一种衬底单面漂洗装置制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及半导体集成电路制造领域，公开了一种衬底单面漂洗装置。该装载固定工具包括：第一漂洗槽、第二漂洗槽、第三漂洗槽、晾干槽和支架；所述第一漂洗槽、所述第二漂洗槽、所述第三漂洗槽和所述晾干槽的顶部开口处可拆卸地安装有漂洗槽盖，所述支架设置在所述第一漂洗槽、所述第二漂洗槽、所述第三漂洗槽和所述晾干槽的下方，所述漂洗槽盖采用上下双层式的结构。本实用新型所提供的衬底单面漂洗装置不仅结构简单，而且通过支撑柱的设置使得衬底与下层板有一定距离，避免衬底因为液体表面张力的作用，造成其贴合在下层板上。本实用新型成本低，使用过程具有简便、高效、精确的特点，适用范围广泛。
【专利说明】一种衬底单面漂洗装置【技术领域】
[0001]本实用新型涉及半导体集成电路制造领域，尤其涉及一种衬底单面漂洗装置。
【背景技术】
[0002]目前，在集成电路制造工艺中对硅片表面质量的要求越来越高，除了对硅片有严格的尺寸要求外，任何污染的硅片表面都可能影响半导体器件的制造和性能，因此需要对硅片进行表面清洗。硅片的清洗可能在工艺前、工艺过程某阶段，或者工艺后，而在清洗分类中，硅片的单面清洗要求更高、难度更大。
[0003]例如，在光伏产业中为了提高电池的光电转化效率，引入了 ALD (英文名称为Atomic Layer Deposition,中文名称为原子层沉积)的工艺制备三氧化二招薄膜,使用ALD的工艺制备三氧化二铝薄膜时，为了有效的提高ALD的设备的利用率，增加设备的生产效率，装载衬底多采用两片衬底背靠背贴合的方式，在理想的状态下，三氧化二铝薄膜只沉积在衬底的两个不贴合的外表面上；但是，在制备生产过程中，也有部分互相贴合的衬底背面也沉积上了三氧化二铝薄膜，为了保证下道工艺的正常进行，需要将这些衬底背面的三氧化二铝薄膜清洗掉，而在清洗过程中，衬底正面沉积上的三氧化二铝薄膜不会产生任何破坏和污染。
[0004]同样，在传统晶体硅太阳能电池制造中，硅片表面还有氮化硅颗粒等污染物，因此在硅片放入太阳能电池印刷机内印刷前，需要去除这些氮化硅颗粒。现阶段，市场上半导体衬底单面清洗的装置种类繁多，但结构复杂，价格昂贵，在集成电路制造装置的基础上增加衬底单面清洗装置，必然造成生产成本增加，使得集成电路制造装置的竞争力减弱。
[0005]因此，针对以上不足，需要提供一种衬底单面漂洗装置。
实用新型内容
[0006]本实用新型要解决的技术问题是现阶段衬底单面漂洗的装置结构复杂且成本高昂。
[0007]为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种衬底单面漂洗装置，包括:第一漂洗槽、第二漂洗槽、第三漂洗槽、晾干槽和支架；所述第一漂洗槽、所述第二漂洗槽、所述第三漂洗槽和所述晾干槽的顶部开口处可拆卸地安装有漂洗槽盖，所述支架设置在所述第一漂洗槽、所述第二漂洗槽、所述第三漂洗槽和所述晾干槽的下方，所述漂洗槽盖采用上下双层式的结构。
[0008]其中，所述漂洗槽盖包括上层板、连接板和下层板；所述下层板通过所述连接板固定在所述上层板的下方，所述下层板上设有通孔，所述下层板正对于所述上层板的一面上设有支撑柱。
[0009]其中，所述上层板还设有观察窗。
[0010]其中，所述上层板两侧还设有把手。
[0011]其中，所述晾干槽四周壁面设有通孔。[0012]本实用新型的上述技术方案具有如下优点:本实用新型所提供的衬底单面漂洗装置不仅结构简单，而且通过支撑柱的设置使得衬底与下层板有一定距离，避免衬底因为液体表面张力的作用贴合在下层板上，防止进入下道工序时，衬底浮力无法克服液体表面张力，造成其与下层板不能够分离的状况。本实用新型成本低，使用过程具有简便、高效、精确的特点，适用范围广泛。
【专利附图】
【附图说明】
[0013]图1是本实用新型实施例衬底单面漂洗装置的结构示意图；
[0014]图2是本实用新型实施例漂洗槽盖的结构示意图。
[0015]图中:1:第一漂洗槽；2:第二漂洗槽；3:第三漂洗槽；4:晾干槽；5:漂洗槽盖；6:支架；7:上层板；8:把手；9:连接板；10:下层板；11:观察窗；12:支撑柱。
【具体实施方式】
[0016]下面结合附图和实施例对本实用新型的【具体实施方式】作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。
[0017]如图1所示，本实用新型实施例提供的衬底单面漂洗装置，其主体部分由第一漂洗槽1、第二漂洗槽2、第三漂洗槽3、晾干槽4和支架6组成。第一漂洗槽I用于盛放漂洗液，第二漂洗槽2用于盛放去离子水，第三漂洗槽3用于盛放有机溶剂，晾干槽4四周壁面设有通孔保证晾干槽4能够通风，第一漂洗槽1、第二漂洗槽2、第三漂洗槽3和晾干槽4采用能够防止漂洗液和有机溶剂腐蚀的材料；第一漂洗槽1、第二漂洗槽2、第三漂洗槽3和晾干槽4的顶部开口处可拆卸地安装有漂洗槽盖5，支架6设置在第一漂洗槽1、第二漂洗槽
2、第三漂洗槽3和晾干槽4的下方，漂洗槽盖5采用上下双层式的结构。
[0018]如图2所示，本实用新型实施例提供的漂洗槽盖5，包括:上层板7、连接板9和下层板10 ;上层板上设有通孔，通孔处镶嵌有透明的观察窗11，观察窗11两侧设有把手8，下层板10通过连接板9固定在上层板7的正下方，连接板9可控制衬底的活动范围，保证衬底不会四处漂浮，下层板10上设有通孔，保证漂洗液、去离子水和有机溶剂能够顺利通过下层板10，正对于上层板7的一面上设有支撑柱12 ;支撑柱12可以将衬底支撑在同一水平面上，使得衬底与下层板10有一定距离，避免衬底因为液体表面张力的作用贴合在下层板10上，防止下次进入漂洗槽时，衬底浮力无法克服液体表面张力，造成衬底与下层板10不能够分离，观察窗11以及支撑柱12的材料均采用能够防止漂洗液和有机溶剂腐蚀的材料。
[0019]本实用新型提供的衬底单面漂洗装置，使用时，首先在第一漂洗槽1、第二漂洗槽2和第三漂洗槽3中分别盛入10%的Hcl、去离子水和95%以上的纯酒精，液位要求为将漂洗槽盖5放入漂洗槽时至少能够淹没支撑柱12为准，将衬底平放在漂洗槽盖5的下层板10上，需要漂洗的背面朝下，提把手8将漂洗槽盖5盖到第一漂洗槽I上，通过观察窗11可以观看到衬底在浮力的作用下漂浮在IOfficl上，连接板9可控制衬底的活动范围，保证衬底不会四处漂浮，待衬底背面清洗干净后，从第一漂洗槽I中取出漂洗槽盖5。
[0020]再将漂洗槽盖5放入第二漂洗槽2中，待衬底背面的10%Hcl溶解到去离子水中后，从第二漂洗槽2中取出漂洗槽盖5 ;再将漂洗槽盖5放入第三漂3洗槽中，一段时间后，从第三漂洗槽3中取出漂洗槽盖5 ;最后将漂洗槽盖5放入晾干槽4中，由于衬底从第三漂洗槽3中取出时，衬底背面带有酒精，因此在晾干槽4中可以加快衬底晾干速度，待衬底晾干后，从晾干槽4中取出漂洗槽盖5，并从下层板10上取出晾干的衬底。
[0021]综上所述，本实用新型所提供的衬底单面漂洗装置不仅结构简单，而且通过支撑柱的设置使得衬底与下层板有一定距离，避免衬底因为液体表面张力的作用贴合在下层板上，防止进入下道工序时，衬底浮力无法克服液体表面张力，造成其与下层板不能够分离的状况。本实用新型成本低，使用过程具有简便、高效、精确的特点，适用范围广泛。
[0022]以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。
【权利要求】
1.一种衬底单面漂洗装置，其特征在于，包括:第一漂洗槽(I)、第二漂洗槽(2)、第三漂洗槽(3)、晾干槽(4)和支架(6);所述第一漂洗槽(I)、所述第二漂洗槽(2)、所述第三漂洗槽(3 )和所述晾干槽(4 )的顶部开口处可拆卸地安装有漂洗槽盖(5 )，所述支架(6 )设置在所述第一漂洗槽(I)、所述第二漂洗槽(2)、所述第三漂洗槽(3)和所述晾干槽(4)的下方，所述漂洗槽盖(5 )采用上下双层式的结构。
2.根据权利要求1所述的衬底单面漂洗装置，其特征在于:所述漂洗槽盖(5)包括上层板(7)、连接板(9)和下层板(10);所述下层板(10)通过所述连接板(9)固定在所述上层板(7)的下方，所述下层板(10)上设有通孔，所述下层板(10)正对于所述上层板(7)的一面上设有支撑柱(12)。
3.根据权利要求2所述的衬底单面漂洗装置，其特征在于:所述上层板(7)还设有观察窗(11)。
4.根据权利要求2所述的衬底单面漂洗装置，其特征在于:所述上层板(7)两侧还设有把手(8)。
5.根据权利要求1所述的衬底单面漂洗装置，其特征在于:所述晾干槽(4)四周壁面设有通孔。
【文档编号】B08B3/08GK203737648SQ201320860244
【公开日】2014年7月30日 申请日期:2013年12月24日 优先权日:2013年12月24日
【发明者】陈添明, 刘 东, 李春雷 申请人:北京七星华创电子股份有限公司