21 第一箱22第一表面处理液供给机构
24 第二箱

25第二表面处理液供给机构27第三箱211、241、271 入口221、251 过滤器222、252 第一供给管223、253 返回管224、254 第二供给管3排放机构33连结管41第一阳极电极411第一阳极端子412阳极壳体5第一清洗机构51狭缝(喷出口)52 喷出口53、54供水通路7开闭机构71 臂72滚筒(旋转体)73水平支撑轴74支撑体75升降机构76抵接体8第二清洗机构
具体实施例方式[第一实施方式]本实施方式涉及用一台来进行两种表面处理的、所谓的“双液型”的表面处理装 置。图ι是本实施方式的表面处理装置10的主视剖视图，图2是图1的II-II截面向视 图，图3是图2的III-III截面向视图，图4是图1的装置10的后视透视图，图5是图3的 V-V截面向视图。本实施方式是在一个装置主体100内安装所有的零件。装置主体100通 过设置在底面上的滚轮201而能在地板面上移动，并可利用设置在底面上的制动器202固 定在地板面上。如图1所示，在装置主体100前部的上室101内设置有处理容器11、承接槽15、 盖体16、第一阳极电极41及支撑第一阳极电极41的第一支撑机构43的一部分、第一退避 部45、第二阳极电极46及支撑第二阳极电极46的第二支撑机构48的一部分、第二退避部 49。如图1所示，在装置主体100前部的下室102内，在中央设置有垂直转轴12、驱动垂直转轴12的电动机13，在两侧设置有第一支撑机构43的其余部分、第二支撑机构48的其余部分。如图2和图3所示，在装置主体100后部的上室103内，在前方设置有盖体16的 开闭机构7，在后方横向排列地设置有两个过滤器221、251。如图3、图4和图5所示，在装置主体100后部的下室104内，在前方设置有排放机 构3，在后方横向排列地设置有第一箱21、第二箱24和第三箱27。如图2和图4所示，在装置主体100后部的上室103和下室104内设置有第一表 面处理液供给机构22、第二表面处理液供给机构25和清洗水供给机构(未图示)。另外，如图2所示，在装置主体100的侧室105内设置有控制部6。图6是图1的局部放大图。如图6所示，处理容器11通过将非导电性的圆板状的 底板111、电极环(导电环)112、非导电性的罩113重叠后用螺栓114 一体化而构成。处理 容器11在内部具有收容作为表面处理的对象物的小零件的空间110。罩113在中央具有开 口 115。另外，处理容器11具有使处理容器11内的液体从周围逐渐朝处理容器11外流出 的液体流出机构(未图示)。作为液体流出机构，例如可采用下面的结构(a)、(b)等。(a)在底板111与电极环112之间设置具有与内外连通的许多贯穿孔的多孔性环。(b)在底板111与电极环112之间设置有与内外连通的间隙。另外，作为上述结构(b)，例如可采用下面的结构(bl)、(b2)等。(bl)在底板111上形成与内外连通的槽。(b2)在底板111与电极环112之间以周向上隔开适当间隔的形态夹持间隔物。处理容器11通过装拆机构固定在垂直转轴12上。装拆机构具有固定在垂直转 轴12上端上的导电性的圆板状托板141、用于将处理容器11固定在托板141上的螺栓142。 艮口，处理容器11安放在托板141上后将螺栓142紧固而固定在垂直转轴12上。另外，从垂 直转轴12经由托板141和螺栓142朝处理容器11的电极环112进行通电。承接槽15设置成从下方将固定在垂直转轴12上的处理容器11覆盖，其由底壁 151和周壁152构成。底壁151倾斜，以朝着一个排出口 153变低。盖体16设置成从上方封住承接槽15，其利用开闭机构7(图3)进行开闭动作。开 闭机构7在后面进行说明。盖体16在中央具有开口 161。另外，在承接槽15的周壁152的内表面的上部设置有在周向上连续延伸的树脂体 154。树脂体154设置成在盖体16关闭时盖体16的周壁163的下端164从上方与树脂体 154抵接。在盖体16的周壁163的下端164的内表面上，设置有朝着内侧向下倾斜的凸缘 165。垂直转轴12利用承接槽15的内周壁155与承接槽15隔开。另外，托板141在下表 面上具有围绕内周壁155的上端部的周壁143。另外，如图7的分解立体图所示，处理容器11通过使形成在底板111上的两个凹 部116(图6)与形成在托板141上的两个突起144嵌合后利用两条螺栓142安装在托板 141 上。图8是处于将承接槽15封住的状态的盖体16的俯视图，图9是图8的IX-IX截 面向视图。盖体16包括第一清洗机构5。第一清洗机构5具有使清洗水喷出的第一喷出部 和第二喷出部。如图8和图9所示，第一喷出部由狭缝(喷出口)51构成，将清洗水朝盖体16的内表面162喷出，狭缝51形成 在沿着盖体16的开口 161的边缘的内表面162设置的 供水通路53与盖体16的内表面162之间。第二喷出部由多个喷出口 52构成，将清洗水朝 处理容器11的外表面119喷出，多个喷出口 52形成在沿着盖体16的内表面162沿径向延 伸设置的供水通路54上。另外，供水通路53从供水通路54延伸，供水通路54与后述的清 洗水供给机构一样，与外部的清洗水供给源(例如自来水)连结。另外，如作为图8的X-X截面向视图的图10所示，盖体16在沿着盖体16的内表 面162沿径向延伸设置的供水通路56的前端具有用于朝处理容器11内供给清洗水的喷嘴 57。供水通路56构成后述的清洗水供给机构。另外，如作为图8的XI-XI截面向视图的图11所示，盖体16在开口 161的边缘具 有液面传感器58。液面传感器58通过检测处理容器11内的液面来检测液量的剩余或不 足。图12是表示第一阳极电极41和支撑第一阳极电极41的第一支撑机构43的局部 剖视图。第一支撑机构43具有沿横向延伸的筒状的臂431、在臂431的另一端支撑臂431 以使其能上下移动并能在水平面内转动的支撑体432。支撑体432具有沿纵向延伸的筒 体433、使筒体433绕纵轴转动的转动驱动部434、使筒体433与转动驱动部434 —起上下 运动的缸驱动部435。筒体433在上端与臂432连通成一体。筒体433设置成在套筒437内上下运动，套筒437竖立设置在上室101的底面1011 上。另外，在筒体433的在套筒437内上下运动的部分具有外管436，即具有双重管构造。 转动驱动部434利用齿轮齿条机构使筒体433转动。齿条在空气压力的作用下移动。如图 13所示，在臂431的前端设置有用于朝处理容器11内供给第一表面处理液的喷嘴439。图 14是臂431的俯视透视图。如图12和图14所示，朝第一阳极电极41通电用的电线438和 朝喷嘴439供给第一表面处理液用的供给通路440穿过筒体433和臂431的内部。第二阳极电极46和支撑第二阳极电极46的第二支撑机构48也具有与第一阳极 电极41和支撑第一阳极电极41的第一支撑机构43相同的构造。即，如图1所示，第二支 撑机构48具有臂471、支撑体472。支撑体472具有在套筒477 (图23)内上下运动的筒 体473、转动驱动部474、缸驱动部475。筒体473具有外管476。在臂471的前端设置有用 于朝处理容器11内供给第二表面处理液的喷嘴。朝第二阳极电极46通电用的电线和朝喷 嘴供给第二表面处理液用的供给通路穿过筒体473和臂471的内部。图15是图3的局部放大图，表示盖体16的开闭机构7。图16是图15的XVI向视 图，图17是图15的XVII向视图。开闭机构7具有臂71、滚筒(旋转体)72、水平支撑轴 73、支撑机构74、升降机构75、抵接体76。在图15中，臂71的一端与盖体16连结，从盖体16横向延伸。滚筒72设置在臂 71的另一端的上部。滚筒72可自由旋转地得到与臂71正交的水平轴77的支撑。特别是如图17所示，升降机构75具有垂直的柱751、缸驱动部752、并排设置的 两根垂直的滑动轴753、754。缸驱动部752位于柱751的上侧。柱751位于两根滑动轴 753,754之间。升降机构75通过使缸驱动部752动作，通过后述的支撑体740使柱751沿 着两根滑动轴753、754升降。水平支撑轴73与臂71正交，在臂71的中途将臂71可自由转动地支撑，水平支撑 轴73可自由转动地支撑在柱751的下端部。支撑机构74包括支撑体740、调整螺栓7517。支撑体740位于水平支撑轴73的下方，并固定在柱751的下端。具体而言，支撑体740具 有如作为俯视图的图18所示的形态。即，支撑体740由固定柱751的下端的中央部7511、 供两根滑动轴753、754分别贯穿的侧部7512、7513构成。在中央部7511上固定有支撑水 平支撑轴73的L型凸缘731的水平部7311 (图17)。中央部7511在与盖16相反的一侧部 分 具有缺口部7510。另外，中央部7511具有用于安装调整螺栓7517的螺栓孔7518。调整 螺栓7517从支撑体740的下表面侧进行安装，能任意设定朝上表面侧突出的突出高度。两根滑动轴753、754的、以支撑体740为边界的上侧部分和下侧部分被折皱保护 罩覆盖。抵接体76设置在臂71的另一端的上方。以水平状态上升规定距离H后的臂71 的滚筒72从下方与抵接体76抵接。图19是开闭机构7的立体局部图。柱751的下端部分岔为平行的两个柱部7511。 L型凸缘731与柱部7511的下端连结。臂71穿过两个柱部7511之间。另外，在滑动轴 753,754贯穿支撑体740的部分设置有用于防止支撑体740相对滑动轴753、754晃动的导 向筒781、782。导向筒781、782固定在支撑体740上。图20是图3的局部放大图，表示排放机构3。图21是图20的XXI向视图，图22 是图20的XXII-XXII截面向视图。排放机构3具有承接容器31、排出管32、连结管33、缸 驱动部(升降部)34、转动机构(移动机构)35。承接容器31和排出管32构成排出部件。 承接容器31由底面311和周壁312构成。底面311倾斜，以朝着排出口 313变低。排出管 32与排出口 313连通，并固定在承接容器31上。排出管32由倾斜部321和铅垂部322构 成。连结管33设置成与铅垂部322的下端部连结。连结管33可上下自由滑动地套设在铅 垂部322上，并利用缸驱动部34沿着铅垂部322上下运动。缸驱动部34利用支撑板341 固定在承接容器31和排出管32上。连结管33的下端部的直径被设定成能嵌入后述的各 箱的入口。转动机构35利用电动机354 (图21)，通过齿轮358、359使与承接容器31的旋 转中心连结的垂直转轴351旋转。垂直转轴351利用两个臂355、356支撑在装置主体100 的内部壁106上。另一方面，如图21和图22所示，第一箱21、第二箱24和第三箱27横向 排列地设置。第三箱27位于正当中。另外，如图22所示，这三个箱的入口 211、271、241设 置在圆弧状的轨迹R上。该轨迹R与转动机构35使承接容器31以及排出管32和连结管 33转动时的、连结管33所走的轨迹一致。转动机构35能使承接容器31转动成使得连结 管33分别位于三个入口 211、271、241上。通过利用编码器357检测承接容器31的转动角 度，调整电动机354的动作，来对承接容器31的转动进行调整。承接容器31可通过设置在 周壁312的外周面上的导向件315相对轨道316滑动来转动。轨道316固定在下室104的 顶板1041的下表面上。在承接容器31的顶板1041上设置有第二清洗机构8。第二清洗机构8具有从顶 板1041朝下方突出的喷嘴81，其从喷嘴81朝着承接容器31的内表面喷出清洗水。在喷嘴 81上连结有供水通路82，供水通路82与后述的清洗水供给机构一样，与外部的清洗水供给 源连结。如图2和图4所示，第一表面处理液供给机构22具有从第一箱21的出口端口 212经由泵213延伸至过滤器221的第一供给管222、从过滤器221延伸至第一箱21的返 回端口 214的返回管223、从过滤器221延伸至第一支撑机构43的供给通路440的第二供 给管224。第一表面处理液供给机构22在动作时使用第一供给管222、第二供给管224和返回管223，在非动作时仅使用第一供给管222和返回管223。如图2和图4所示，第二表面处理液供给机构25具有从第二箱24的出口端口 242经由泵243延伸至过滤器251的第一供给管252、从过滤器251延伸至第二箱24的返 回端口 244的返回管253、从过 滤器251延伸至第二支撑机构48的供给通路的第二供给管 254。第二表面处理液供给机构25在动作时使用第一供给管252、第二供给管254和返回管 253，在非动作时仅使用第一供给管252和返回管253。清洗水供给机构具有与外部的清洗水供给源连结的供给管(未图示)。该供给管 分岔，与第一清洗机构5的供水通路54、延伸至盖体16的喷嘴57的供水通路56、第二清洗 机构8的供水通路82分别连结。另外，在供给管与供水通路54、56、82的各连接部设置有 电磁阀。图23是第一阳极电极41的放大主视剖视图，图24是第一阳极电极41的分解放 大主视剖视图。第一阳极电极41具有第一阳极端子411、第一阳极壳体412。第一阳极壳 体412是由例如钛制的网体构成的容器，能收容第一表面处理用的阳极金属。在第一阳极 端子411的下端形成有螺纹部413。另一方面，在第一阳极壳体412的底面中央形成有与螺 纹部413螺合的螺合部414。第一阳极壳体412通过使第一阳极端子411的螺纹部413与 螺合部414螺合，可自由装拆地安装在第一阳极端子411上。第一阳极壳体412被盖415 封住。在盖415的中央形成有供第一阳极端子411贯穿的贯穿孔416。第二阳极电极46也具有与第一阳极电极41相同的结构。图25是表示装置主体100前部的上室101的内部的上方立体示意图。上室101 具有底面1011。在底面1011的一个角落里形成有排出口 1012。底面1011倾斜，以朝着排 出口 1012变低。另外，排出口 1012通向外部的排出部。下面，按工序顺序来说明上述结构的表面处理装置10的动作。此处，作为一例，对进行第一电镀处理和第二电镀处理这两种表面处理的情况进 行说明。首先，在使装置10动作之前，预先进行下面的准备。(1)在第一箱21内加入第一 镀覆处理液，在第二箱24内加入第二镀覆处理液。(2)将处理的对象物即小零件投入处理 容器11内。(3)通过装拆机构，将收容了小零件的处理容器11固定在垂直转轴12上。然后，使装置10动作。在使装置10动作时，依次进行如下工序。[1]盖体关闭动作工序首先，开闭机构7动作，盖体16从上方将承接槽15封住。盖体16在动作前处于图26的状态、即打开的状态。在使装置10动作时，开闭机 构7动作，盖体16从上方将承接槽15封住，成为图27的状态、即关闭的状态。具体而言，如下地进行动作。在处于图26的状态的开闭机构7中，柱751与水平支 撑轴73和支撑体740 —起上升，滚筒72从下方与抵接体76抵接，臂71以滚筒72侧较低 的形态倾斜。臂71穿过支撑体740的缺口部7510倾斜。在此状态下，一旦开闭机构7动 作，柱751便与水平支撑轴73和支撑体740 —起下降，臂71绕水平支撑轴73转动而逐渐 成为水平状态。然后，如图28所示，在臂71从上方与调整螺栓7517抵接的时刻，臂71的 转动停止，相应地，盖体16成为水平状态。然后，柱751与水平支撑轴73和支撑体740 — 起下降，相应地，盖体16保持水平状态下降，如图27所示，从上方将承接槽15封住。
[2]第一清洗 工序接着，电动机13、清洗水供给机构、第一清洗机构5和第二清洗机构8动作。此时， 排放机构3的连结管33与第三箱27的入口 271连结。第三箱27用于收容被使用后的清 洗水，通向外部的排水部。在清洗水供给机构动作时，电磁阀打开，从与外部的清洗水供给源连结的供给管 将清洗水提供给供水通路56，从喷嘴57将清洗水朝旋转着的处理容器11内供给。被供给 来的清洗水一边冲洗处理容器11的内部一边通过液体流出机构从处理容器11排出。由此， 对处理容器11的内表面和小零件进行清洗。在第一清洗机构5动作时，电磁阀打开，从上述供给管将清洗水提供给供水通路 54，在处理容器11旋转的状况下，从狭缝51和喷出口 52将清洗水喷出。由此，对盖体16 的内表面162和处理容器11的外表面119进行清洗。在第二清洗机构8动作时，电磁阀打开，从上述供给管将清洗水提供给供水通路 82，从喷嘴81将清洗水喷出。由此，对承接容器31的内表面进行清洗。然后，一旦清洗进行了规定时间，清洗水供给机构、第一清洗机构5、第二清洗机构 8便停止其动作。另一方面，处理容器11旋转一小会。由此，残留在处理容器11内的清洗 水通过液体流出机构从处理容器11排出。从处理容器11排出的清洗水以及对盖体16的内表面162和处理容器11的外表 面119清洗后的清洗水被承接槽15承接，从排出口 153经由承接容器31和排出管32流入 第三箱27，进而朝外部的排出部流出。另外，清洗了承接容器31的内表面的清洗水也经由 排出管32流入第三箱27，进而朝外部的排出部流出。[3]排放机构第一动作工序接着，排放机构3动作。即，承接容器31转动，连结管33位于第一箱21的入口 211上方，利用缸驱动部34下降，从而与入口 211连结。[4]第一阳极电极装填工序接着，第一支撑机构43动作。另外，如图29所示，在第一支撑机构43动作之前， 第一阳极电极41处于退入第一退避部45的状态。在第一支撑机构43动作时，缸驱动部435使筒体433上升。由此，如图30所示， 臂431与第一阳极电极41 一起上升，第一阳极电极41从第一退避部45朝上方出来。接着， 转动驱动部434使筒体433朝图30的箭头方向旋转规定距离。由此，臂431与第一阳极电 极41 一起旋转，第一阳极电极41如图31所示位于盖体16的开口 161的上方。然后，缸驱 动部435使筒体433下降。由此，第一阳极电极41如图32所示被装填在处理容器11内。[5]第一电镀处理工序接着，在对处理容器11的电极环112通电的同时，电动机13和第一表面处理液供 给机构22动作。在第一表面处理液供给机构22动作时，第一箱21内的第一镀覆处理液经由第一 供给管222、过滤器221、第二供给管224和供给通路440，从喷嘴439流入处理容器11内。 另一方面，此时，处理容器11处于旋转状态，第一镀覆处理液逐渐地通过液体流出机构从 处理容器11排出。另一方面，在处理容器11中，电流通过第一镀覆处理液在第一阳极电极41与电极环112之间流动，利用第一镀覆处理液对因处理容器11的旋转产生的离心力而与电极环112接触的小零件进行镀覆处理。由于处理容器11 一边反复进行正转和逆转一边旋转，因 而小零件不断地与电极环112接触，因此，可对所有的小零件进行均勻的镀覆处理。然后，第一表面处理液供给机构22进行了规定时间的上述镀覆处理后，停止其动 作。另一方面，处理容器11旋转一小会。由此，残留在处理容器11内的第一镀覆处理液通 过液体流出机构全部从处理容器11排出。从处理容器11排出的第一镀覆处理液被承接槽15承接，从排出口 153朝承接容 器31落下，并经由排出管32和入口 211流入第一箱21内。即，被排出的第一镀覆处理液 返回第一箱21。另外，在第一表面处理液供给机构22的动作时和非动作时，第一箱21内的第一镀 覆处理液经由第一供给管222、过滤器221和返回管223返回第一箱21。因此，在装置10 动作时，第一箱21内的第一镀覆处理液始终被过滤器221净化。[6]第一阳极电极退避工序接着，第一支撑机构43进行与上述第一阳极电极装填工序相反的动作。即，在图 32的状态下第一支撑机构43动作时，缸驱动部435使筒体433上升。由此，如图31所示， 臂431与第一阳极电极41 一起上升，第一阳极电极41位于盖体16的开口 161的上方。接 着，转动驱动部434使筒体433朝图31的箭头方向旋转规定距离。由此，臂431与第一阳 极电极41 一起旋转，第一阳极电极41如图30所示位于第一退避部45的上方。然后，缸驱 动部435使筒体433下降。由此，第一阳极电极41如图29所示退入第一退避部45内。[7]排放机构第二动作工序接着，排放机构3动作。S卩，承接容器31转动，连结管33位于第三箱27的入口 271上方，利用缸驱动部34下降，从而与入口 271连结。[8]第二清洗工序接着，电动机13、清洗水供给机构、第一清洗机构5和第二清洗机构8动作，进行与 上述第一清洗工序相同的作业。[9]排放机构第三动作工序接着，排放机构3动作。即，承接容器31转动，连结管33位于第二箱24的入口 241上方，利用缸驱动部34下降，从而与入口 241连结。[10]第二阳极电极装填工序接着，第二支撑机构48动作。另外，在第二支撑机构48动作之前，第二阳极电极 46处于退入第二退避部49的状态。第二支撑机构48与第一支撑机构43同样地动作。即，在第二支撑机构48动作时， 缸驱动部485使筒体483上升。由此，臂481与第二阳极电极46 —起上升，第二阳极电极 46从第二退避部49朝上方出来。接着，转动驱动部484使筒体483旋转规定距离。由此， 臂481与第二阳极电极46 —起旋转，第二阳极电极46位于盖体16的开口 161的上方。然 后，缸驱动部485使筒体483下降。由此，第二阳极电极46被装填在处理容器11内。[11]第二电镀处理工序接着，在对处理容器11的电极环112通电的同时，电动机13和第二表面处理液供 给机构25动作。
在第二表 面处理液供给机构25动作时，第二箱24内的第二镀覆处理液经由第一 供给管252、过滤器251、第二供给管254和供给通路440，从喷嘴439流入处理容器11内。 另一方面，此时，处理容器11处于旋转状态，第二镀覆处理液逐渐地通过液体流出机构从 处理容器11排出。另一方面，在处理容器11中，电流通过第二镀覆处理液在第二阳极电极46与电极 环112之间流动，利用第二镀覆处理液对因处理容器11的旋转产生的离心力而与电极环 112接触的小零件进行镀覆处理。由于处理容器11 一边反复进行正转和逆转一边旋转，因 而小零件不断地与电极环112接触，因此，可对所有的小零件进行均勻的镀覆处理。然后，第二表面处理液供给机构25进行了规定时间的上述镀覆处理后，停止其动 作。另一方面，处理容器11旋转一小会。由此，残留在处理容器11内的第二镀覆处理液通 过液体流出机构全部从处理容器11排出。从处理容器11排出的第二镀覆处理液被承接槽15承接，从排出口 153朝承接容 器31落下，并经由排出管32和入口 241流入第二箱24内。即，被排出的第二镀覆处理液 返回第二箱24。另外，在第二表面处理液供给机构25的动作时和非动作时，第二箱24内的第二镀 覆处理液经由第一供给管252、过滤器251和返回管253返回第二箱24。因此，在装置10 动作时，第二箱24内的第二镀覆处理液始终被过滤器251净化。[12]第二阳极电极退避工序接着，第二支撑机构48进行与上述第二阳极电极装填工序相反的动作。即，在第 二支撑机构48动作时，缸驱动部485使筒体483上升。由此，臂481与第二阳极电极46 — 起上升，第二阳极电极46位于盖体16的开口 161的上方。接着，转动驱动部484使筒体 483旋转规定距离。由此，臂481与第二阳极电极46 —起旋转，第二阳极电极46位于第二 退避部49的上方。然后，缸驱动部485使筒体483下降。由此，使第二阳极电极46退入第 二退避部49内。[13]排放机构第四动作工序接着，排放机构3动作。即，承接容器31转动，连结管33位于第三箱27的入口 271上方，利用缸驱动部34下降，从而与入口 271连结。[14]第三清洗工序接着，电动机13、清洗水供给机构、第一清洗机构5和第二清洗机构8动作，进行与 上述第一清洗工序相同的作业。[15]盖体打开动作工序接着，开闭机构7动作，盖体16从承接槽15离开。S卩，在图27的状态下开闭机构 7动作时，柱751和臂71与水平支撑轴73和支撑体740 —起上升，滚筒72也上升。此时， 盖体16也以水平状态从承接槽15离开而上升。一旦柱751上升了距离H，如图28所示，滚 筒72便从下方与抵接体76抵接。然后，柱751进一步上升，滚筒72在与抵接体76抵接的 状态下转动，臂71以滚筒72为支点逐渐朝上方倾斜。由此，盖体16成为图26的状态、即 打开的状态。另外，臂71穿过支撑体740的缺口部7510倾斜。然后，使装置10的动作停止。之后，利用装拆机构将收容有小零件的处理容器11从垂直转轴12拆下。然后，从处理容器11取出小零件，使其干燥。由此，能在小零件上形成两层镀覆膜。下层的镀覆膜是由第一镀覆处理液形成的， 上层的镀覆膜是由第二镀覆处理液形成的。例如，在第一镀覆处理液为镍镀覆液的情况下， 下层的镀覆膜是镍膜，在第二镀覆处理液为 锡镀覆液的情况下，上层的镀覆膜是锡膜。根据上述结构的装置10，能发挥如下的作用效果。 (1)在第一电镀处理工序中，能对小零件进行第一电镀处理，在第二电镀处理工序 中，能对进行了第一电镀处理的小零件进行第二电镀处理。因此，能在小零件上形成由两层 形成的镀覆膜。(2)在第二清洗工序中，通过清洗水供给机构的动作，能对处理容器11的内表面 和小零件进行清洗，通过第一清洗机构5的动作，能对盖体16的内表面162和处理容器11 的外表面119进行清洗，另外，通过第二清洗机构8的动作，能对承接容器31的内表面进行 清洗。因此，将第一镀覆处理液回收至第一箱21后，能将第一镀覆处理液从处理容器11的 内部、盖体16的内表面162、处理容器11的外表面119和承接容器31的内表面干净地冲走 并排出。因此，在第二镀覆处理工序中，能将第二镀覆处理液与第一镀覆处理液不相混地严 密分开，将第二镀覆处理液回收至第二箱24。另外，在第二清洗工序中，第一清洗机构5也对盖体16的内表面162和处理容器 11的外表面119进行清洗，因而能将飞散的第一镀覆处理液干净地冲走。处理容器11 一边 旋转一边被清洗，因此，因该旋转而飞起的清洗水撞击盖体16的内表面162和承接槽15的 内表面，因而能将飞散的第一镀覆处理液干净地冲走。因此，能有效地分别回收第一镀覆处 理液和第二镀覆处理液。此外，第二清洗机构8也对承接容器31的内表面进行清洗，因而 能将附着在承接容器31的内表面上的第一镀覆处理液干净地冲走，因此，能更有效地分别 回收第一镀覆处理液和第二镀覆处理液。(3)在第一电镀处理工序中，通过第一表面处理液供给机构22的动作，使用第一 箱21内的第一镀覆处理液进行处理，并且，通过排放机构第一动作工序，使连结管33与第 一箱21的入口 211连结，因此，能使被使用后的第一镀覆处理液返回第一箱21。由此，能重 复使用第一镀覆处理液。另外，在第二电镀处理工序中，通过第二表面处理液供给机构25 的动作，使用第二箱24内的第二镀覆处理液进行处理，并且，通过排放机构第三动作工序， 使连结管33与第二箱24的入口 241连结，因此，能使被使用后的第二镀覆处理液返回第二 箱24。由此，能重复使用第二镀覆处理液。(4)由于包括盖体16，因此能防止第一电镀处理工序中第一镀覆处理液的飞散， 能防止第二电镀处理工序中第二镀覆处理液的飞散，并能防止第一 第三清洗工序中清洗 水的飞散。(5)盖体16在将承接槽15封住的状态下，其周壁163的下端164与树脂体154抵 接。因此，能防止表面处理液和清洗水朝承接槽15外漏出。(6)盖体16在周壁163的下端164的内表面上具有凸缘165。因此，能防止表面 处理液和清洗水沾在盖体16的周壁163与承接槽15的周壁152间的重叠部分上。因此， 能防止表面处理液和清洗水朝承接槽15外漏出。(7)由于同时具有树脂体154和凸缘165，因此凸缘165能防止沿盖体16的内表 面162落下的清洗水附着在树脂体154与盖体16的下端164抵接的部分上。因此，能更可靠地防止清洗水和表面处理液 朝盖体16和承接槽15外流出。(8)由于垂直转轴12被承接槽15的内周壁155从承接槽15隔开，因而能防止表 面处理液和清洗水朝垂直转轴12侧漏出。而且，由于与垂直转轴12的上端连结的托板141 在下表面上具有围绕内周壁155的上端部的周壁143，因而能防止表面处理液和清洗水从 托板141与内周壁155之间的间隙156(图6)朝垂直转轴12侧漏出，因此，能可靠地防止 表面处理液和清洗水朝垂直转轴12侧的漏出。(9)由于能在第一阳极电极41与处理容器11的电极环112之间通电，因而能进行 第一电镀处理。由于能在第二阳极电极46与处理容器11的电极环112之间通电，因而能 进行第二电镀处理。因此，能进行两种电镀处理。(10)在盖体关闭动作工序中，通过开闭机构7的动作，能将盖体16自动关闭。在 盖体打开动作工序中，通过开闭机构7的动作，能将盖体16自动打开。而且，在盖体打开动 作工序中，能将盖体16打开至朝上方倾斜的较高的位置，因而能使盖体16位于不会妨碍处 理容器11朝垂直转轴12进行装拆作业的位置。(11)在盖体关闭动作工序中，盖体16从承接槽15的稍上方以水平状态下降，将承 接槽15封住。由此，能将盖体16的周壁163较深地插入承接槽15内。因此，能利用盖体 16更可靠地封住承接槽15，能防止处理液和清洗水朝外部飞散。(12)在盖体关闭动作工序和盖体打开动作工序中，盖体16在承接槽15的稍上方 成为水平状态，因而能防止盖体16 —边升降一边倾斜时液面传感器58碰撞到处理容器11 的开口 115的边缘。(13)在第一电镀处理工序中，在第一表面处理液供给机构22的动作时和非动作 时，能使第一箱21内的第一镀覆处理液经由过滤器221返回第一箱21内。因此，能净化第 一箱21内的第一镀覆处理液。在第二电镀处理工序中，在第二表面处理液供给机构25的 动作时和非动作时，能使第二箱24内的第二镀覆处理液经由过滤器251返回第二箱24内。 因此，能净化第二箱24内的第二镀覆处理液。因此，能重复使用清净的表面处理液。(14)在第一阳极电极装填工序中，通过第一支撑机构43的动作，能将第一阳极电 极41朝处理容器11内自动装填。在第一阳极电极退避工序中，通过第一支撑机构43的动 作，能使第一阳极电极41朝第一退避部45内自动退避。即，在不使用第一阳极电极41时， 能预先使第一阳极电极41退入第一退避部45，因而能防止第一阳极电极41妨碍处理容器 11的装拆作业等，并能防止附着在第一阳极电极41上的第一镀覆处理液弄脏处理容器11 的周边。(15)在第二阳极电极装填工序中，通过第二支撑机构48的动作，能将第二阳极电 极46朝处理容器11内自动装填。在第二阳极电极退避工序中，通过第二支撑机构48的动 作，能使第二阳极电极46朝第二退避部49内自动退避。即，在不使用第二阳极电极46时， 能预先使第二阳极电极46退入第二退避部49，因而能防止第二阳极电极46妨碍处理容器 11的装拆作业等，并能防止附着在第二阳极电极46上的第二镀覆处理液弄脏处理容器11 的周边。(16)第一阳极电极41通过在第一阳极端子411上可自由装拆地安装第一阳极壳 体412而构成，因此，通过拆下第一阳极壳体412，能容易地进行第一阳极电极41的维护。 第二阳极电极46也一样。
(17)在装置主体100的上室101中，能使滴落在底面1011上的镀覆处理液和清洗 水朝着排出口 1012流动。因此，能容易地进行底面1011的清扫。另外，较为理想的是在第一电镀处理工序和第二电镀处理工序中进行所谓的“脱 泡运行”。一般而言，在表面处理液含有表面活化剂时，有时表面处理中会产生气泡，影响表 面处理。因此，在确认有气 泡产生时，通过“脱泡运行”，即一边继续表面处理液的供给一边 停止朝处理容器11的通电并使处理容器11的旋转变慢，使表面处理液与气泡一起从处理 容器11流出。由此，能在不受气泡妨碍的情况下良好地进行表面处理。另外，在本实施方式的表面处理装置中，也可采用如下的变形结构。[第一清洗机构5的变形结构](A)是第一变形例。如图33和图34所示，第一清洗机构5使用一根管59构成。 图34是图33的管59的俯视图。在两图中，清洗水供给机构未图示。即，管59由相当于图 8的供水通路53的圆形部591、相当于图8的供水通路54的直线部592构成。另外，在圆 形部591中，在纵截面上部附近形成有许多喷出口 5911 (相当于狭缝51)，在直线部592中， 在纵截面最下部形成有一个以上的喷出口 5921 (相当于喷出口 52)。在该结构中，从与外部的清洗水供给源连结的供给管提供给管59的清洗水从喷 出口 51朝盖体16的内表面162喷出，并从喷出口 52朝处理容器11的外表面119喷出。利用该结构也能发挥与图8 图10所示的第一清洗机构5相同的作用效果。而 且，能简化第一清洗机构5的结构。(B)是第二变形例。如图35和图36所示，第一清洗机构5还具有第三喷出部。图 36是图35的XXXVI向视图。第三喷出部由喷出口 611构成，该喷出口 611形成在沿着盖体 16的外周缘设置的供水通路61上。在该结构中，从与外部的清洗水供给源连结的供给管提供给供水通路61的清洗 水从喷出口 611朝盖体16的周壁163的内表面喷出。利用该结构也能发挥与图8 图10所示的第一清洗机构5相同的作用效果。而 且，能可靠地清洗盖体16的周壁163的内表面。(C)是第三变形例。如图37所示，第一清洗机构5具有多个供水通路54。各供水 通路54从供水通路53沿径向延伸。在各供水通路54上形成有多个喷出口 52。在该结构中，从与外部的清洗水供给源连结的供给管供给来的清洗水朝各供水通 路54流动，并从各供水通路54的喷出口 52朝处理容器11的外表面119喷出。利用该结构也能发挥与图8 图10所示的第一清洗机构5相同的作用效果。而 且，能有效清洗处理容器11的外表面119。(D)是第四变形例。如图38和图39所示，第一清洗机构5具有供水通路54，该供 水通路54设置成从盖体16的径向外侧围绕供水通路53。图39是图38的XXXIX向视图。在该结构中，从与外部的清洗水供给源连结的供给管供给来的清洗水，从沿周向 延伸的供水通路54的喷出口 52朝处理容器11的外表面119喷出。利用该结构也能发挥与图8 图10所示的第一清洗机构5相同的作用效果。而 且，能在整个圆周上可靠地清洗处理容器11的外表面119。(E)是第五变形例。这个例子是将清洗水供给机构与第一清洗机构形成为一体。 如图40所示，第一清洗机构5的供水通路53、54与清洗水供给机构的喷嘴57连结。
在该结构中，从与外 部的清洗水供给源连结的供给管供给来的清洗水从狭缝51 朝盖体16的内表面162喷出，并从喷出口 52朝处理容器11的外表面119喷出，此外，还从 喷嘴57注入处理容器11内。利用该结构也能发挥与图8 图10所示的第一清洗机构5相同的作用效果。而 且，由于能省去清洗水供给机构，因而能简化装置结构。另外，在上述例中，作为清洗水仅仅供给水，但也可将高压空气与水混合后喷出。 这样，在空气压力的作用下，水和空气能强有力地喷出，因而，清洗效果更好。[开闭机构7的变形结构](A)是第一变形例。图41是开闭机构7的立体图，图42 图45是按顺序表示其 动作的侧剖视图。该开闭机构7也具有臂71、滚筒(旋转体)72、水平支撑轴73、支撑机构、 升降机构75、抵接体。在图42中，臂71由从盖体16沿横向延伸的前臂部711、与前臂部711正交地朝 上方延伸的后臂部712构成。滚筒72设置在后臂部712的上端。滚筒72与后臂部712正 交，并能绕水平的轴线自由旋转地得到支撑。升降机构75具有垂直的柱751、缸驱动部752、并排设置的两根垂直的滑动轴 753、754。缸驱动部752位于柱751的下侧。柱751位于两根滑动轴753、754之间。升降 机构75通过使缸驱动部752动作，通过水平支撑轴73使柱751沿着两根滑动轴753、754升降。水平支撑轴73与臂71正交，在前臂部711与后臂部712的交叉部将臂71可自由 转动地支撑，水平支撑轴73可自由转动地支撑在柱751的上端部。另外，水平支撑轴73延 伸至两侧的滑动轴753、754，相对于滑动轴753、754可滑动地连结。在柱751的两侧设置有具有垂直壁781和水平壁782的框体78。即，设置有两个 框体78。另一方面，滚筒72从后臂部712的上端延伸至两侧的框体78。垂直壁781被设 置成在滚筒72从后方与其抵接时使前臂部711成为水平状态。水平壁782从垂直壁781 朝后方延伸。水平壁782被设置于前臂部711以水平状态上升规定距离H(图42)时，滚筒 72从下方与水平壁782抵接的高度位置。垂直壁781构成该开闭机构7的支撑机构，水平 壁782构成该开闭机构7的抵接体。上述结构的开闭机构7如下地进行打开动作。在盖体16关闭的状态、即图42的状态下开闭机构7动作时，如图43所示，柱751 和臂71与水平支撑轴73 —起上升，滚筒72也上升。此时，盖体16也以水平状态从承接槽 15离开而上升。一旦柱751上升了距离H，滚筒72便从下方与水平壁782抵接。然后，如 图44所示，柱751进一步上升，滚筒72 —边旋转一边沿着水平壁782朝后方移动，前臂部 711以水平支撑轴73为支点逐渐朝上方倾斜。由此，盖体16成为图45的状态、即打开的状 态，与设置在后方的支撑部件79抵接，从而防止其倒向后方。利用上述结构的开闭机构7也能发挥与图15所示的开闭机构7相同的作用效果。(B)是第二变形例。图46是开闭机构7的侧视图。该开闭机构7具有臂71、升 降机构75。升降机构75具有上下架设的链755、链驱动机构756、上下延伸的滑动轴757。链 755架设在上部链轮7551与下部链轮7552之间。
臂71从盖体16沿横向延伸，在另一端部通过轴承713设置成可沿着滑动轴757 滑动。另外，轴承713与链755连结。在该开闭机构7中，在链驱动机构756动 作时，链755上下运动，相应地，臂71沿 着滑动轴757上下运动，其结果是，盖体16以水平状态上下运动。由此，进行盖体16的开 闭。利用上述结构的开闭机构7也能发挥与图15所示的开闭机构7相同的作用效果。 而且，能极大程度地简化开闭机构7的结构。(C)是第三变形例。图47是开闭机构7的立体图。该开闭机构7具有臂71、升 降机构75、横向移动机构91。横向移动机构91具有横向移动体911、轨道912。轨道912沿着与臂71正交的 方向延伸。横向移动体911设置成在驱动源(未图示)的作用下沿着轨道912移动。升降机构75在横向移动体911上具有上下延伸的柱751、使柱751上下运动的缸 驱动机构752、上下延伸的滑动轴757。柱751的上端与臂71的中途连结。臂71从盖体16沿横向延伸，在另一端部通过轴承713设置成可沿着滑动轴757 滑动。该开闭机构7的打开动作如下进行。即，在缸驱动机构752动作时，臂71沿着滑 动轴757上升规定距离(例如上述H)，其结果是，盖体16以水平状态上升上述规定距离。 之后，横向移动机构91动作，横向移动体91沿着轨道912移动。由此，臂71与盖体16 — 起移动，盖体16从处理容器11的上方朝横向移动。即，盖体16成为打开状态。另外，关闭 动作与上述动作相反。利用上述结构的开闭机构7也能发挥与图15所示的开闭机构7相同的作用效果。 而且，由于能将盖体16从处理容器11完全拉开，因而能实现可靠的打开状态。(D)是第四变形例。图48是开闭机构7的立体图。该开闭机构7具有臂71、升 降机构75、转动机构92。升降机构75具有上下延伸的柱751、使柱751上下运动的缸驱动机构752、上下 延伸的滑动轴757、升降板758。柱751的上端固定在升降板758的下表面上。升降板758 设置成沿着滑动轴757上下运动。臂71从盖体16沿横向延伸，在另一端部通过轴承713设置成可沿着滑动轴757 滑动。在轴承713的周面上形成有齿轮7131。臂71和轴承713载放在升降板758上，可相 对于升降板758滑动。转动机构92具有固定在升降板758上的电动机921、在电动机921的驱动下旋 转的齿轮922。齿轮922与轴承713的齿轮7131连结。该开闭机构7的打开动作如下进行。即，在缸驱动机构752动作时，升降板758沿 着滑动轴757上升规定距离(例如上述H)，其结果是，载放在升降板758上的臂71上升上 述规定距离，盖体16以水平状态上升上述规定距离。之后，转动机构92动作，轴承713转 动，臂71转动，由此，盖体16从处理容器11的上方沿横向一边走圆弧状轨迹一边移动。即， 盖体16成为打开状态。另外，关闭动作与上述动作相反。利用上述结构的开闭机构7也能发挥与图15所示的开闭机构7相同的作用效果。 而且，由于能将盖体16从处理容器11完全拉开，因而能实现可靠的打开状态。
[排放机构3的变形结构](A)是第一变形例 。如图49所示，使用柔性软管37来取代图20的由承接容器31 和排出管32构成的排出部件。即，柔性软管37的上端与承接槽15的排出口 153连结，在柔 性软管37的下端连结有连结管33。连结管33通过叉381被转台382的中心轴383支撑， 随着转台382的转动与图20时同样地转动。转台382被杆384支撑，在缸驱动部385的作 用下升降。在该结构中，连结管33转动至任意的箱的入口之上，通过缸驱动部385的动作下 降，与该入口连结。利用该结构也能发挥与图20所示的排放机构3相同的作用效果。而且，能简化排 放机构3的结构，此外，与图20时相比，能降低转动和升降所需的功率。(B)是第二变形例。如图50所示，连结管33设置在箱的入口上，而不是设置在排 出管32上。在图50中，连结管33设置成可相对于第一箱21的入口 211上下自由滑动，通 过缸驱动部34的作用相对于入口 211上下运动。连结管33也分别同样地设置在第二箱24 的入口 241和第三箱27的入口 271上。在该结构中，承接容器31转动，如图51所示，排出管32的铅垂部322位于例如第 一箱21的入口 211上，在缸驱动部34的作用下，连结管33上升，入口 211通过连结管33 与排出管32连结。利用该结构也能发挥与图20所示的排放机构3相同的作用效果。[阳极电极支撑机构的变形结构](A)是第一变形例。图52是表示第一阳极电极41及其支撑机构43、第二阳极电 极46及其支撑机构48的侧视图。第一阳极电极41的第一支撑机构43具有沿横向延伸 的臂441、上下延伸的支撑体442、抵接体443。臂441在一端上支撑有第一阳极电极41，在另一端的上部具有滚筒444。支撑体442具有缸驱动机构445、从缸驱动机构445朝下方延伸的柱446、固定在 柱446的下端部上的块体447。臂441在接近滚筒443的位置能绕水平支撑轴448转动地 支撑在块体447的下端。但是，臂441的转动受到抑制，以使第一阳极电极41不会从臂441 的水平位置下降。抵接体443设置于臂441与第一阳极电极41 一起以水平状态上升了规定距离H 时，滚筒444从下方与抵接体443抵接的位置。另外，在第一支撑机构43上设置有第一表面处理液供给机构22的喷嘴439。喷嘴 439在第一阳极电极41的附近被臂441支撑。延伸至喷嘴439的供给通路440固定在块体 447和缸驱动机构445上。块体447与缸驱动机构445之间的供给通路440的部分4401具 有褶皱构造，因此伸缩自如。第二阳极电极46的第二支撑机构48也具有与第一支撑机构43相同的构造。艮口， 第二阳极电极46具有臂481、支撑体482、抵接体483。臂481具有滚筒484。支撑体482 具有缸驱动机构485、柱486、块体487。臂481能绕水平支撑轴488转动。第二表面处理 液供给机构24的喷嘴489被臂481支撑。延伸至喷嘴489的供给通路460在块体487与 缸驱动机构485之间的部分4601具有褶皱构造，因此伸缩自如。根据上述结构的阳极电极支撑机构，由于只需使柱上下运动就能装拆阳极电极，因而能提高作业效率。(B)是第二变形例。图53是仅使用一个阳极电极时的支撑机构的纵剖视图。此处，仅使用一个阳极电极时是指只进行一种表面处理的情况或者使用不溶性阳极的情况。在该支撑机构中，由阳极端子931和阳极壳体932构成的阳极电极93设置在盖体 16的中央部。将阳极壳体932封住的盖部933也将盖体16的开口 161封住。另外，在阳极壳体932内设置有用于供给表面处理液的喷嘴94、用于供给清洗水 的喷嘴95。利用来自喷嘴95的清洗水对阳极壳体932内进行清洗。阳极端子931和喷嘴 94,95贯穿盖部933而固定在盖部933上。另外，在第一清洗机构5的供水通路53上设置有朝径向内侧开口的狭缝59。根据上述结构，由于能在开闭盖体16的同时进行阳极电极93的装拆，因而能进一 步提高作业效率。而且，由于能省去仅用于支撑阳极电极的支撑机构，因而能简化装置的结 构。此外，由于盖体16的开口 161被盖部933封住，因而能防止表面处理液经由开口 161 飞散。(C)是第三变形例。图54是仅使用一个阳极电极时的支撑机构的纵剖视图。此 处，仅使用一个阳极电极时是指使用不溶性阳极的情况。由于使用不溶性阳极时不必供给 金属离子，因而不需要用于保持作为金属离子的供给源的金属的阳极壳体。因此，与图53时相比，该支撑机构省去了阳极壳体和喷嘴95。利用上述结构也能发挥与图53时相同的效果。另外，本发明的表面处理装置不仅能用于进行上述第一电镀处理和第二电镀处理 这两种电镀处理，还能用于进行下面所示的表面处理。作为表面处理，除了电镀处理以外，还有前处理、后处理、无电解镀覆处理、电沉积 涂敷处理、复合镀覆处理等。以下对各处理进行简单的说明。[I]前处理脱脂处理…表面处理液是碱性脱脂剂。不需要通电。该处理除去小零件表面的油 分。电解脱脂处理…表面处理液是碱性溶液。需要通电。在该处理中，“阴极电解法” 将小零件作为阴极，利用从阴极产生的氢气来除去小零件表面的污渍，“阳极电解法”将小 零件作为阳极，利用从阳极产生的氧气来除去小零件表面的污渍，"I3R电解法”通过使电流 的方向周期性颠倒来发挥“阴极电解法”和“阳极电解法”的长处，除去小零件表面的污渍。滚光处理…表面处理液是水，但也可不使用。不需要通电。该处理通过在处理容 器内加入用于防止损伤的介质、抛光剂和小零件并使它们混合，来抛光小零件表面。使用水 时为湿式抛光，不使用水时为干式抛光。碱浸渍清洗处理…表面处理液是碱性溶液。不需要通电。该处理除去小零件表面 的污渍。酸洗处理…表面处理液是酸液。不需要通电。该处理除去小零件表面的锈迹和异 物等，或者通过使小零件表面腐蚀来提高小零件表面与镀覆膜的紧贴性。酸电解处理…表面处理液是酸液。需要通电。该处理除去小零件表面的严重锈迹。 有将小零件作为阴极的方法和将小零件作为阳极的方法。化学抛光处理…表面处理液是化学抛光液。不需要通电。该处理通过表面处理液的作用使小零件表面的凸部溶 解得比凹部多，从而平滑小零件表面。电解抛光处理…表面处理液是电解抛光液。需要通电。该处理将小零件作为阳极， 使小零件表面的凸部过量溶解，从而平滑小零件表面。中和处理…表面处理液是中和液。不需要通电。该处理中和小零件表面。[II]后处理脱水防变色处理…表面处理液是水溶性硅或表面活化剂等占数％的水溶液。不需 要通电。该处理通过促进小零件的干燥来防止小零件表面产生污垢和变色。水溶性树脂处理…表面处理液是使水溶性树脂溶解的水溶液。不需要通电。该处 理通过使小零件浸渍在表面处理液中后干燥，在小零件表面上形成有机防锈膜。铬酸盐处理…表面处理液是含有铬酸和无机酸的液体。不需要通电。该处理通过 使小零件浸渍在表面处理液中，在小零件表面上形成铬酸盐膜。该处理主要在锌镀覆处理 后进行，通过在锌镀覆膜的表面上形成铬酸盐膜，提高锌镀覆膜的耐腐蚀性，并使外观更美 观。[III]无电解镀覆处理浸镀处理…表面处理液是含有铜、镍、锡、金等离子的溶液。不需要通电。该处理 通过使作为贱金属的小零件浸渍在含有贵金属离子的溶液中，使小零件表面溶解所释放出 的电子朝贵金属离子转移，在小零件表面上形成贵金属的膜。化学镀覆处理…表面处理液是含有铜、镍、锡、金等离子和还原剂等的溶液。不需 要通电。该处理通过使还原剂氧化所释放出的电子朝金属离子转移，在小零件表面上形成 金属的膜。[IV]电沉积涂敷处理阴离子电沉积涂敷处理…表面处理液是含有分散在水中的离子性树脂粒子的电 沉积涂料。需要通电。该处理通过将小零件浸渍在电沉积涂料中，将小零件作为阳极并对 两者施加电压，使树脂粒子靠近小零件，在小零件表面上形成树脂膜。阳离子电沉积涂敷处理…除了将小零件作为阴极这点以外，与阴离子电沉积涂敷 处理相同。[V]复合镀覆处理复合镀覆处理…表面处理液是含有金属离子和非金属物质的复合镀覆液。需要通 电。该处理通过使小零件浸渍在表面处理液中并通电，在小零件表面上形成由金属与非金 属物质混合而成的膜。化学复合镀覆处理…除了不通电这点以外，与复合镀覆处理相同。另外，本发明的旋转表面处理装置在进行需要通电的两种表面处理时通常按上述 工序进行动作，但在进行不需要通电的两种表面处理时不需要上述工序中的[4]、[6]、[10] 和[12]的工序。另外，在只进行需要通电的一种表面处理时，不需要上述工序中的[9] [14]的工序。另外，在只进行不需要通电的一种表面处理时，不需要上述工序中的[9] [14]的工序以及[4]和[6]的工序。[第二实施方式]图55是第二实施方式的表面处理装置的立体图。本实施方式涉及用一台来进行 一种表面处理的、所谓的“单液型”的表面处理装置。在本实施方式的表面处理装置中，在第一实施方式的表面处理装置中为了使用两种表面处理液而各设置两个的构成要素各设 置一个。本实施方式的其它结构与第一实施方式相同。在图55中，与图1 图54中的符 号相同的符号表示相同或相当的构成要素。该装置的开 闭机构7是图41所示的开闭机构，排放机构3是图49所示的排放机构。该装置的阳极电极96的支撑机构97具有臂971、升降机构972、横向移动机构
973。阳极电极96被臂971的一端支撑。升降机构972具有柱(未图示)、缸驱动机构
974、滑动轴975。臂971与柱的上端连结，在缸驱动机构974的作用下沿着滑动轴975升 降。横向移动机构973使滑动轴975沿着导向轴976横向移动。在该支撑机构97中，在图55的状态下，横向移动机构973动作，滑动轴975在保 持着臂971的状态下横向移动，使阳极电极96位于处理容器(未图示)上。然后，升降机 构972动作，臂971下降。由此，将阳极电极96安装在处理容器内。另外，通过与上述动作 相反的动作，将阳极电极96从处理容器取出。本实施方式的表面处理装置也基于与第一实施方式的表面处理装置相同的构成 要素，与第一实施方式的表面处理装置同样地动作。因此，利用本实施方式的表面处理装置 也能发挥与第一实施方式的表面处理装置相同的作用效果。工业上的可利用性本发明的表面处理装置能防止装置的内部和外部被弄脏，因而具有很大的工业利 用价值。
权利要求
1.一种表面处理装置，用于一边使收容有小零件的处理容器旋转一边对小零件进行表 面处理，其特征在于，包括处理容器，该处理容器具有使液体从内向外流出的液体流出机构，并能收容小零件； 承接槽，该承接槽从下方围绕处理容器； 盖体，该盖体设置成从上方封住承接槽，并在中央具有开口 ； 表面处理液供给机构，该表面处理液供给机构将表面处理液朝处理容器内供给；以及 清洗水供给机构，该清洗水供给机构将清洗水朝处理容器内供给， 在一边使处理容器旋转一边使表面处理液供给机构动作时，朝处理容器内供给表面处 理液并利用液体流出机构使表面处理液从处理容器流出，以对小零件进行表面处理，在一边使处理容器旋转一边使清洗水供给机构动作时，朝处理容器内供给清洗水并利 用液体流出机构使清洗水从处理容器流出，以对小零件进行清洗， 另外，还包括开闭机构，该开闭机构使盖体相对于承接槽开闭， 开闭机构使盖体以水平状态从封住承接槽的位置升降至规定高度位置，再使盖体从该 规定高度位置移动以从承接槽离开。
2.如权利要求1所述的表面处理装置，其特征在于，包括 两个箱，该两个箱用于分别收容两种表面处理液；以及排放机构，该排放机构使承接槽承接到的表面处理液返回收容该表面处理液的箱，并 使承接槽承接到的清洗水朝排出部流动，所述表面处理液供给机构设有两个，该两个表面处理液供给机构将收容在两个箱内的 表面处理液分别朝处理容器内供给；另外，还包括第一清洗机构，该第一清洗机构使清洗水朝盖体的内表面和/或处理容 器的外表面喷出，在一边使处理容器旋转一边使第一清洗机构动作时，对盖体的内表面和/或处理容器 的外表面进行清洗， 所述排放机构具有排出部件，该排出部件与承接槽的排出口连通；连结管，该连结管设置成与排出部件的前端部、或者两个箱和排出部的各入口可自由 上下运动地连结；升降部，该升降部使连结管上下运动；以及 移动机构，该移动机构使排出部件的前端部移动，使排出部件的前端部移动而配置在两个箱和排出部中所选的入口之上，并使连结管上 升或下降，利用连结管使排出部件与所述入口连结。
3.如权利要求1或2所述的表面处理装置，其特征在于， 开闭机构具有臂，该臂从盖体延伸；旋转体，该旋转体设置在臂的另一端侧，可绕与臂正交的水平轴自由旋转地得到支撑；水平支撑轴，该水平支撑轴将臂可自由转动地支撑；支撑机构，该支撑机构对臂予以支撑，以防止将水平支撑轴作为支点的臂的盖体侧变低；升降机构，该升降 机构使水平支撑轴与臂一起升降；以及 抵接体，上升至规定高度位置的臂的旋转体从下方与该抵接体抵接， 在使水平支撑轴上升时，盖体以水平状态上升，直到旋转体与抵接体抵接，在旋转体与 抵接体抵接后，臂绕水平支撑轴转动，同时盖体一边倾斜一边上升。
全文摘要
一种表面处理装置，其特征在于，在一个装置主体(100)内包括处理容器(11)、垂直转轴(12)、装拆机构、承接槽(15)、盖体(16)、多个箱(21)等、多个表面处理液供给机构(22)等、清洗水供给机构、排放机构(3)、第一清洗机构，在一边利用垂直转轴(12)使收容有小零件的处理容器(11)旋转一边使表面处理液供给机构动作时，对小零件进行表面处理，在使清洗水供给机构动作时，对处理容器(11)内的小零件进行清洗，在使第一清洗机构动作时，对盖体的内表面和/或处理容器的外表面进行清洗，循环使用箱内的表面处理液。
文档编号B08B3/02GK102059192SQ20111004037
公开日2011年5月18日 申请日期2006年12月27日 优先权日2006年12月27日
发明者中田英树, 杉浦裕, 植村哲朗, 滨田良介 申请人:上村工业株式会社