一种氮化硅陶瓷球的生产装置制造方法

文档序号:1894469阅读:255来源:国知局
一种氮化硅陶瓷球的生产装置制造方法
【专利摘要】本实用新型属于陶瓷球制备【技术领域】,特别涉及一种氮化硅陶瓷球的生产装置。所述生产装置,包括配料装置、干燥装置、成型设备以及烧结设备,所述装置还包括定型设备;所述配料装置的出料口与干燥装置的进料口连接,干燥装置的出料口与成型设备的进料口连接,成型设备的出料口与定型设备的进料口连接,定型设备的出料口与烧结设备的进料口连接。本实用新型设备可以实现连续生产,提高了工作效率;同时采用本实用新型氮化硅陶瓷球生产装置可以获得强度高、抗冲击性能优异的氮化硅陶瓷球。
【专利说明】一种氮化硅陶瓷球的生产装置
【技术领域】
[0001]本实用新型属于陶瓷球制备【技术领域】,特别涉及一种氮化硅陶瓷球的生产装置。【背景技术】
[0002]氮化硅,化学式为Si3N4,是一种重要的结构陶瓷材料。它是一种超硬物质,本身具有润滑性,并且耐磨损,为原子晶体;高温时抗氧化。而且它还能抵抗冷热冲击,在空气中加热到1000°C以上,急剧冷却再急剧加热,也不会碎裂。正是由于氮化硅陶瓷具有如此优异的特性,常常用来制造轴承、气轮机叶片、机械密封环、永久性模具等机械构件。氮化硅陶瓷球是在非氧化气氛中高温烧结的精密陶瓷,具有高强度,高耐磨性,耐高温,耐腐蚀,耐酸、碱、可在海水中长期使用,并具有绝电绝磁的良好性能。其密度小,几乎是轴承钢的1/3重量,旋转时离心力小,可以实现高速运转。其还具有自润滑性,可以使用到无润滑介质高污染的环境中,成为陶瓷轴承、混合陶瓷球轴承的首选球珠。目前氮化硅陶瓷球的生产设备大部分为间歇生产设备,主要由配料桶、干燥设备、成型设备、烧结设备组成,且目前设备制得的氮化硅陶瓷球强度和抗冲击性能有待提高。
实用新型内容
[0003]本实用新型的目的是提供一种氮化硅陶瓷球的生产装置,制得的氮化硅陶瓷球强度和抗冲击性能优异。
[0004]本实用新型采用的技术方案如下:
[0005]一种氮化硅陶瓷球的生产装置,包括配料装置、干燥装置、成型设备以及烧结设备,所述装置还包括定型设备;所述配料装置的出料口与干燥装置的进料口连接,干燥装置的出料口与成型设备的进料口连接,成型设备的出料口与定型设备的进料口连接,定型设备的出料口与烧结设备的进料口连接。
[0006]优选的,所述定型设备与烧结设备之间连接有脱胶装置,所述定型设备的出料口与脱胶装置的进料口连接,所述脱胶装置的出料口与烧结设备的进料口连接。
[0007]进一步,所述烧结设备的出料口与抛光设备进料口连接。
[0008]所述配料装置为拌料罐,所述干燥装置为喷雾干燥机,所述成型设备为压球机,所述烧结设备为气压烧结炉。
[0009]所述定型设备为等静压设备,所述脱胶装置为真空脱胶炉。
[0010]本实用新型是以氮化硅粉为原料进行生产的氮化硅陶瓷球生产装置,其实现了连续生产,且采用本实用新型提供的设备,并配套相应的配料制浆、喷雾干燥、成型、定型(以及脱胶)、烧成、抛光工艺可以获得强度高、抗冲击性能优异的氮化硅陶瓷球。
[0011]本实用新型与现有技术相比,具有如下优点:
[0012]本实用新型设备可以实现连续生产,提高了工作效率;同时采用本实用新型氮化硅陶瓷球生产装置可以获得强度高、抗冲击性能优异的氮化硅陶瓷球。【具体实施方式】
[0013]以下以具体实施例来说明本实用新型的技术方案,但本实用新型的保护范围不限于此:
[0014]实施例1
[0015]如图1所示,一种氮化硅陶瓷球的生产装置,包括配料装置1、干燥装置2、成型设备3以及烧结设备5,所述装置还包括定型设备4 ;所述配料装置I的出料口与干燥装置2的进料口连接,干燥装置2的出料口与成型设备3的进料口连接,成型设备3的出料口与定型设备4的进料口连接,定型设备4的出料口与烧结设备5的进料口连接,所述烧结设备5的出料口与抛光设备6进料口连接。
[0016]作为一种优选方式,所述定型设备4与烧结设备5之间还可以连接有脱胶装置,所述定型设备4的出料口与脱胶装置的进料口连接,所述脱胶装置的出料口与烧结设备5的进料口连接。
[0017]所述配料装置I为拌料罐,所述干燥装置2为喷雾干燥机,所述成型设备3为压球机,所述定型设备4为等静压设备,所述烧结设备5为气压烧结炉,所述脱胶装置为真空脱胶炉。
[0018]采用上述装置时,相应的生产工艺如下:
[0019]取粒径破碎至0.4μ m左右的氮化硅粉(纯度为99.5%) 1000重量份(下同)以及氧化钇1-10份、氧化铝1-10份、纳米氮化硅1-10份以及乙醇40-100份加入拌料罐I中,充分混合均匀并搅拌8-10小时后进入喷雾干燥机2干燥,干燥后的物料进入压球机3并成型为陶瓷球,之后进入等静压设备4于150-250MPa的压力下保压3_5min进行定型,然后进入真空脱胶炉进行脱胶,于温度为1100-1200°C进行8-12小时;之后入气压烧结炉5烧结,烧成温度不低于1700°C,时间为10-14小时。
[0020]根据上述设备和工艺获得的氮化硅陶瓷球抗压强度不低于3.2GPa,,抗弯强度不低于850MPa,韧性不低于7.0Nm/cm2,使用温度1000°C以上。
【权利要求】
1.一种氮化硅陶瓷球的生产装置,包括配料装置、干燥装置、成型设备以及烧结设备,其特征在于,所述装置还包括定型设备;所述配料装置的出料口与干燥装置的进料口连接,干燥装置的出料口与成型设备的进料口连接,成型设备的出料口与定型设备的进料口连接,定型设备的出料口与烧结设备的进料口连接。
2.如权利要求1所述的氮化硅陶瓷球的生产装置,其特征在于,所述定型设备与烧结设备之间连接有脱胶装置,所述定型设备的出料口与脱胶装置的进料口连接,所述脱胶装置的出料口与烧结设备的进料口连接。
3.如权利要求2所述的氮化硅陶瓷球的生产装置,其特征在于,所述烧结设备的出料口与抛光设备进料口连接。
4.如权利要求3所述的氮化硅陶瓷球的生产装置,其特征在于,所述配料装置为拌料罐,所述干燥装置为喷雾干燥机,所述成型设备为压球机,所述烧结设备为气压烧结炉。
5.如权利要求3所述的氮化硅陶瓷球的生产装置,其特征在于,所述定型设备为等静压设备,所述脱胶装置为真空脱胶炉。
【文档编号】C04B35/622GK203558978SQ201320683139
【公开日】2014年4月23日 申请日期:2013年10月30日 优先权日:2013年10月30日
【发明者】刘宗才, 田世昌, 刘荣安 申请人:郑州骏科纳鑫特种陶瓷制品有限公司
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