无障碍淋浴房的制作方法

文档序号:36198125发布日期:2023-11-30 02:06阅读:34来源:国知局
无障碍淋浴房的制作方法

本技术涉及卫浴设备,特别涉及一种无障碍淋浴房。


背景技术:

1、淋浴房是指单独的淋浴隔间。淋浴房充分利用室内一角,用围栏将淋浴范围清晰地划分出来,形成相对独立的洗浴空间。淋浴房的一种类型为双趟门结构,包括门框架、设置于门框架上下两部分的上导轨,以及安装于上导轨的移动门体。

2、淋浴房的移动门体的下部则设置有地漏用于门体和框架上残留的水流或者部分淋浴房内部的水流进行排水。现有的淋浴房产品需在地漏上方安装高出地面的挡水条配合使用,用于门体下部的挡水作用,但是当开门后挡水条影响进出,容易出现绊脚摔跤风险,存在有移动门体的挡水密封性和安全性无法兼顾的问题。


技术实现思路

1、本实用新型的主要目的是提出一种无障碍淋浴房,旨在同时实现无障碍淋浴房的移动门体的挡水密封性和安全性。

2、为实现上述目的,本实用新型提出的无障碍淋浴房,包括:

3、框架;

4、地漏,所述地漏用于设于地面内,所述地漏的上表面与地面平齐设置,所述地漏内靠近上表面的一侧设置有第一磁体;

5、移动门体,所述移动门体的一端活动连接于所述框架;及

6、磁吸组件,所述磁吸组件包括型材、第二磁体、第三磁体和挡水壳,所述型材的一端安装于所述移动门体的另一端,所述型材朝向所述地漏的端面开设有安装槽,所述第二磁体设于所述挡水壳内,所述挡水壳的一端活动设于所述安装槽的槽口,所述第三磁体设于所述安装槽的底壁;

7、所述第一磁体对所述第二磁体的磁吸力大于所述第三磁体对所述第二磁体的磁吸力,当打开所述移动门体时,所述第三磁体吸附所述第二磁体,所述挡水壳的一端滑入所述安装槽内,当关闭所述移动门体时,所述第一磁体吸附所述第二磁体,所述挡水壳的一端滑出所述安装槽,所述挡水壳抵持所述地漏的上表面。

8、可选地,所述安装槽靠近底部的槽侧壁凸设有第一限位块,所述第三磁体设于所述第一限位块和所述安装槽的槽底壁之间。

9、可选地,所述安装槽的槽口周缘沿径向向内凸设有第二限位块,所述挡水壳包括相连接的限位部和抵接部,所述限位部内形成有安装腔,所述第二磁体设于所述安装腔内,所述限位部活动设于所述第一限位块和所述第二限位块之间,所述抵接部位于所述安装槽的槽口外。

10、可选地,所述限位部靠近所述安装槽的槽底壁的一侧周缘沿径向凸设有第三限位块,所述第三限位块活动限位于所述第一限位块和所述第二限位块之间。

11、可选地,所述抵接部背离所述限位部的一侧表面为弧形面;

12、和/或,所述抵接部的截面宽度大于所述安装槽的槽口宽度。

13、可选地,所述地漏包括主体、过水件和罩盖,所述主体设于地面内,所述主体形成有排水槽,所述排水槽的槽口与所述地面平齐设置,所述排水槽的槽底开设有排水口,所述过水件设于所述排水槽内,所述过水件的侧壁和底壁与所述排水槽的槽侧壁之间均间隔设置形成有过水间隙,所述罩盖盖设于所述过水件背离所述排水槽槽底的一侧表面,所述第一磁体设于所述过水件和所述罩盖之间。

14、可选地,所述过水件朝向所述排水槽的槽底壁的一侧凹设形成有第一容纳槽,所述第一容纳槽的朝向所述排水槽侧壁的相对两侧开设有多个过滤孔,多个所述过滤孔呈阵列排布。

15、可选地,所述排水槽的槽底壁凸设有第一限位件,所述第一容纳槽的槽口边沿凹设有限位口,所述第一限位件插接于所述限位口内。

16、可选地,所述排水槽的槽底壁凸设有第二限位件,所述第二限位件背离所述排水槽的槽底壁的表面凹设有限位槽,所述限位槽沿所述排水槽的延伸方向延伸设置,所述过水件部分插接于所述限位槽内。

17、可选地,所述过水件朝向背离所述排水槽的槽底壁的一侧凹设形成有第二容纳槽,所述罩盖设于所述第二容纳槽内,所述第一磁体设于所述第二容纳槽内。

18、本实用新型技术方案通过位于移动门体的底部一端连接有磁吸组件,磁吸组件包括型材、第二磁体、第三磁体和挡水壳,型材的一端安装于移动门体的底部一端,型材的朝向地漏的端面开设有安装槽,第二磁体设于挡水壳内,挡水壳部分活动设于安装槽内,第三磁体设于安装槽的底壁,地漏设于地面内,地漏的上表面与地面平齐设置,地漏靠近上表面的一侧设置有第一磁体。当打开移动门体时,磁吸组件远离地漏的第一磁体,第二磁体只受到第三磁体的磁吸力,因此挡水壳被吸附至型材内部,隐藏于安装槽内,达到开门后挡水条隐藏的效果,避免了绊脚摔跤的现象;当关闭移动门体时,磁吸组件靠近地漏的第一磁体,第二磁体同时受到第一磁体和第三磁体的磁吸力,由于第一磁体的磁吸力大于第三磁体的磁吸力,因而第二磁体朝向第一磁体即地漏的方向移动,挡水壳被吸附至与地漏的上表面贴合,形成密封效果,达到了移动门体对于淋浴房内部密封挡水的效果。该淋浴房可以同时兼顾关门挡水和开门隐藏挡水条的作用,同时满足淋浴房的挡水密封性和安全性。



技术特征:

1.一种无障碍淋浴房,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的无障碍淋浴房,其特征在于,所述安装槽(411)靠近底部的槽侧壁凸设有第一限位块(413),所述第三磁体(43)设于所述第一限位块(413)和所述安装槽(411)的槽底壁之间。

3.如权利要求2所述的无障碍淋浴房,其特征在于,所述安装槽(411)的槽口周缘沿径向向内凸设有第二限位块(415),所述挡水壳(44)包括相连接的限位部(441)和抵接部(443),所述限位部(441)内形成有安装腔,所述第二磁体(42)设于所述安装腔内,所述限位部(441)活动设于所述第一限位块(413)和所述第二限位块(415)之间,所述抵接部(443)位于所述安装槽(411)的槽口外。

4.如权利要求3所述的无障碍淋浴房,其特征在于,所述限位部(441)靠近所述安装槽(411)的槽底壁的一侧周缘沿径向凸设有第三限位块(441a),所述第三限位块(441a)活动限位于所述第一限位块(413)和所述第二限位块(415)之间。

5.如权利要求3或4所述的无障碍淋浴房,其特征在于,所述抵接部(443)背离所述限位部(441)的一侧表面为弧形面;

6.如权利要求1至4中任意一项所述的无障碍淋浴房,其特征在于,所述地漏(20)包括主体(23)、过水件(25)和罩盖(27),所述主体(23)设于地面内,所述主体(23)形成有排水槽(231),所述排水槽(231)的槽口与所述地面平齐设置,所述排水槽(231)的槽底开设有排水口(233),所述过水件(25)设于所述排水槽(231)内,所述过水件(25)的侧壁和底壁与所述排水槽(231)的槽侧壁之间均间隔设置形成有过水间隙,所述罩盖(27)盖设于所述过水件(25)背离所述排水槽(231)槽底的一侧表面,所述第一磁体(21)设于所述过水件(25)和所述罩盖(27)之间。

7.如权利要求6所述的无障碍淋浴房,其特征在于,所述过水件(25)朝向所述排水槽(231)的槽底壁的一侧凹设形成有第一容纳槽(251),所述第一容纳槽(251)的朝向所述排水槽(231)侧壁的相对两侧开设有多个过滤孔(253),多个所述过滤孔(253)呈阵列排布。

8.如权利要求7所述的无障碍淋浴房,其特征在于,所述排水槽(231)的槽底壁凸设有第一限位件(235),所述第一容纳槽(251)的槽口边沿凹设有限位口(251a),所述第一限位件(235)插接于所述限位口(251a)内。

9.如权利要求8所述的无障碍淋浴房,其特征在于,所述排水槽(231)的槽底壁凸设有第二限位件(237),所述第二限位件(237)背离所述排水槽(231)的槽底壁的表面凹设有限位槽(237a),所述限位槽(237a)沿所述排水槽(231)的延伸方向延伸设置,所述过水件(25)部分插接于所述限位槽(237a)内。

10.如权利要求6所述的无障碍淋浴房,其特征在于,所述过水件(25)朝向背离所述排水槽(231)的槽底壁的一侧凹设形成有第二容纳槽(255),所述罩盖(27)设于所述第二容纳槽(255)内,所述第一磁体(21)设于所述第二容纳槽(255)内。


技术总结
本技术公开一种无障碍淋浴房,无障碍淋浴房包括框架、地漏、移动门体以及磁吸组件;地漏用于设于地面内,地漏的上表面与地面平齐设置,地漏内靠近上表面的一侧设置有第一磁体;移动门体的一端活动连接于框架;磁吸组件连接于移动门体的另一端,磁吸组件包括型材、第二磁体、第三磁体和挡水壳,型材的朝向地漏的端面开设有安装槽,第二磁体设于挡水壳内,挡水壳的一端活动设于安装槽的槽口,第三磁体设于安装槽的底壁;第一磁体对第二磁体的磁吸力大于第三磁体对第二磁体的磁吸力。本技术技术方案的淋浴房可以同时兼顾关门挡水和开门后无挡水块绊脚的效果,同时满足淋浴房的挡水密封性和安全性。

技术研发人员:袁燕林,谢伟藩
受保护的技术使用者:佛山市恒洁凯乐德卫浴有限公司
技术研发日:20230628
技术公布日:2024/1/15
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1