一种承载布槽结构的制作方法

文档序号:1774564阅读:219来源:国知局
专利名称:一种承载布槽结构的制作方法
技术领域
本实用新型是与染布机有关,提供ー种可降低织物的浴比,以大量节省染布时染液的用量的承载布槽结构改良。
背景技术
按,长型染布机如依布匹运行的方式,可分为两种一为导布管12在胴身11上方,如第I图所示,一般称之为上走式染布机。而另ー种导布管12在胴身11下方,则如第2图所示,一般称之为下走式染布机。现有长型染布机无论是属于何种形式,其胴身11底部设有承载布槽13,如第图3所示,该承载布槽13是盛装有染液14,使织物20通过导布管12后可随即进入承载布槽13底层的染液14中进行水浴处理以稳定其染剂。 而为了让织物20均能沉浸于染液14内,使得其染液14需装填至足以供织物20的浸泡高度Hl ;惟,该承载布槽13底部的断面是为呈一平面状,而该胴身11底部的断面为呈ー圆弧状,其圆弧状凹陷断面仍需由染液14加以填满,但其织物因受该承载布槽13的承载,而无法浸泡至圆弧状凹陷断面中的染液14范围中,因此将造成染液14使用的浪费,致针对此ー缺失,而有必要再加以改良,以求尽善尽美。

实用新型内容有鉴于此,本实用新型即在提供ー种可降低织物的浴比,以大量节省染布时染液的用量的承载布槽结构改良,为其主要目的。为达到上述目的,本实用新型的承载布槽是设于一染布机的胴身底部,用以承载染液,并可供织物通过;其中,该承载布槽的底部是设有多个管体,各管体是沿该胴身的延伸方向相互平行间隔排列,且各管体排列所形成的断面是朝胴身底部凸出。当织物承置于该承载布槽时,利用各管体的设置可让织物下沉接近该胴身底部,以大为降低染液的用量,并利用各管体间所形成之间隙可増加排水量。依据上述主要结构特征,所述各管体排列所形成断面可以为U型。依据上述主要结构特征,所述各管体排列所形成可以为W型。依据上述主要结构特征,所述的W型断面顶部的中央处进ー步设有ー隔板,而将该承载布槽分为两个空间以供两条织物通过,而可在同一时间内,进行对ニ条织物的染色工作,大幅增加染色的效率。依据上述主要结构特征,进ー步设有固定件,用以固定连接各管体,该固定件表面设有至少ー个容置管体的凹弧状凹槽,以供容置各管体。上述的固定件可以为U型结构体;或者可以为W型结构体。依据上述主要结构特征,该固定件沿该胴身延伸方向间隔排列于管体底部。本实用新型的有益效果是该承载布槽的底部是设有多个管体,各管体是沿该胴身的延伸方向相互平行间隔排列,且各管体排列所形成的断面是朝胴身底部凸出,当织物承置于该承载布槽时,利用各管体的设置可让织物下沉接近该胴身底部,以大为降低染液的用量,并利用各管体间所形成的间隙可増加排水量。

图I为一般上走式染布机的结构示意图。图2为一般下走式染布机的结构示意图。图3为现有承载布槽的使用配置參考图。图4为本实用新型中承载布槽一较佳实施例的结构立体图。图5为本实用新型中承载布槽一较佳实施例的使用配置參考图。图6为本实用新型中承载布槽一较佳实施例的结构分解图。主要组件符号说明浸泡高度Hl织物20浸泡高度H2承载布槽30延伸方向Tl管体31胴身11隔板32导布管12固定件40承载布槽13凹槽41染液1具体实施方式
本实用新型的特点,可參阅本案图式及实施例的详细说明而获得清楚地了解。如图4本实用新型承载布槽一较佳实施例的结构立体图,以及图5本实用新型承载布槽一较佳实施例的使用配置參考图所示,本实用新型的承载布槽30主要设于染布机的胴身11底部,用以承载染液14,并可供织物20通过。其中,该承载布槽30的底部是设有复数管体31,各管体31是沿该胴身11的延伸方向Tl相互平行间隔排列,且各管体31排列所形成的断面是朝胴身11底部凸出,如图所示的实施例中,该断面可以为W型;或者该断面可以为U型。当织物20承置于该承载布槽30时,利用各管体31的设置可让织物20下沉接近该胴身11底部,可降低该织物20的浸泡高度H2,可降低织物的浴比,以大量节省染布时染液的用量;且各管体31间是具有条状的间隙,可増加排水量。再者,该W型断面顶部的中央处进ー步设有ー隔板32,而将该承载布槽30分为两个空间以供两条织物20通过,而可在同一时间内,进行对ニ条织物20的染色工作,大幅增加染色的效率。如图5及图6所示,可进ー步设有复数固定件40,该固定件40表面是设有复数凹弧状的凹槽41,以供容置各管体31,用以固定连接各管体31,当然,该固定件40是配合各管体31的断面形状而形成W型结构体;或者可以为U型结构体,且各固定件40是沿该胴身的延伸方向Tl间隔排列于各管体31底部。综上所述,本实用新型的技术内容及技术特点已掲示如上,然而熟悉本项技术的人士仍可能基于本实用新型的掲示而作各种不背离本案创作精神的替换及修饰。因此,本实用新型的保护范围应不限于实施例所掲示,而应包括各 种不背离本实用新型的替换及修饰,并为以下的申请专利范围所涵盖。
权利要求1.一种承载布槽结构,设于染布机的胴身底部,其特征在于该承载布槽结构的底部设有多个管体,各管体沿该胴身的延伸方向相互平行间隔排列,且各管体排列所形成的断面向该胴身底部凸出。
2.根据权利要求I所述承载布槽结构,其特征在于,各管体排列所形成的断面为U型。
3.根据权利要求I所述承载布槽结构,其特征在于,各管体排列所形成的断面为W型。
4.根据权利要求3所述承载布槽结构,其特征在于,该W型断面的中央处顶部设有ー隔板。
5.根据权利要求1-4任一所述承载布槽结构,其特征在于,该承载布槽结构的底部还设有多个固定连接管体的固定件。
6.根据权利要求5所述承载布槽结构,其特征在于,该固定件表面设有至少ー个容置管体的凹弧状凹槽。
7.根据权利要求5所述承载布槽结构,其特征在于,该固定件为U型结构体。
8.根据权利要求5所述承载布槽结构,其特征在于,该固定件为W型结构体。
9.根据权利要求5所述承载布槽结构,其特征在于,该固定件沿该胴身延伸方向间隔排列于管体底部。
专利摘要本实用新型主要提供一种可降低织物的浴比,以大量节省染布时染液的用量的承载布槽。所述的承载布槽是设于一染布机的胴身底部,用以承载染液,并可供织物通过;其中,该承载布槽的底部是设有复数管体,各管体是沿该胴身的延伸方向相互平行间隔排列,且各管体排列所形成的断面是朝胴身底部凸出,当织物承置于该承载布槽时,利用各管体的设置可让织物下沉接近该胴身底部,以大为降低染液的用量,并利用各管体间所形成的间隙可增加排水量。
文档编号D06B23/04GK202595484SQ20122026820
公开日2012年12月12日 申请日期2012年6月8日 优先权日2012年6月8日
发明者林韦廷 申请人:林韦廷
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