镜头护盖清洁机构的制作方法

文档序号:1474802阅读:195来源:国知局
镜头护盖清洁机构的制作方法
【专利摘要】镜头护盖清洁机构,涉及镜头护盖加工领域。本实用新型解决了现有的镜头护盖外形雕刻生产中会产生大量细小的碎屑,由于采用人工用毛刷刷除,其存在死角和会产生静电影响着清洁的效果,使得产品最终没清洁干净而成为不良产品。镜头护盖清洁机构,包括水槽、超声波发生器、工作台、真空吸气平台、排气管、风刀、滑块、滑轨和伸缩气缸。本实用新型的镜头护盖清洁机构能够有效的削除静电和除碎屑死角,使得镜头护盖在清洁后,达到无碎屑无尘的目的;代替了传统的人工采用毛刷的清洁方式,克服了人工造成粉尘污染的问题;在保证人工安全、节省人工的同时,也克服了人工不稳定和刷除率不高的问题。
【专利说明】镜头护盖清洁机构

【技术领域】
[0001]本实用新型涉及镜头护盖加工领域,特别是涉及镜头护盖清洁机构。

【背景技术】
[0002]现有镜头护盖的生产流程为:有机玻璃片材一图案印刷一贴保护膜一外形雕刻一清理一贴双面胶一包装;在生产过程中,外形雕刻依靠雕刻机以雕刻刀雕出外形,生产中会产生大量细小的碎屑,这些碎屑传统上须以人工用毛刷多次刷除,但因一次雕刻生产的镜头护盖在几百个(如图1、图2和图3所示),这么密集的产品排列,手工刷理很难作全面且因产品未雕刻前是一片平板,雕刻好后呈现凹凸不同的表面,更使毛刷清理更加困难,且在外形雕科后,底部保护膜仍流存,保护膜要在贴双面胶时才与产品分离,而保护膜在雕刻时会损伤及黏附很多碎屑,同时,由于采用毛刷清理,因接触摩擦,容易产生静电累积,使碎屑无法刷除,所以在众多产品一起清理,家上保护膜经雕刻后已不清透,往往在清理后到贴双面胶时去除保护膜才发现没清理干净,而此时已无法再清理,为不良产品。


【发明内容】

[0003]为解决上述技术问题,本实用新型提供了镜头护盖清洁机构。
[0004]本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:镜头护盖清洁机构,包括水槽、超声波发生器、工作台、真空吸气平台、排气管、风刀、滑块、滑轨和伸缩气缸;其中,所述的超声波发生器设置在水槽的底部;所述的工作台设置在水槽的右侧;所述的真空吸气平台设置在工作台的表面,所述的排气管穿设在工作台中连通真空吸气平台和外部大气;所述的风刀悬于真空吸气平台的上方;所述的风刀的上侧连接在滑块上;所述的滑块套设在滑轨上并可沿滑轨8方向移动;所述的滑块的上侧连接伸缩气缸用于控制滑块的移动。
[0005]所述的伸缩气缸的气端连接有调压阀,用于伸缩气缸的调节伸缩速度。
[0006]所述的水槽还设置有水循环过滤系统;所述的水循环过滤系统包括单向阀、过滤器和泵;其中,所述的单向阀的进口连通水槽的底部;所述的过滤器的进口连通单向阀的出口 ;所述的泵的进口连通过滤器的出口 ;所述的泵的出口连通水槽侧壁的上游位置。
[0007]所述的水槽的内侧壁上还设置有夹爪,用于固定待清洁镜头护盖。
[0008]所述的水槽紧贴在工作台上,水槽的顶面和工作台的上表面为同一水平面;所述的水槽和真空吸气平台之间设置有流水斜面。
[0009]工作原理:将刚雕刻完的待清洁镜头护盖,其保护膜朝上、雕刻面朝下置于水槽中,开启超声波发生器,此时,镜头护盖上的碎屑通过超声波的作用脱落到水中,同时镜头护盖上的静电也会消除;取出镜头护盖,其保护膜朝下、雕刻面朝上置于真空吸气平台上,开启吸气,将镜头护盖牢牢吸在平台上,此时的镜头护盖上有水也有碎屑,但因沾满水并无静电,开启风刀,通过伸缩气缸推动滑块带动风刀沿滑轨缓缓移动,风刀把水逐步从镜头护盖的右端赶至左端后吹离镜头护盖;此风刀将镜头护盖上的水及其中的碎屑吹离镜头护盖的过程,由于无静电,碎屑很容易随着水吹离,而镜头护盖角落的水也会因水表面张力及内聚力的作用被风刀吹离。
[0010]本实用新型的有益效果:一、本实用新型的镜头护盖清洁机构能够有效的削除静电和除碎屑死角,使得镜头护盖在清洁后,达到无尘的目的;二、本实用新型的镜头护盖清洁机构,代替了传统的人工采用毛刷的清洁方式,克服了人工造成粉尘污染的问题;在保证人工安全、节省人工的同时,也克服了人工不稳定和刷除率不高的问题。

【专利附图】

【附图说明】
[0011]图1为待清洁的镜头护盖的示意图;
[0012]图2为待清洁的镜头护盖的侧视示意图;
[0013]图3为图2的局部放大图;
[0014]图4为实施例的镜头护盖清洁机构的示意图;
[0015]图5为实施例的镜头护盖清洁机构的水槽部分的局部放大的示意图;
[0016]其中,a-保护膜,b-雕刻面,C-碎屑,1-水槽,2-超声波发生器,3_工作台,4_真空吸气平台,5-排气管,6-风刀,7-滑块,8-滑轨,9-伸缩气缸,10-调压阀,11-单向阀,12-过滤器,13-泵,14-夹爪,15-流水斜面。

【具体实施方式】
[0017]为了加深对本实用新型的理解,下面将结合附图和实施例对本实用新型做进一步详细描述,该实施例仅用于解释本实用新型,并不对本实用新型的保护范围构成限定。
实施例
[0018]如图4和图5所示,镜头护盖清洁机构,包括水槽1、超声波发生器2、工作台3、真空吸气平台4、排气管5、风刀6、滑块7、滑轨8和伸缩气缸9 ;其中,所述的超声波发生器2设置在水槽I的底部;所述的工作台3设置在水槽I的右侧;所述的真空吸气平台4设置在工作台3的表面,所述的排气管5穿设在工作台3中连通真空吸气平台4和外部大气;所述的风刀6悬于真空吸气平台4的上方;所述的风刀6的上侧连接在滑块7上;所述的滑块7套设在滑轨8上并可沿滑轨8方向移动;所述的滑块7的上侧连接伸缩气缸9用于控制滑块7的移动;所述的伸缩气缸9的气端连接有调压阀10,用于调节伸缩气缸9的伸缩速度;所述的水槽I还设置有水循环过滤系统;所述的水循环过滤系统包括单向阀11、过滤器12和泵13 ;其中,所述的单向阀11的进口连通水槽I的底部;所述的过滤器12的进口连通单向阀11的出口 ;所述的泵13的进口连通过滤器12的出口 ;所述的泵13的出口连通水槽I侧壁的上游位置;所述的水槽I的内侧壁上还设置有夹爪14,用于固定待清洁镜头护盖;所述的水槽I紧贴在工作台3上,水槽I的顶面和工作台的上表面为同一水平面;所述的水槽I和真空吸气平台4之间设置有流水斜面15。
[0019]本实施例的镜头护盖清洁机构的工作原理:将刚雕刻完的待清洁镜头护盖,其保护膜a朝上、雕刻面b朝下置于水槽I中,开启超声波发生器2,此时,镜头护盖上的碎屑c通过超声波的作用脱落到水中,同时镜头护盖上的静电也会消除;取出镜头护盖,其保护膜a朝下、雕刻面b朝上置于真空吸气平台4上,开启吸气,将镜头护盖牢牢吸在平台上,此时的镜头护盖上有水也有碎屑C,但因沾满水并无静电,开启风刀6,通过伸缩气缸9推动滑块7带动风刀6沿滑轨8缓缓移动,风刀6把水逐步从镜头护盖的右端赶至左端后吹离镜头护盖;此风刀6将镜头护盖上的水及其中的碎屑c吹离镜头护盖的过程,由于无静电,碎屑c很容易随着水吹离,而镜头护盖角落的水也会因水表面张力及内聚力的作用被风刀6吹离;吹离的水和碎屑沿着流水斜面15流回水槽I中;当水槽中的碎屑较多时,打开单向阀11和泵13,水经过过滤器时,将碎屑过滤掉,然后,将过滤完的水重新注入水槽I中使用;过滤完后,关闭单向阀11和泵13,当碎屑在过滤器积累到一定程度时,可将过滤器卸下进行清洗。
[0020]上述实施例不应以任何方式限制本实用新型,凡采用等同替换或等效转换的方式获得的技术方案均落在本实用新型的保护范围内。
【权利要求】
1.镜头护盖清洁机构,其特征在于:它包括水槽(I)、超声波发生器(2)、工作台(3)、真空吸气平台(4)、排气管(5)、风刀(6)、滑块(7)、滑轨(8)和伸缩气缸(9);其中,所述的超声波发生器(2)设置在水槽(I)的底部;所述的工作台(3)设置在水槽(I)的右侧;所述的真空吸气平台(4)设置在工作台(3)的表面,所述的排气管(5)穿设在工作台(3)中连通真空吸气平台(4)和外部大气;所述的风刀(6)悬于真空吸气平台(4)的上方;所述的风刀(6)的上侧连接在滑块(7)上;所述的滑块(7)套设在滑轨(8)上并可沿滑轨(8)方向移动;所述的滑块(7)的上侧连接伸缩气缸(9)用于控制滑块(7)的移动。
2.根据权利要求1所述的镜头护盖清洁机构,其特征在于:所述的伸缩气缸(9)的气端连接有调压阀(10),用于调节伸缩气缸(9)的伸缩速度。
3.根据权利要求1所述的镜头护盖清洁机构,其特征在于:所述的水槽(I)还设置有水循环过滤系统;所述的水循环过滤系统包括单向阀(11)、过滤器(12)和泵(13);其中,所述的单向阀(11)的进口连通水槽(I)的底部;所述的过滤器(12)的进口连通单向阀(11)的出口 ;所述的泵(13)的进口连通过滤器(12)的出口 ;所述的泵(13)的出口连通水槽(I)侧壁的上游位置。
4.根据权利要求1或3所述的镜头护盖清洁机构,其特征在于:所述的水槽(I)的内侧壁上还设置有夹爪(14),用于固定待清洁镜头护盖。
5.根据权利要求1或3所述的镜头护盖清洁机构,其特征在于:所述的水槽(I)紧贴在工作台(3)上,水槽(I)的顶面和工作台的上表面为同一水平面;所述的水槽(I)和真空吸气平台(4 )之间设置有流水斜面(15)。
【文档编号】B08B3/14GK204148192SQ201420592396
【公开日】2015年2月11日 申请日期:2014年10月14日 优先权日:2014年10月14日
【发明者】陈文翰 申请人:昆山奇华印刷科技有限公司
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