新型胶圈张力架的制作方法

专利名称：新型胶圈张力架的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种环锭纺纱细纱机的牵伸系统应用的张力架装置。
背景技术：
如图I所示，在环锭纺纱细纱机的牵伸系统中，分为前区牵伸和后区牵伸，其中，前罗拉2和后罗拉8均采用罗拉传动、胶辊(包括前胶辊I、后胶辊7)加压被动运动的形式，唯独中罗拉4 (与中胶圈3配合)采用胶圈形式。胶圈9的运动是否顺畅直接影响到后区牵伸是否达到设计工艺要求的牵伸倍数(通常为1.2倍)，但是由于中罗拉4与中胶圈3为主动传动(MO)，胶圈与胶圈张力架5之间的摩擦阻力(Ml)、胶圈与下肖6之间的摩擦阻力(M2)、摇架胶圈阻力(M3)这三部分阻力存在，应确保M0 M1+M2+M3牵伸才不受影响，但目前的技术，Ml较大，就会引起胶圈转动速度达不到设计速度，使后区牵伸小于I. 2，影响成纱品质， 增加功耗。

实用新型内容针对上述问题，本实用新型提供一种新型胶圈张力架，减少胶圈和张力架的摩擦，达到改善成纱品质，减少功耗的目的。本实用新型的目的通过以下技术方案来具体实现一种新型胶圈张力架，包括对胶圈进行张力预紧的张力架本体，所述张力架本体的下部是与胶圈直接进行摩擦接触的张力块，所述张力块的摩擦接触面上设置有交错布置的凹槽。作为本实用新型的优选方案，在所述张力块的表面设有两排大小相同的凹槽，其中一排凹槽具有两个均匀布置的凹槽，另一排凹槽具有三个均匀布置的凹槽。两排凹槽的宽度叠加后等于张力块的宽度。每个所述凹槽均呈大小相同的矩形。本技术方案中，并不限定凹槽的个数。本实用新型通过改变胶圈张力架的表面形状，通过特定设计的凹槽，减少胶圈与张力架的接触面积，达到降低摩擦阻力(Ml)的效果。同时，考虑到胶圈各个部分与张力架均匀接触，保持磨损均匀，凹槽的设计在包覆面两侧以2+3的形式出现。

下面根据附图和实施例对本实用新型作进一步详细说明。图I是环锭纺纱细纱机的牵伸系统的剖面图。图2是新型胶圈张力架的结构图。
具体实施方式
如图2所示，并结合图1，本实用新型实施例所述的新型胶圈张力架，包括对胶圈9进行张力预紧的张力架本体50，所述张力架本体50的下部是与胶圈直接进行摩擦接触的张力块51，所述张力块51的摩擦接触面上设置有交错布置的凹槽52。作为本实用新型的优选方案，在所述张力块的表面设有两排大小相同的凹槽52，其中一排凹槽具有两个均匀布置的凹槽，另一排凹槽具有三个均匀布置的凹槽。两排凹槽的宽度叠加后等于张力块的宽度。每个所述凹槽52均呈大小相同的矩形，矩形的凹槽52的排列方向与胶圈9的运行方向相同。本技术方案中，并不限定凹槽的个数，能实现降低摩擦力并对胶圈9的表面产生均匀的摩擦即可。本实用新型通过改变胶圈张力架的表面形状，通过特定设计的凹槽，减少胶圈与张力架的接触面积，达到降低摩擦阻力(Ml)的效果。同时，考虑到胶圈各个部分与张力架 均匀接触，保持磨损均匀，凹槽的设计在包覆面两侧以2+3的形式出现。
权利要求1.一种新型胶圈张力架，包括对胶圈进行张力预紧的张力架本体(50)，所述张力架本体(50)的下部是与胶圈直接进行摩擦接触的张力块(51)，其特征在于，所述张力块(51)的摩擦接触面上设置有交错布置的凹槽(52)。
2.如权利要求I所述的新型胶圈张力架，其特征在于，在所述张力块(51)的表面设有两排大小相同的凹槽(52)，其中一排凹槽具有两个均匀布置的凹槽，另一排凹槽具有三个均匀布置的凹槽。
3.如权利要求2所述的新型胶圈张力架，其特征在于，两排凹槽的宽度叠加后等于张力块(51)的宽度。
4.如权利要求I至3中任一权利要求所述的新型胶圈张力架，其特征在于，每个所述凹槽(52)均呈大小相同的矩形。
专利摘要本实用新型公开了一种新型胶圈张力架，包括对胶圈进行张力预紧的张力架本体，所述张力架本体的下部是与胶圈直接进行摩擦接触的张力块，所述张力块的摩擦接触面上设置有交错布置的凹槽。作为本实用新型的优选方案，在所述张力块的表面设有两排大小相同的凹槽，其中一排凹槽具有两个均匀布置的凹槽，另一排凹槽具有三个均匀布置的凹槽。两排凹槽的宽度叠加后等于张力块的宽度。本实用新型通过改变胶圈张力架的表面形状，通过特定设计的凹槽，减少胶圈与张力架的接触面积，达到降低摩擦阻力(M1)的效果。同时，考虑到胶圈各个部分与张力架均匀接触，保持磨损均匀，凹槽的设计在包覆面两侧以2+3的形式出现。
文档编号D01H5/86GK202705605SQ201220346108
公开日2013年1月30日 申请日期2012年7月17日 优先权日2012年7月17日
发明者管锦文, 陆惠文 申请人:无锡经纬纺织科技试验有限公司