本技术涉及浸釉设备,具体涉及一种陶瓷器具浸釉装置。
背景技术:
1、浸釉是将坯体浸入釉中片刻后取出,利用坯的吸水性使釉浆附着于坯上。釉层厚度由坯的吸水性、釉浆浓度、浸渍时间进行控制,适用于厚胎坯体及杯碗类制品施外釉。
2、授权公告号为cn218699935u的中国专利公开了一种陶瓷浸釉装置,包括机体、机箱和釉池,所述机体的上部一侧设有机箱,另一侧设有釉池,所述釉池的上方可垂直升降的设有用于放置陶瓷产品的浸釉框,所述浸釉框的上方可垂直升降的设有用于对陶瓷产品开口进行压紧密封的压紧密封机构,上述陶瓷浸釉装置可适应与大容量的陶瓷产品的外表面进行上釉,在对陶瓷外表面上釉时,压紧密封机构中压紧缸驱动压板下行使得柔性密封体与陶瓷产品开口配合形成密封,从而避免了陶瓷产品的内表面与釉液接触;
3、但是上述现有技术中的陶瓷浸釉装置在对陶瓷产品开口进行密封时不便于控制压紧压力保证良好的密封效果,若压力小无法密封易造成釉液进入产品内表面,压力过大容易造成产品的损坏。
技术实现思路
1、本实用新型目的是针对背景技术中存在的问题,提出一种陶瓷器具浸釉装置。
2、本实用新型的技术方案:一种陶瓷器具浸釉装置,包括存釉箱、支撑架a、支撑架b、移动架、存放框、放置板、安装板a和安装板b;
3、支撑架a连接存釉箱,支撑架a上设有用于驱动存放框上下移动的升降装置a;存放框位于存釉箱的正上方;
4、支撑架b连接存放框,支撑架b上设有用于驱动移动架上下移动的升降装置b;移动架伸入存放框的一端连接安装板a;
5、放置板放置在存放框内;
6、安装板b连接安装板a,安装板b上活动设有密封部;密封部设有多个,多个密封部均匀分布;压力传感器连接安装板a,并位于安装板a与密封部之间。
7、优选的,每个密封部均包括密封头和限位部;安装板b上设有安装孔;安装板a的端面上设有容纳槽;压力传感器安装在容纳槽内;容纳槽、安装孔和限位部一一对应;
8、密封头连接限位部;限位部的投影形状为t形,限位部大端面的直径值大于安装孔的内径值;密封部安装状态下,密封头穿过安装孔,限位部配合容纳在容纳槽内。
9、优选的,密封头的直径值沿其中轴线方向朝向远离限位部的一侧逐渐减小。
10、优选的,存放框的投影形状为回字形,存放框的底面和侧端面上均设有多个通孔a。
11、优选的,放置板上设有放置槽;放置槽与密封部一一对应,每个放置槽的底面设有通孔b;通孔b均匀设有多个。
12、优选的,放置板沿其长度方向的侧端面上均设有凹槽。
13、优选的,存釉箱的下端面设有支撑柱;支撑柱设有多个。
14、优选的,存釉箱的下端面设有排液管;排液管上设有控制阀。
15、与现有技术相比,本实用新型的上述技术方案具有如下有益的技术效果:
16、本实用新型提供的陶瓷器具浸釉装置能通过设有的压力传感器检测密封部密封陶瓷开口时的压力大小进而能解决密封部压力过大对瓷器坯料造成损坏且能避免压力小影响密封的问题,密封部便于拆卸根据不同类型的陶瓷坯料的开口类型进行选择即可,放置板上能一次性放置多个产品以提高陶瓷产品的生产效率。
1.一种陶瓷器具浸釉装置,其特征在于,包括存釉箱(1)、支撑架a(3)、支撑架b(6)、移动架(7)、存放框(8)、放置板(9)、安装板a(10)、压力传感器和安装板b(11);
2.根据权利要求1所述的一种陶瓷器具浸釉装置,其特征在于,每个密封部(12)均包括密封头(121)和限位部(122);安装板b(11)上设有安装孔;安装板a(10)的端面上设有容纳槽;压力传感器安装在容纳槽内;容纳槽、安装孔和限位部(122)一一对应;
3.根据权利要求2所述的一种陶瓷器具浸釉装置,其特征在于,密封头(121)的直径值沿其中轴线方向朝向远离限位部(122)的一侧逐渐减小。
4.根据权利要求1所述的一种陶瓷器具浸釉装置,其特征在于,存放框(8)的投影形状为回字形,存放框(8)的底面和侧端面上均设有多个通孔a。
5.根据权利要求1所述的一种陶瓷器具浸釉装置,其特征在于,放置板(9)上设有放置槽(91);放置槽(91)与密封部(12)一一对应,每个放置槽(91)的底面设有通孔b(911);通孔b(911)均匀设有多个。
6.根据权利要求5所述的一种陶瓷器具浸釉装置,其特征在于,放置板(9)沿其长度方向的侧端面上均设有凹槽(92)。
7.根据权利要求1所述的一种陶瓷器具浸釉装置,其特征在于,存釉箱(1)的下端面设有支撑柱(101);支撑柱(101)设有多个。
8.根据权利要求7所述的一种陶瓷器具浸釉装置,其特征在于,存釉箱的下端面设有排液管(2);排液管(2)上设有控制阀(21)。