专利名称：一种玻璃基板成型区域气流、温度和洁净度的控制方法
技术领域：
本发明属于液晶显示器制作领域，涉及一种成型区域的气流控制方法。
技术背景-
成型区域的生产任务是将液体的玻璃熔液，经过特定的成型设备形成在一定规格范 围内具有稳定的厚度、足够的宽度、较小的应力及达到一定的表面平整度的半成品玻璃 板。成型区域主要设备包括成型使用的马弗炉，定型使用的成型区，消除应力及翘曲的 退火炉等设备。为了提高产品生产的良品率，增加生产线的稳定性，就需要将成型区域 的环境稳定下来。
在现有技术中，成型区域中的不同设备之间温差大，设备内外的气流扰动大，洁净度 差，温度不稳定、洁净度差和气流不稳定降低了玻璃熔液成型的质量，提高了生产成本， 降低了平板液晶显示器玻璃基板的成品率，同时导致整个平板液晶显示器玻璃基板的生产 线不能够稳定工作。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术的缺点，提供一种玻璃基板成型区域气流、温 度和洁净度的控制方法，包括以下步骤
(1) 布置炉体:在一楼l、 二楼2、三楼3和四楼4组成的四层楼体空间内由上至下
设置马弗炉8、成型区7、退火炉一区6和退火炉二区5;
(2) 控制炉体外部气流四楼4采用顶部送风、使得四楼4空间气压比三楼3空间 气压大0. 001-0. 05个标准大气压，三楼3使用侧壁送风、使得三楼3空间气压比二楼2 空间气压大0. 001-0. 05个标准大气压，二楼2侧壁送风、 一楼1向外抽风、使二楼2 空间气压比一楼1空间气压大0. 05-0. 1个标准大气压；这样四楼4空间气压维持在1. 1 个标准大气压，三楼3空间气压维持在1.05个标准大气压，二楼2空间气压维持在1 个标准大气压， 一楼1空间气压维持在0.9个标准大气压；四层楼体空间内的气流由上 至下流动；
(3)控制炉体内部气流在马弗炉8上设置马弗炉挡板15阻止炉内气流上行，在成 型区7设置成型区挡板11阻止炉内气流上行，在退火炉一区6设置退火炉一区挡板10和退火炉一区牵引辊14阻止炉内气流上行，在退火炉二区5设置退火炉二区挡板9和退火 炉二区牵引辊13阻止炉内气流上行，在退火炉二区5外部设置炉外挡板12阻止炉内气流 上行，其中成型区挡板11固定在成型区7内部，退火炉一区挡板10、退火炉二区挡板9 和炉外挡板12能够活动；马弗炉8、成型区7、退火炉一区6和退火炉二区5组成的空间 中的气压维持稳定；
(4) 控制温度:通过温度控制设备(空调)控制四层楼体空间的温度，保持四层楼体空 间的温度恒定；
(5) 控制洁净度:通过除尘设备(除尘空调或吸尘器)控制四层楼体空间的洁净度，保 持四层楼体空间的洁净度。
采用本发明的方法，可以提高平板液晶显示器玻璃基板生产线的稳定性、提高平板 液晶显示器玻璃基板的成品率，提高平板液晶显示器玻璃基板的质量。
— 图l为本发明的结构示意其中l为一楼，2为二楼，3为三楼，4为四楼，5为退火炉二区，6为退火炉一区， 7为成型区，8为马弗炉,9为退火炉二区挡板，IO为退火炉一区挡板，ll为成型区挡板， 12为炉外挡板，13为退火炉二区牵引辊，14为退火炉一区牵引辊，15为马弗炉挡板。
具体实施方式
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下面结合附图对本发明做进一步详细描述
参见图1， 一种玻璃基板成型区域气流、温度和洁净度的控制方法，包括以下步骤
(1) 布置炉体:在一楼l、 二楼2、三楼3和四楼4组成的四层楼体空间内由上至下 设置马弗炉8、成型区7、退火炉一区6和退火炉二区5;
(2) 控制炉体外部气流四楼4采用顶部送风、使得四楼4空间气压比三楼3空间 气压大0. 001-0. 05个标准大气压，三楼3使用侧壁送风、使得三楼3空间气压比二楼2 空间气压大0. 001-0. 05个标准大气压，二楼2侧壁送风、 一楼1向外抽风、使二楼2 空间气压比一楼1空间气压大0. 05-0.1个标准大气压；这样四楼4空间气压维持在1. 1 个标准大气压，三楼3空间气压维持在1.05个标准大气压，二楼2空间气压维持在1 个标准大气压， 一楼1空间气压维持在0.9个标准大气压；四层楼体空间内的气流由上 至下流动；
(3)控制炉体内部气流在马弗炉8上设置马弗炉挡板15阻止炉内气流上行，在成型区7设置成型区挡板11阻止炉内气流上行，在退火炉一区6设置退火炉一区挡板10和 退火炉一区牵引辊14阻止炉内气流上行，在退火炉二区5设置退火炉二区挡板9和退火 炉二区牵引辊13阻止炉内气流上行，在退火炉二区5外部设置炉外挡板12阻止炉内气流 上行，其中成型区挡板11固定在成型区7内部，退火炉一区挡板10、退火炉二区挡板9 和炉外挡板12能够活动；马弗炉8、成型区7、退火炉一区6和退火炉二区5组成的空间 中的气压维持稳定；
(4) 控制温度:通过温度控制设备(空调)控制四层楼体空间的温度，保持四层楼体空 间的温度恒定；
(5) 控制洁净度:通过除尘设备(除尘空调)控制四层楼体空间的洁净度，保持四层楼 体空间的洁净度。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发 明的具体实施方式
仅限于此，对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本 发明构思的前提下，还可以做出若干简单的推演或替换，都应当视为属于本发明由所提交 的权利要求书确定专利保护范围。
权利要求
1、一种玻璃基板成型区域气流、温度和洁净度的控制方法，其特征在于，该方法包括以下步骤(1)布置炉体在一楼(1)、二楼(2)、三楼(3)和四楼(4)组成的四层楼体空间内由上至下设置马弗炉(8)、成型区(7)、退火炉一区(6)和退火炉二区(5)；(2)控制炉体外部气流四楼(4)采用顶部送风、使得四楼(4)空间气压比三楼(3)空间气压大0.001-0.05个标准大气压，三楼(3)使用侧壁送风、使得三楼(3)空间气压比二楼(2)空间气压大0.001-0.05个标准大气压，二楼(2)侧壁送风、一楼(1)向外抽风、使二楼(2)空间气压比一楼(1)空间气压大0.05-0.1个标准大气压；(3)控制炉体内部气流在马弗炉(8)上设置马弗炉挡板15阻止炉内气流上行，在成型区(7)设置成型区挡板(11)阻止炉内气流上行，在退火炉一区(6)设置退火炉一区挡板(10)和退火炉一区牵引辊(14)阻止炉内气流上行，在退火炉二区(5)设置退火炉二区挡板(9)和退火炉二区牵引辊(13)阻止炉内气流上行，在退火炉二区(5)外部设置炉外挡板(12)阻止炉内气流上行，其中成型区挡板(11)固定在成型区(7)内部，退火炉一区挡板(10)、退火炉二区挡板(9)和炉外挡板(12)能够活动；马弗炉(8)、成型区(7)、退火炉一区(6)和退火炉二区(5)组成的空间中的气压维持稳定；(4)控制温度通过温度控制设备控制四层楼体空间的温度，保持四层楼体空间的温度恒定；(5)控制洁净度通过除尘设备控制四层楼体空间的洁净度，保持四层楼体空间的洁净度。
2、根据权利要求1所述的一种玻璃基板成型区域气流、温度和洁净度的控制方法， 其特征在于步骤一中四楼(4)空间气压维持在1.1个标准大气压，三楼(3)空间气压维持 在1.05个标准大气压，二楼(2)空间气压维持在1个标准大气压， 一楼(l)空间气压维持 在0.9个标准大气压；四层楼体空间内的气流由上至下流动。
全文摘要
本发明公开了一种玻璃基板成型区域气流、温度和洁净度的控制方法，该方法包括以下步骤布置炉体、控制炉体外部气流、控制炉体内部气流、控制温度和控制洁净度；采用本发明的方法，可以提高平板液晶显示器玻璃基板生产线的稳定性、提高平板液晶显示器玻璃基板的成品率，提高平板液晶显示器玻璃基板的质量。
文档编号C03B25/00GK101531449SQ200910021790
公开日2009年9月16日 申请日期2009年3月31日 优先权日2009年3月31日
发明者剑 徐, 李文军 申请人:陕西彩虹电子玻璃有限公司