一种有蜡抛光陶瓷盘的清洗方法
【专利摘要】本发明创造提供一种高效低成本有蜡抛光陶瓷盘的清洗方法。该方法是先配制KOH溶液作为去蜡清洗剂，然后采用所述去蜡清洗剂对有蜡抛光后的陶瓷盘进行药洗，药洗至少两次后，再用纯水清洗至少两次。本方法可有效去除陶瓷盘表面蜡迹，成本低，效果稳定。
【专利说明】一种有蜡抛光陶瓷盘的清洗方法
【技术领域】
[0001]本发明创造涉及有蜡抛光陶瓷盘表面蜡迹的去除领域，特别涉及一种高效低成本的有蜡抛光陶瓷盘的清洗方法。
【背景技术】
[0002]近年来，由于对抛光片几何参数要求愈加严格，越来越多的企业采用加工精度较好的有蜡抛光设备。由于贴片用的陶瓷盘是循环使用，为了保证加工精度，陶瓷盘表面必须平整，即贴片前要将陶瓷盘表面铲片后残留的蜡去除干净，目前很多企业使用DEVEL-A作为去蜡剂，但DEVEL-A价格较高，用量较大，清洗时间较长，导致产品加工成本较高，使企业在日趋激烈的市场竞争中处于不利位置。这就需要研发一种高效去蜡，成本较低的陶瓷盘清洗方法。
【发明内容】
[0003]本发明创造要解决的问题是克服现有技术的不足，提供一种高效低成本的有蜡抛光陶瓷盘的清洗方法，以满足生产的需要。
[0004]为解决上述技术问题，本发明创造采用的技术方案是:
[0005]一种有蜡抛光陶瓷盘的清洗方法，所述的清洗方法是先配制Κ0Η溶液作为去蜡清洗剂，然后采用所述去蜡清洗剂对有蜡抛光后的陶瓷盘进行药洗，药洗至少两次后，再用纯水清洗至少两次。
[0006]所述Κ0Η溶液是质量分数为3%_5%的Κ0Η溶液。
[0007]优选地，所述Κ0Η溶液是质量分数为3%的Κ0Η溶液。
[0008]所述药洗过程的温度为55_70°C，清洗时间为90-120S，所述水洗过程的温度为70-80°C，清洗时间设为90-120s。
[0009]优选地，所述药洗过程的温度为55°C，清洗时间为90s，所述水洗过程的温度为80°C，清洗时间设为90s。
[0010]更优选的，所述的清洗方法是先配制质量分数为3%的Κ0Η溶液作为去蜡清洗剂，然后采用所述去蜡清洗剂对有蜡抛光后的陶瓷盘进行药洗，药洗温度为55°C，清洗时间设为90s，药洗两次后，再用纯水清洗两次，水洗温度为80°C,清洗时间设为90s。
[0011]本发明创造具有的优点和积极效果是采用本方法对有蜡抛光陶瓷盘进行清洗，可迅速有效去除表面蜡迹，具有清洗时间短、不会影响贴片机贴片速度等优点，可以提高生产效率，同时本方法所用去蜡剂成本低，降低了产品加工成本。与DEVEL-A相比，每次配液可节省1600元(DEVEL-A的市场价格为1800元/桶，每桶20L，每次配液用量1桶；固体Κ0Η市场价格为10元/瓶，每瓶500g，每次配液用量20瓶。)
【具体实施方式】
[0012]为了更清楚的理解本发明，下面结合具体实施例对本发明进行进一步详细描述:[0013]实施例1
[0014]本实施例是采用本发明所公开方法对200个有蜡抛光陶瓷盘进行清洗。加工设备为有蜡抛光陶瓷盘清洗机YWA-19 ;辅助材料包括Κ0Η(固体)、纯水和陶瓷盘。
[0015]清洗方法如下:
[0016](1)先用固体Κ0Η配置成浓度为3%的Κ0Η溶液作为去蜡清洗剂；
[0017](2)将陶瓷盘清洗机的1、2槽作为药液槽，3、4槽作为纯水槽，并将3%的Κ0Η溶液放进1、2槽内，将纯水放进3、4槽内；
[0018](3 )将1、2槽内的温度设定为55°C，3、4槽温度设定为80 V，清洗时间均设为90s，对有蜡抛光陶瓷盘进行逐一清洗，清洗顺序为由1至4，先药洗两次再水洗两次；
[0019](4)将清洗过的陶瓷盘收集备用。
[0020]实施例2
[0021]对200个有蜡抛光陶瓷盘进行清洗:加工设备为有蜡抛光陶瓷盘清洗机YWA-19 ；辅助材料包括Κ0Η(固体)、纯水和陶瓷盘。清洗方法同实施例1，具体条件见表1。
[0022]表1
[0023]
【权利要求】
1.一种有蜡抛光陶瓷盘的清洗方法，其特征在于:所述的清洗方法是先配制KOH溶液作为去蜡清洗剂，然后采用所述去蜡清洗剂对有蜡抛光后的陶瓷盘进行药洗，药洗至少两次后，再用纯水清洗至少两次。
2.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于:所述KOH溶液是质量分数为3%-5%的KOH溶液。
3.根据权利要求2所述的清洗方法，其特征在于:所述KOH溶液是质量分数为3%的KOH溶液。
4.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于:所述药洗过程的温度为55-70°C，清洗时间为90-120S，所述水洗过程的温度为70-80°C，清洗时间设为90_120s。
5.根据权利要求4所述的清洗方法，其特征在于:所述药洗过程的温度为55°C，清洗时间为90s，所述水洗过程的温度为80°C，清洗时间设为90s。
6.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于:所述的清洗方法是先配制质量分数为3%的KOH溶液作为去蜡清洗剂，然后采用所述去蜡清洗剂对有蜡抛光后的陶瓷盘进行药洗，药洗温度为55°C，清洗时间设为90s，药洗两次后，再用纯水清洗两次，水洗温度为80°C，清洗时间设为90s。
【文档编号】B08B3/08GK103639142SQ201310667160
【公开日】2014年3月19日 申请日期:2013年12月9日 优先权日:2013年12月9日
【发明者】孙晨光, 石明, 魏艳军, 垢建秋, 张宇 申请人:天津中环领先材料技术有限公司