专利名称：一种立体半抛带暗花装饰瓷质仿古砖的生产工艺方法
技术领域：
本发明涉及一种地面或者墙面装饰用瓷质仿古砖生产技术领域，具体 地说是涉及一种立体半抛带暗花装饰瓷质仿古砖的生产工艺方法。
背景技术：
目前市场上的装饰用普通瓷质仿古砖，无立体点釉的保护，图案和颜 色不耐磨，时间一久，就会变得模糊不清，防污性差；还有就是在砖面上 施点釉，但点釉太小，又不耐磨，且砖面上无暗花效果，整个制品层次不 丰富，过渡少，不具有自然的玉质感效果。普通瓷质仿古砖的图案和颜色 接近天然石材，但是不具有立体玉质感带暗花的仿天然石材，也就不具有 独特的装饰效果。因此，需要发明一种新的装饰瓷质仿古砖生产工艺方法， 解决上述问题。
发明内容
本发明针对上述现有技术存在的不足，提供一种产品表面施立体点釉， 高温烧成后半抛形成有天然立体玉质感，带暗花装饰的瓷质仿古砖生产工 艺方法。
为实现上述目的，本发明提供的技术方案为 一种立体半抛带暗花装 饰瓷质仿古砖的生产方法，该方法是先在干燥后的瓷质坯体上施一层哑光 面釉后，再用胶辊在砖面上印一层花釉，然后用平板厚模印刷一层半透明 釉料，再施以立体透明点釉，经1210 122()GC高温烧成后，对立体透明点 釉进行半抛形成半抛点釉，产生一个个点光，从而制得立体半抛带暗花装饰瓷质仿古砖。
所述胶辊为1~4色多种组合的具有仿天然装饰图案的辊筒。
胶辊花釉是按重量份配方釉粉40 100份、司马印油100~150份、色 料5 60份配置而成，其细度控制在325目《0.5%，出球后必须过200目筛， 陈腐12小时以上。
平板厚模印刷的半透明釉料是按重量份配方釉粉80 100份、硅酸锆 卜20份、司马印油30 50份、印油30 5份配制而成。
所述的立体透明点釉是按重量份配方釉料90 100份、三聚磷酸钠0.2 份、甲基0.2份配制而成。
本发明是在现有瓷质仿古砖的生产工艺基础上，包括哑光面釉、透明点 釉和胶辊印花釉、平板厚模印暗花(半透明釉料)，立体点釉半抛光等多种 生产工艺的复合。高温烧成后半抛形成有天然立体玉质感，带暗花装饰的瓷 质仿古砖生产工艺方法，由于设置了高温立体点釉和暗花效果，使得制品表 面质感更接近天然石材；由于瓷质仿古砖设置为经过1210 1220QC的高温烧 制并且半抛光而成，制品强度高，有良好的防污性和耐磨性；本发明制备的 瓷质仿古砖能机械化批量生产，能完全替代天然石材，因而成本低廉，环保 实用。
图1为本发明的瓷质仿古砖生产工艺流程
图2为本发明的瓷质仿古砖一个实施例立体半抛前的截面示意图 图3为本发明的瓷质仿古砖一个实施例立体半抛后的截面示意图 图4为本发明的瓷质仿古砖一个实施例的立体半抛面示意图 图5为本发明的瓷质仿古砖一个实施例的暗花纹理示意6为本发明的立体点釉制备简易装置结构示意图
具体实施例方式
本发明的方法是先在干燥后的瓷质坯体上施一层哑光面釉后，再用胶 辊在砖面上印一层花釉，然后用平板厚模印刷一层半透明釉料，再施以立
体透明点釉，经1210 1220QC高温烧成后，对立体透明点釉进行半抛形成. 半抛点釉，产生一个个点光，从而制得立体半抛带暗花装饰瓷质仿古砖。
下面结合附图详细介绍本发明，其具体操作过程如下本发明的瓷质仿 古砖立体半抛带暗花装饰的整个生产工艺流程如图1所示。
1、设计瓷质仿古砖坯体配方时，为了控制好砖的变形，在原有配方的 基础上适量提高氧化铝的含量，使坯体抵抗高温变形的能力增强，同时降 低坯体的热膨胀系数。使用的原料为铝砂、南拓砂、恩平石粉、苍梧石粉、 银盏砂、黑滑石和纯泥等多种泥砂料的复合。本实施例的坯体配方为(重. 量份)铝砂16~20%、南拓砂8~15%、恩平石粉16 22%、苍梧石粉16 22%、 银盏砂10 20%、黑滑石1~5%、纯泥13 20%，经球磨加工和喷雾干燥形 成坯粉。
2、同时要进行面釉和花釉配方的设计，为了能够适应坯料的烧成制度和 提高坯釉的结合性，我们选用进口的瓷质仿古砖专用高温哑光面釉，适量添 加一些辅助原料，如煅烧高岭土可适当提高面釉的烧成温度。通过对比釉面 效果、防污性能、砖的变形情况，本实施例的面釉基础配方(重量份):RAY-49k 成釉85~95%、煅烧高岭土 5~15%，经球磨加工，过筛除铁，陈腐备用。同 时根据不同场合的需要，面釉配方可配以不同的色料，制成更多不同的产品。 辊筒花釉配方全部采用仿古砖专用色料和釉粉，是把釉粉、印油、多种色料 按一定比例配制而成。本实施例的花釉配方(重量份)CSSP-304釉粉40 100%、司马印油100 150°/。、色料5 60%。其细度控制在325目《0.5%，出 球后必须过200目筛，陈腐12小时以上，才能使用。本实施例采用了四色辊 筒印花，图案为仿天然石材图案、云彩状图案中的一种或者多种图案的结合， 保证图案的丰富性。
3、本发明中所使用的一种特殊的半透明釉料——暗花釉料是把进口的瓷 质仿古砖专用高温哑光透明釉粉(CSSP-304)、硅酸锆、印袖按一定比例配-制而成。本实施例的暗花釉料的配方(重量份)CSSP-304釉粉80 100M、 硅酸锆1 20%、司马印油30~50%、 A100印油30 50%。将上述配制而成特 殊的半透明釉料，通过平板厚模印花，配合自然花纹图案(如图4所示)所 形成的暗花纹理经高温烧成后若隐若现，与明亮的胶辊图案相衬托，相互协 调、图案逼真，整个图案更丰富，使得瓷质仿古砖的外在感观更加接近天然
'石材。
4、本发明中进行立体透明点釉的制备和施点釉工艺的创新。本发明的立. 体透明点釉主要采用全新进口的瓷质仿古砖专用高温耐磨透明釉料 (RAY-447)，本实施例的立体点釉配方(重量份)RAY-447釉料90~100%、 三聚磷酸钠0.2%、甲基0.2%，经过加工形成点釉浆8，在砖坯ll面上均匀 地施一层面釉层10后，印花，然后再施一层立体点釉l，如图2所示，试烧， 点釉凸起，透明，立体感极强。为了确保立体点釉能均匀地施在砖面上，本 '发明中利用装有变频器的双峰釉柜如图5进行立体施点工艺，对釉柜的双峰 3施釉量分别作出测量，保持两边一致，利用变频器4调节双峰釉柜的甩釉' 电机5转速来控制点釉的大小，同时使用稳定的供釉泵6供点釉浆8，使得 点釉重量、立体大小做到稳定可控的水平，保证了大生产的顺利进行。经过 烧成温度为(窑炉表温)1210 1220QC、烧成周期为65分钟的窑炉进行烧成，烧后产品吸水率《0.5%，结构致密，耐磨，点釉凸起，较好地保护了印花效
果，防污性能优异。
5、最后对烧后的立体点釉进行半抛工艺加工，效果如图3和图4所示， 半抛后的立体点釉1带有闪光的小圆面2，凹凸手感柔顺，立体感和玉质感 极强，与哑光共辉映，装饰层次更丰富。由于点釉的形状各异，大小不同， 半抛后所形成的光面形状大小也不同。为保证点釉的立体感，对立体点釉不 能抛太多。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，不能以此来限定本发明之权利 范围，因此本发明申请专利范围所作的等同变化，仍属本发明所涵盖的范围。
权利要求
1、一种立体半抛带暗花装饰瓷质仿古砖的生产方法，其特征在于该方法是先在干燥后的瓷质坯体上施一层哑光面釉后，再用胶辊在砖面上印一层花釉，然后用平板厚模印刷一层半透明釉料，再施以立体透明点釉，经1210～1220℃高温烧成后，对立体透明点釉进行半抛形成半抛点釉，产生一个个点光，从而制得立体半抛带暗花装饰瓷质仿古砖。
2、 根据权利要求1所述的立体半抛带暗花装饰瓷质仿古砖的生产方法， 其特征在于所述胶辊为1 4色多种组合的具有仿天然装饰图案的辊筒。
3、 根据权利要求1所述的立体半抛带暗花装饰瓷质仿古砖的生产方法， 其特征在于胶辊花釉是按重量份配方釉粉40 100份、司马印油100~150 份、色料5 60份配置而成，其细度控制在325目《0.5%，出球后必须过 200目筛，陈腐12小时以上。
4、 根据权利要求1所述的立体半抛带暗花装饰瓷质仿古砖的生产方法， 其特征在于平板厚模印刷的半透明釉料是按重量份配方釉粉80 100份、 硅酸锆1 20份、司马印油30 50份、印油30 5份配制而成。
5、 根据权利要求1所述的立体半抛带暗花装饰瓷质仿古砖的生产方法， 其特征在于，所述的立体透明点釉是按重量份配方釉料90 100份、三聚 磷酸钠0.2份、甲基0.2份配制而成。
全文摘要
本发明公开了一种立体半抛带暗花装饰瓷质仿古砖的生产工艺方法，该方法是先在干燥后的瓷质坯体上施一层哑光面釉后，再用胶辊在砖面上印一层花釉，然后用平板厚模印刷一层半透明釉料，再施以立体透明点釉，经1210～1220℃高温烧成后，对立体透明点釉进行半抛形成半抛点釉，产生一个个点光，从而制得立体半抛带暗花装饰瓷质仿古砖。本发明制备的瓷质仿古砖能机械化批量生产，能完全替代天然石材，成本低廉，环保实用。
文档编号C04B33/32GK101497538SQ20081022043
公开日2009年8月5日 申请日期2008年12月25日 优先权日2008年12月25日
发明者刘一军, 吴耀驹, 李万平, 谢志军, 赵存河 申请人:萧 华