一种低浴比的气液染色机的制作方法
【技术领域】
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[0001]本实用新型涉及纺织印染设备技术领域，更具体地说是一种低浴比的气液染色机。
【背景技术】
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[0002]众所周知，气液染色机的匀染布料的过程，是坯布与水混合后不断的在染缸内部的布槽当中运转的过程，洗水时水流的方向与坯布的行进方向相同，洗水后的污水则通过外接的排水管排出，但由于水与染液混合后与还布只接触一次就排出，不仅耗费的水资源过多，而且水中的染液未能充分与坯布接触和上染，浴比过高(浴比度是指浸染方式织物与染液之间的比值)。导致染色成本过高。
【实用新型内容】:
[0003]针对【背景技术】所存在的不足，本实用新型提供一种针对性强、结构简单的低浴比的气液染色机，通过在染缸内部增设回流收集器，有效降低染色机的浴比及耗水量。
[0004]本实用新型为实现其目的所采用的技术方案是:一种低浴比的气液染色机，结构包括一内部设置有布槽的染缸。所述的布槽与染缸的底部之间设置有回流腔，所述的回流腔内部固定有回流收集器，所述的回流收集器置于染缸底部且位于下水口的前端。
[0005]进一步采取的措施是:所述的回流收集器呈半圆弧结构。
[0006]本实用新型通过这样的设计所具有的优点在于:工作时布槽内的坯布将一部分的水一起带上去，经提布辊的挤压作用实现水布分离，分离的水通过染缸侧壁的夹管收集后快速回到染缸底部的回流腔，回流收集器将污水直接阻隔在回流腔的前半部并经下水口直接流出，染色时达到一种快速回水的目的，减少耗水量，降低染色浴比。
[0007]针对性强，结构简单。
【附图说明】
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[0008]图1是本实用新型的结构示意图。
[0009]图中，1、染缸，2、布槽，3、回流腔，4、回流收集器。
【具体实施方式】
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[0010]下面结合具体实施例和附图对本实用新型作进一步说明。
[0011]结合图1所示，本实用新型的结构包括一内部设置有布槽2的染缸I，所述的布槽2与染缸I的底部之间设置有回流腔3，所述的回流腔3内部固定有回流收集器4，所述的回流收集器4置于染缸I的底部且位于下水口的前端。
[0012]所述的回流收集器4呈半圆弧结构。
[0013]以上所述仅为本实用新型的【具体实施方式】，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型所揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种低浴比的气液染色机，包括一内部设置有布槽的染缸，其特征在于:所述的布槽与染缸的底部之间设置有回流腔，所述的回流腔内部固定有回流收集器，所述的回流收集器置于染缸底部且位于下水口的前端。2.根据权利要求1所述的一种低浴比的气液染色机，其特征在于:所述的回流收集器呈半圆弧结构。
【专利摘要】本实用新型提供一种低浴比的气液染色机，结构包括一内部设置有布槽的染缸，所述的布槽与染缸的底部之间设置有回流腔，所述的回流腔内部固定有回流收集器，所述的回流收集器置于染缸底部且位于下水口的前端，所述的回流收集器呈半圆弧结构；工作时布槽内的坯布将一部分的水一起带上去，经提布辊的挤压作用实现水布分离，分离的水通过染缸侧壁的夹管收集后快速回到染缸底部的回流腔，回流收集器将污水直接阻隔在回流腔的前半部并经下水口直接流出，染色时达到一种快速回水的目的，减少耗水量，降低染色浴比。
【IPC分类】D06B3/28, D06B23/20
【公开号】CN205258840
【申请号】CN201521130915
【发明人】孙毅
【申请人】广州科光机械有限公司
【公开日】2016年5月25日
【申请日】2015年12月29日