专利名称：具有理轮的比重平衡自转式超低浴比染布机的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种染布机，尤指一种能有效增加经济效益的圆筒型具有理轮的
比重平衡自转式超低浴比染布机。
背景技术：
现有中国台湾第092203270号专利新型案为同类型的比重平衡自转式超低浴比染布机，因理轮与呈水平S型坡度浸染管的组合结构中，其浸染管前端的喷嘴，吸入来自位于上方理轮的布匹并采用约20度的下滑角度，若要伴随染液冲入浸染管且浸染后再泻流而下至积布轮管，即需借由一惰轮履带，好让积布轮管被下落的布匹牵动而同步旋转，达到以低浴比染液循环喷染布匹的结构与效果。但由于使用惰轮履带，而使染布机的制造与维修成本上升。
实用新型内容本实用新型解决的技术问题是，提供一种具有理轮的比重平衡自转式超低浴比染
布机，其可降低现有的比重平衡自转式超低浴比染布机的制造和维修成本。 本实用新型的技术解决方案是 —种具有理轮的比重平衡自转式超低浴比染布机，其中，该染布机是由圆筒体、自转式积布槽、中隔板及理轮所组成 该圆筒体的外部具有脚架、染液回收管、机头及摆布装置，而内部具有理轮、喷嘴、浸染管、摆布导管、自转式积布槽及中隔板； 该自转式积布槽呈网状并环设有开口，设于圆筒体内里，由一中心转轴支撑，而旋转于中隔板与筒壁之间； 该中隔板呈n型轨道状，环设于圆筒体内壁四分之三圆处，且其顶平面的宽度大
于自转式积布槽的开口宽度； 该理轮位于机头内里最高位置，而与喷嘴及后端延伸的浸染管间的输布角度呈现30度下滑，经摆布导管后再进入自转式积布槽。 本实用新型的具有理轮的比重平衡自转式超低浴比染布机，是针对现有的中国台湾第092203270号专利新型案所述机种的改良，修正其喷嘴仰角高度、浸染管的S型水平坡度，及配合理轮的相对高度位置，达到较大的比重失衡结构，让自转式积布槽随布匹同步旋
转外，并以一固设于圆筒体内壁四分之三圆处的中隔板呈n型轨道状，以替代原惰轮履带，
用以降低其制造与维修的成本，并增加摆布装置以让布匹于经过摆布导管后、整齐左右折叠，增加容量减少折痕。
图1为本实用新型的结构示意图； 图2为本实用新型的自转式积布槽结构示意图；[0013]图3为本实用新型的实施例的俯视示意图。[0014]主要组件标号说明30 :染布机31 :圆筒体32:自转式积布槽33 :中隔板34 :理轮35 :喷嘴36 :浸染管311 :脚架312:染液回收管313 :机头314 :摆布装置361 :摆布导管37 :中心转轴331 :顶平面321 :开口40 :布匹
具体实施方式请参阅图1，其为本实用新型具有理轮的比重平衡自转式超低浴比染布机30的结构示意图，依其机身结构主要是由圆筒体31、自转式积布槽32、中隔板33及理轮34所组成，其中该圆筒体31的外部底端具有脚架311、而下方具有染液回收管312，且于圆筒体31上方的前、后两端，各设有机头313及摆布装置314，而于内部理轮34与喷嘴35及后端延伸的浸染管36间，其输布角度呈现30度下滑后延伸至摆布导管361，另特别设有自转式积布槽32及中隔板33。 请参阅图2，其为本实用新型的自转式积布槽32的结构示意图，其中该自转式积布槽32呈网状并环设有开口 ，设于圆筒体31内里，由一中心转轴37支撑，而旋转于中隔板33与圆筒体31的内壁之间。 请同时参阅图l及图2，其中该中隔板33呈n型轨道状，环设于圆筒体31的内壁四分之三圆处，且其顶平面331的宽度稍大于自转式积布槽32的开口 321的宽度。[0024] 请参阅图3为本实用新型的实施例俯视示意图，其中该一组布匹40分别由前端的一组理轮34拉起后输入喷嘴35内及其后方的浸染管36而被喷染与浸染，再经由一摆布装置314左右反复连动于浸染管36末端的摆布导管361，让布匹40伴随着染液依序折叠进入下方的自转式积布槽32内且同步循环于圆筒体31内里，而染液则由自转式积布槽32的网体渗出，而被位于圆筒体31底部的染液回收管312吸入再次加热后(请同时参照图1及图2)，再回输至喷嘴35以继续喷染布匹40。 请再参照图1及图2，其中依本实用新型的自转式积布槽32的旋转动力来自于循环布匹40两端的重力不平衡所致，亦即当布匹40伴随染液自浸染管36端冲下时，此端的自转式积布槽32顿时增加重量，而当另一端布匹40被理轮34拉上时又顿时减轻重量，为达到重量平衡，因此自转式积布槽能与布匹40循环为同步旋转，且中隔板33因介于循环通道之间，形成如轨道般承载布匹40于中心点，而具有平衡推移布匹40的功效。[0026] 以上所述仅为本实用新型示意性的具体实施方式
，并非用以限定本实用新型的范围。任何本领域的技术人员，在不脱离本实用新型的构思和原则的前提下所作出的等同变化与修改，均应属于本实用新型保护的范围。
权利要求一种具有理轮的比重平衡自转式超低浴比染布机，其特征在于，该染布机包括圆筒体、自转式积布槽、中隔板及理轮该圆筒体的外部具有脚架、染液回收管、机头及摆布装置，而内部具有理轮、喷嘴、浸染管、摆布导管、自转式积布槽及中隔板；该自转式积布槽呈网状并环设有开口，设于圆筒体内里，由一中心转轴支撑，而旋转于中隔板与筒壁之间；该中隔板呈∏型轨道状，环设于圆筒体内壁四分之三圆处，且其顶平面的宽度大于自转式积布槽的开口宽度；该理轮位于机头内里最高位置，而与喷嘴及后端延伸的浸染管间的输布角度呈现30度下滑，经摆布导管后再进入自转式积布槽。
专利摘要本实用新型一种具有理轮的比重平衡自转式超低浴比染布机，尤指改良一种具有理轮的圆筒型超低浴比染布机以提高其经济效益的结构；其主要由圆筒体、自转式积布槽、中隔板及理轮所组成，其中该圆筒体的外部具有脚架、染液回收管、机头及摆布装置，其内部具有理轮、喷嘴、浸染管、摆布导管、自转式积布槽及中隔板；该自转式积布槽呈网状并环设有开口，设于圆筒体内里，由一中心转轴支撑，旋转于中隔板与筒壁之间；该中隔板呈∏型轨道状，环设于圆筒体内壁四分之三圆处，且顶平面的宽度稍大于自转式积布槽的开口宽度；该理轮位于机头内里最高位置，而与喷嘴及后端延伸的浸染管间的输布角度呈现30度下滑，经摆布导管后再进入自转式积布槽。
文档编号D06B23/14GK201485670SQ200920170040
公开日2010年5月26日 申请日期2009年8月7日 优先权日2009年8月7日
发明者陈昱仁 申请人:陈昱仁