一种吸力喷头和微粒清除系统的制作方法

文档序号:1537321阅读:228来源:国知局
专利名称:一种吸力喷头和微粒清除系统的制作方法
技术领域
本实用新型涉及吸力装置,尤其涉及一种吸力喷头以及微粒清除系统。
背景技术
太阳能发电工艺,作为现有最为环保的新型能源。所谓的太阳能发电工艺,其通过太阳能电池板对于太阳辐射能量收集,并通过光电之间的转换,实现发电的工艺。太阳能发电工艺以其高效、节能、适用范围广、生产投入低、取之不竭以及环保无污染等优势逐渐取代传统化石燃料。因而如何提高太阳能电池板制造工艺,从而提高太阳能发电效率已成为现代清洁能源研发、利用的主要课题。太阳能电池板一般包括作为基底的玻璃基板;所述玻璃基板上生成正负电极层,以及夹于所述正负电极层之间的光电转换层。光线透过所述玻璃基片、正/负电极后,射入光伏转化层,并激发光电转换层材料的电子的迁移,形成自由电子及空穴,并由电子及空穴间的移动产生电流。其中,在制备工艺中,玻璃基板上每沉积一层薄膜后,需要将该层薄膜切割成数个部分,之后再在该层薄膜上方生成另一层薄膜。并最终,形成多个包括正、负电 极层和光电转换层的发电单元。在这其中对于上述各层薄膜切割要求较高,因而一般都采用切割精度较高的镭射激光切割完成。在镭射激光切割的实际操作过程中,由于被切割后的薄膜在小范围发生小型爆炸,并由此产生大量的细小颗粒。这些细小颗粒中包括了大量的金属颗粒,若是不及时清除,让其留在切割后的薄膜上,极有可能混杂在其它材料层中,从而造成太阳能电池板发电及电流传输过程中,电流泄露以及其他足以损毁太阳能电池板的问题。因而参考图I所示,在镭射激光头(图中未显示)对薄膜层6(可为上述太阳能电池板中的任一层)进行切割时,通常会在切割端口上方设置一吸力装置1,从而吸取切割产生的细小颗粒10。这些细小颗粒分散在薄膜层上,给吸力装置吸取造成较大困难。而且如上所述,由于这些细小颗粒10中包括了大量的金属颗粒,其质量较大,因而细小颗粒10吸取过程中会在其自身重力作用下而坠落。基于上述原因,因切割产生的细小颗粒10往往给太阳能电池板制造造成较大麻烦,若要提升这些因切割产生的细小颗粒10吸附清除,往往需提高所用的吸力装置I的负载能力,或是添加额外的清除工序。鉴于此,参考图2所示,如专利号JP3151187A的日本专利申请,在将镭射激光头2设在一框架3上,并在该框架3的X/Y轴向,镭射激光头2的旁侧各开设多个吸取窗口 5,由连接所述框架3的通风管4连接吸力装置,从而由各方向吸取切割后产生的颗粒,从而提高颗粒吸附效果。上述专利公开的技术方案,只是相对的多个方向增加吸附窗口,通过多个方向颗粒吸附,从而尽可能提高这些颗粒的吸附效果,而其吸附效果依然单纯地取决于吸力装置的吸附力。而且,鉴于多个吸附窗口 5开启,单个吸附窗口5的吸附力得到削弱,若要保持各个吸附窗口 5的吸附力,则势必增加吸力装置的负载能力及耗能,这些措施直接加大了对于吸力装置的要求,从而增加太阳能制造设备的投入和加工制造过程的复杂度。因而,如何在保持吸力装置一定的负载力下,更高效地提高吸力装置对于因切割产生的细小颗粒的清除效果,对于提高太阳能电池板制备エ艺水准具有重要的意义。

实用新型内容本实用新型的目的是提供一种吸カ喷头,其在吸力装置负载固定条件下,改变所述吸カ装置的气流走向,有效增强吸力,将切割形成的细小颗粒集中后強力吸取,从而提升细小颗粒的清除效率。为解决上述问题,本实用新型提供了ー种吸カ喷头,包括吸力气流输出装置;在所述吸カ气流输出装置的开口下方设有气流强化组件;所述气流强化组件包括上端固定于所述吸力气流输出装置开ロ处的气流导向装置以及位于所述气流导向装置外围的气流引向装置;所述气流导向装置和气流引向装置均为下端开ロ结构,且在所述气流导向装置外壁与所述气流引向装置的内壁之间形成气流腔 体;在所述气流腔体中,基于所述吸力气流输出装置输出的气流形成覆盖所述吸力气流输出装置开ロ下方的循环气流,且所述循环气流由所述吸カ气流输出装置的开ロ周侧流向开口中心。可选地,所述气流导向装置呈筒状结构,其上端固定套于所述吸カ气流输出装置开口处;且所述气流导向装置外壁由上至下向所述吸カ气流输出装置的开口内侧傾斜。可选地,所述气流导向装置以所述吸力气流输出装置开ロ中心呈中心对称。 可选地,所述气流导向装置呈上端开ロ大于下端开ロ的倒圆锥形筒状结构。可选地,所述气流引向装置为ー气流引向盖,其上端围绕所述气流导向装置且与所述气流导向装置固定连接;其内壁由内侧向外拱起,形成一曲面空腔。可选地,所述气流引向盖内壁以所述吸力气流输出装置开ロ中心呈中心对称。可选地,由所述吸カ气流输出装置开ロ向下延伸,所述气流导向装置下端开ロ至所述吸カ气流输出装置开ロ之间距离小于所述气流引向装置下端开ロ至所述吸カ气流输出装置开ロ之间距离。本实用新型还提供了一种用于薄膜切割过程中,用于清除切割过程中产生的细小微粒的微粒清除系统,包括上述吸力喷头和安装所述吸カ喷头的安装支架,所述吸カ喷头位于待切割薄膜上方;所述吸カ喷头的吸力气流输出装置开ロ向下放置;所述安装支架包括纵向调整轨道,所述吸カ喷头通过滑动装置安装与所述纵向调整轨道上。与现有技术相比,本实用新型具有以下优点I.本实用新型吸カ喷头中,所述的气流导向装置与气流引向装置改变由吸カ气流输出装置产生的气流流向,并在两者之间形成的气流腔体中,基于所述吸力气流输出装置输出的气流形成覆盖所述吸力气流输出装置开ロ下方的循环气流,且所述循环气流由所述吸力气流输出装置的开ロ周侧流向开口中心。借助于循环气流可将原本散落在薄膜上的细小颗粒迅速集中至所述吸カ气流输出装置开ロ下方;而且循环气流集中于所述吸力气流输出装置开ロ下方后,还可直接增强了吸力气流输出装置开ロ下方向上的气流强度,从而强化了吸力气流输出装置的吸力,从而在负载能力不变的条件下,增强喷头对于细小颗粒的吸附作用,提高了吸附效率。2.可选方案中,所述气流导向装置以及气流引向装置内壁以所述吸力气流输出装置开口中心呈中心对称设计可增强气流腔体中气流流动稳定性,并提高向上的气流吸力。[0019]3.本实用新型微粒清除系统安装支架的纵向调整轨道,从而可根据实际情况有效调整吸力喷头与待切割薄膜之间的距离,从而优化微粒的清除效率。

图I是采用现有吸力喷头吸附薄膜切割产生的细小颗粒方法I示意图;图2是现有吸附薄膜切割产生的细小颗粒方法II的示意图;图3是本实用新型吸力喷头的结构示意图;图4是采用本实用新型吸力喷头吸附薄膜切割产生的细小颗粒的方法示意图;图5是本实用新型吸力喷头的底部结构示意图;图6是本实用新型微粒清除系统结构示意图。
具体实施方式
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,
以下结合附图对本实用新型的具体实施方式
做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型,但是本实用新型还可以采用不同于此处的其它方式来实施,因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。正如技术背景中所描述,太阳能电池板制造工艺中,对太阳能电池板各层切割工序中,会产生大量有碍于后续制备工艺进行以及影响太阳能电池板性能的细小颗粒。这些细小颗粒分散在薄膜层上,且包括大量的金属颗粒,质量较大,采用现有的吸力装置吸取清除时,往往因难以集中,以及受到细小颗粒受到自身重力影响而无法有效清除。本实用新型鉴于上述现有吸力装置吸收清除在薄膜镭射激光切割工艺中产生的细小颗粒的不足,提供了一种吸力喷头,包括吸力气流输出装置,并在所述吸力气流输出装置的开口下方设置气流强化组件;所述气流强化组件包括气流导向装置以及位于所述气流导向装置外围的气流引向装置。使用时,所述吸力气流输出装置装于待切割薄膜镭射激光切割端面上方,形成由下至上的气流。由所述的气流导向装置与气流引向装置改变部分吸力气流输出装置产生的气流流向,并在两者之间形成的气流腔体中,基于所述吸力气流输出装置输出的气流形成覆盖所述吸力气流输出装置开口下方的循环气流,且所述循环气流由所述吸力气流输出装置的开口周侧流向开口中心。其中,在所述开口中心对称的两侧的两股循环气流流向相反并同时指向所述吸力气流输出装置的开口中心。借助于所述循环气流“席卷”散落在薄膜上的细小颗粒,并且这些细小颗粒在随着循环气流迅速集中至所述吸力气流输出装置开口下方。而且所述的循环气流集中于所述吸力气流输出装置开口下方后,其中一部分汇入由下至上(即由所述待切割薄膜层至所述吸力喷头)的气流中,从而直接增强了吸力气流输出装置开口下方向上的气流强度,强化了吸力气流输出装置的吸力,最终实现在负载能力不变的条件下,增强喷头对于细小颗粒的吸附作用,提高了吸附效率。其具体结构如图3和图5所示本实用新型包括吸力气流输出装置11 ;在所述吸力气流输出装置11的开口 12的下方设有气流强化组件。所述气流强化组件包括固定于所 述吸力气流输出装置11的开口 12下方的气流导向装置7以及位于所述气流导向装置7外围的气流引向装置8。所述气流导向装置7和气流引向装置8均呈下端开口结构。[0031]其中,所述气流导向装置7套于所述吸カ气流输出装置11的下端开ロ 12下方,围绕着所述吸カ气流输出装置11的下端开ロ 12与其固定连接。所述气流导向装置7的外壁由上至下向所述吸カ气流输出装置11的开ロ 12内侧倾斜,且所述气流导向装置7以所述吸力气流输出装置11的开ロ 12的中心呈中心对称。使得所述气流导向装置7呈上端开ロ大于下端开ロ的倒圆锥形筒状。所述气流导向装置7的外壁与吸力气流输出装置11的开ロ的中心轴间的倾斜角度a可间于5 75度,其中优选20 60度,特别优选30 50度,包括30度、40度、45度、50度等。而所述气流引向装置8为ー气流引向盖,其上端围绕所述气流导向装置7且与其固定连接,而且所述气流引向盖下端开ロ,且其内壁由内侧向外拱起,形成一曲面空腔,且所述气流引向盖的内壁同样以所述吸カ气流输出装置11开ロ 12的中心呈中心对称。所述气流导向装置7的外壁与气流引向盖的内壁之间形成围绕所述吸カ气流输出装置11开ロ 12中心布置的气流腔体200。而且由所述吸カ气流输出装置11开ロ12向下延伸,所述气流导向装置7下端开ロ至所述吸カ气流输出装置11开ロ 12间距离小于所述气流引向盖下端开ロ至所述吸カ气流输出装置开ロ 12间距离。即,以所述气流引向盖下端为水平基面,所述气流导向装置7下端位于所述气流引向盖下端的上方,两者间的距离dl间于I 20mm,其中优选范围为3 15mm,进一步可优选5 IOmm,包括5mm、7mm、9mm 等。结合參考图6,本实用新型还提供了一种微粒清除系统,所述微粒清除系统包括了所述的吸カ喷头100和安装所述吸カ喷头100的安装支架13,所述吸カ喷头100的吸カ气流输出装置11开ロ 12向下放置,位于所述薄膜层6的正上方;所述安装支架13包括纵向调整轨道14,所述吸カ喷头100通过滑动装置15安装于所述纵向调整轨道14上。从而实现所述吸カ喷头100相对于所述薄膜层6表面上下移动。其中,当作为所述气流引向装置8的气流引向盖下端距所述薄膜层6为O. 5 2cm(d2 = O. 5 2cm)吋,经试验证明,该距离对于所述颗粒10的清除效果最佳。值得注意的是,所述吸カ喷头100位于所述薄膜层6切割端口上方,由于需要在所述薄膜层6不同的位置进行切割,因而本实用新型吸カ喷头通过移动装置随着玻璃基板9或是镭射激光头横向移动,随时处于切割端口上方。该内容都为现有技术,在此不再赘述。下面结合具体的使用,从而进一步阐明本实用新型。结合參考图4和图6,在玻璃基板9上沉积ー层薄膜层6之后,通过镭射激光在所述薄膜层6上进行切割エ艺,从而将所述薄膜层6切割成为数个部分。其中,在切割过程中,会在所述薄膜层6切割端口中形成小范围爆炸,并由此在切割端ロ形成大量的颗粒10。这些颗粒10散落在薄膜层6表面,且由于所述薄膜层6中掺杂了大量的金属,因而产生的颗粒10中同时包括了大量的金属颗粒。所述吸カ喷头100的作为气流引向装置8的所述气流引向盖的下端开ロ位于所述薄膜层6的上方I厘米(d2= Icm)处。在镭射激光切割的同时,开启所述吸カ气流输出装置11,在所述薄膜层6的切割端口上方形成由下至上的气流A。由于所述气流导向装置7的外壁由上至下向所述吸カ气流输出装置11开ロ 12内侧倾斜,在气流A由下往上流动的过程中,其远离吸力气流输出装置11开ロ 12中心处的一部分气流顺着所述气流导向装置7的外壁进入所述气流导向装置7与气流引向盖之间的气流腔体200中形成侧向气流。由于所述气流引向盖的内壁由内侧向外拱起,形成一曲面空腔,所述侧向气流顺着所述气流引向盖的曲面空腔的内壁流动,并在所述气流A带动下,在所述气流导向装置7的外壁与气流引向盖的内壁形成循环气流,从而在所述薄膜层6的表面形成覆盖所述吸力气流输出装置11开口下方,且由所述吸力气流输出装置11开口 12周侧向所述吸力气流输出装置11开口 12中心靠近的循环气流。其中,所述曲面空腔优选为球形的曲面空腔,从而利于循环气流的形成以及其稳定性。而且由于气流A的带动下,各股所述的循环气流,靠近所述吸力气流输出装置11开口 12中心的部分气流重新汇集于气流A中,从而形成更为强劲的向上气流。在所述薄膜层6表面的循环气流影响下,散落在所述薄膜层6上的颗粒10迅速被“席卷”并随着循环气流由所述吸力气流输出装置11开口 12旁侧的迅速被“席卷”向所述吸力气流输出装置11开口 12的中心集中。而且由于循环气流由所述吸力气流输出装置11开口 12旁侧向所述吸力气流输出装置11开口 12的中心流动,由所述吸力气流输出装置11开口 12周侧各方向的循环气流交汇后,部分气流重新汇入所述气流A中,由所述薄膜层6的表面指向所述吸力气流输出装置11开口 12,从而同时增加了气流A的吸力,而位于吸力气流输出装置11开口 12下方颗粒10借着气流A被吸入所述吸力喷头100中。这样在相同负载情况下,在所述吸力气流输出装置11开口 12的下方形成了更为强劲的吸力,有助于所述颗粒10的吸附,从而提高了这些细小颗粒10的清除效率。其中,优选方案中,所述气流导向装置7以及所述气流引向盖的内壁均以所述吸力气流输出装置11开口 12的中心呈中心对称。这样,在以所述吸力气流输出装置11的开口 12中心呈中心对称的两侧形成的两股流向相反、大小相似的两股侧向气流BI和B2,并由此形成两股流向相反、大小相似,且由所述吸力气流输出装置11的开口 12的周侧流向中心的循环气流Cl和C2,从而提高气流腔体200中的气流和最终进入所述吸力喷头100的气流A的稳定性,并最终提高所述吸力喷头100的工作稳定性。 虽然本实用新型已以较佳的实施例披露如上,但本实用新型并非限定于此。任何本领域技术人员,在不脱离本实用新型的精神和范围内,均可做各种更动与修改,因此本实用新型的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。
权利要求1.ー种吸カ喷头,其特征在于,包括吸力气流输出装置;在所述吸カ气流输出装置的开ロ下方设有气流强化组件; 所述气流强化组件包括上端固定于所述吸力气流输出装置开ロ处的气流导向装置以及位于所述气流导向装置外围的气流引向装置;所述气流导向装置和气流引向装置均为下端开ロ结构,且在所述气流导向装置外壁与所述气流引向装置的内壁之间形成气流腔体;在所述气流腔体中,基于所述吸力气流输出装置输出的气流形成覆盖所述吸力气流输出装置开口下方的循环气流,且所述循环气流由所述吸カ气流输出装置的开ロ周侧流向开口中心。
2.如权利要求I所述的吸カ喷头,其特征在于,所述气流导向装置呈筒状结构,其上端固定套于所述吸カ气流输出装置开口处;且所述气流导向装置外壁由上至下向所述吸カ气流输出装置的开口内侧傾斜。
3.如权利要求2所述的吸カ喷头,其特征在于,所述气流导向装置以所述吸力气流输出装置开ロ中心呈中心对称。
4.如权利要求2所述的吸カ喷头,其特征在于,所述气流导向装置的外壁与所述吸カ气流输出装置开ロ的中心轴呈5 75度角傾斜。
5.如权利要求2所述的吸カ喷头,其特征在于,所述气流导向装置呈上端开ロ大于下端开ロ的倒圆锥形筒状结构。
6.如权利要求I所述的吸カ喷头,其特征在于,所述气流引向装置为ー气流引向盖,其上端围绕所述气流导向装置且与所述气流导向装置固定连接;其内壁由内侧向外拱起,形成一曲面空腔。
7.如权利要求6所述的吸カ喷头,其特征在于,所述气流引向盖内壁以所述吸カ气流输出装置开ロ中心呈中心对称。
8.如权利要求I 7任一项所述的吸カ喷头,其特征在干,由所述吸カ气流输出装置开ロ向下延伸,所述气流导向装置下端开ロ至所述吸カ气流输出装置开ロ之间距离小于所述气流引向装置下端开ロ至所述吸カ气流输出装置开ロ之间距离。
9.如权利要求8所述的吸力喷头,其特征在干,所述气流导向装置下端开ロ与所述气流引向装置下端开ロ之间距离为I 20mm。
10.一种微粒清除系统,其特征在于,包括上述权利要求I 9任一项所述的吸カ喷头和安装所述吸カ喷头的安装支架,所述吸カ喷头位于待切割薄膜上方;所述吸カ喷头的吸力气流输出装置开ロ向下放置;所述安装支架包括纵向调整轨道,所述吸カ喷头通过滑动装置安装于所述纵向调整轨道上。
专利摘要一种吸力喷头和微粒清除系统,包括吸力气流输出装置;在所述吸力气流输出装置的开口下方设有气流强化组件;所述气流强化组件包括固定于所述吸力气流输出装置开口处的气流导向装置以及位于所述气流导向装置外围的气流引向装置。所述的气流导向装置与气流引向装置改变由吸力气流输出装置产生的气流流向,并在两者之间形成由所述吸力气流输出装置的开口周侧向其中心流动的循环气流;借助于循环气流可将原本散落在薄膜上的细小颗粒迅速集中至所述吸力气流输出装置开口下方;且各股所述的循环气流集中于所述吸力气流输出装置开口下方,直接增强了吸力气流输出装置开口下方向上的气流强度,强化了吸力气流输出装置的吸力,及对于细小颗粒的吸附。
文档编号B08B5/04GK202438493SQ20122005467
公开日2012年9月19日 申请日期2012年2月20日 优先权日2012年2月20日
发明者林信安, 林志明 申请人:杜邦太阳能有限公司
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