专利名称：有封闭水圈的台盆的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及卫浴，特别是一种台盆，这种台盆是安装在台面以下的台盆。
背景技术：
所述的台面是指脸盆上面的一个平面，所述的台盆是指安装在台面以下的台盆， 在现有技术中，台盆安装在台面以下，台面和台盆一般是接触结合的，具有从中间漏水的缺点；有的在台面和台盆之间涂有乳胶，具有粘接不严、不经久耐用、也会漏水的缺点，影响其正常使用。
发明内容本实用新型的目的就是针对上述缺点，提供一种安装简单、不会漏水、经久耐用的台盆——有封闭水圈的台盆。本实用新型的技术方案是这样实现的有封闭水圈的台盆，包括台盆本体，台盆本体上面具有台盆上沿，所述的台盆上沿是台盆本体上面的凸起，台盆上沿位于一个平面上， 其特征是所述的台盆上沿中间具有一圈凹槽。本实用新型的有益效果是这样的台盆具有安装简单、经久耐用、不会漏水的优
点ο
图1为本实用新型有封闭水圈的台盆的结构示意图。其中1、台盆本体2、台盆上沿3、凹槽
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型作进一步说明。如图1所示，有封闭水圈的台盆，包括台盆本体1，台盆本体1上面具有台盆上沿 2，所述的台盆上沿2是台盆本体1上面的凸起，台盆上沿2位于一个平面上，其特征是所述的台盆上沿2中间具有一圈凹槽3。安装时可用一圈橡胶条放置的凹槽处，是台盆和台面结合紧密，不会漏水，相比粘接经久耐用。
权利要求1.有封闭水圈的台盆，包括台盆本体，台盆本体上面具有台盆上沿，所述的台盆上沿是台盆本体上面的凸起，台盆上沿位于一个平面上，其特征是所述的台盆上沿中间具有一圈凹槽。
专利摘要本实用新型涉及卫浴，特别是一种台盆，这种台盆是安装在台面以下的台盆，有封闭水圈的台盆，包括台盆本体，台盆本体上面具有台盆上沿，所述的台盆上沿是台盆本体上面的凸起，台盆上沿位于一个平面上，其特征是所述的台盆上沿中间具有一圈凹槽。这样的台盆具有安装简单、经久耐用、不会漏水的优点。
文档编号A47K1/04GK202191217SQ20112024702
公开日2012年4月18日 申请日期2011年6月30日 优先权日2011年6月30日
发明者张延伟 申请人:长葛市新大都瓷业有限公司