本技术属于日用陶瓷生产，具体涉及一种瓷喷釉设备。
背景技术：
1、喷釉是现代陶瓷施釉技法之一，人工用喷枪或喷雾器使釉浆雾化喷到坯体表面，此种施釉方法适合于施釉量不大(相对于淋釉)的产品，可以多次喷釉来增加施釉量，并且能够获得较厚的釉层，从而增强陶瓷产品的外观和性能；
2、在日用瓷喷釉的过程中，由于陶瓷的大小、形状趋于多样化，调整喷釉角度和位置(高度、圆周)是非常重要的，这是因为不同的喷釉角度会对陶瓷产品的施釉效果产生不同的影响，通过调整喷釉角度可以改变釉料在陶瓷产品表面的分布范围和厚度，从而影响产品的外观和质量，此外，不同的喷釉角度还会影响釉料在坯体表面的附着效果，进而影响产品的性能；
3、然而，现有的瓷喷釉设备存在一些问题，其中之一就是调整喷釉角度和位置(高度、圆周)不够方便，具体来说，目前的瓷喷釉设备是采用固定式喷枪，无法根据需要灵活调整喷釉角度，这使得在生产过程中需要操作人员手持喷枪去对陶瓷进行喷釉或者补釉操作，不仅增加了生产成本和时间成本，还会影响生产效率和质量；
4、因此，为了解决瓷喷釉设备调整喷釉角度和位置(高度、圆周)不便的问题，有必要对现有的瓷喷釉设备进行改进。
技术实现思路
1、针对上述背景技术所提出的问题，本实用新型的目的是：旨在提供一种瓷喷釉设备。
2、为实现上述技术目的，本实用新型采用的技术方案如下：
3、一种瓷喷釉设备，包括设有喷釉腔的机体；
4、所述喷釉腔的底部通过转轴连接转台，所述转台的两端设置陶瓷放置架，所述转轴与旋转动力连接；
5、所述喷釉腔的顶部设置一根竖直的安装杆，所述安装杆通过第一高度调整支架连接顶位横杆，所述安装杆通过第二高度调整支架连接侧位横杆，所述顶位横杆远离安装杆的一端通过第一圆周姿态调整支架连接顶位喷头，所述侧位横杆远离安装杆的一端通过第二圆周姿态调整支架连接侧位喷头，所述顶位横杆的高度高于侧位横杆，所述顶位喷头的喷射口竖直向下，作用于陶瓷的顶面，所述侧位喷头的喷射口倾斜向下，作用于陶瓷的侧面；
6、所述第一高度调整支架和第二高度调整支架结构相同，所述第一高度调整支架沿径向设有用于通过安装杆的高度调整孔，所述第一高度调整支架设有与高度调整孔接通且垂直分布的第一螺纹孔，所述第一高度调整支架设有与高度调整孔垂直分布的第一横杆调整孔，所述顶位横杆插接在第一横杆调整孔中，所述第一高度调整支架设有与第一横杆调整孔接通且垂直分布的第二螺纹孔；
7、所述第一圆周姿态调整支架和第二圆周姿态调整支架结构相同，所述第一圆周姿态调整支架设有用于通过顶位横杆的第二横杆调整孔，所述第一圆周姿态调整支架设有与第二横杆调整孔接通并垂直分布的第三螺纹孔，所述第一螺纹孔、第二螺纹孔、第三螺纹孔中均连接用于顶紧固定的螺栓；
8、所述陶瓷放置架具备旋转自由度且由电机驱动。
9、进一步限定，所述机体还设有用于控制釉料的阀门，阀门与所述顶位喷头、侧位喷头通过管路各自连接一个阀门，这样的结构设计，阀门可以用于控制釉料是否输送。
10、进一步限定，所述喷釉腔的底部设有回收槽，这样的结构设计，回收槽可以回收未利用的釉料。
11、进一步限定，所述机体的旁侧设有控制箱，这样的结构设计，控制箱用于进行电控。
12、本实用新型的有益效果：
13、1.顶位喷头、侧位横杆的高度、圆周位置以及倾角能够根据不同的大小、形状的陶瓷做适应性调整，通用性更高；
14、2.陶瓷放置在转台两端的陶瓷放置架上，两端都设置陶瓷放置架，形成双工位结构，外侧的工位用于上下料，内侧的工位用于喷釉，当内侧工位上的陶瓷完成喷釉后，转台通过转轴旋转，内侧的陶瓷放置架回转到外侧，工作人员可以取下已经喷釉完成的陶瓷，外侧的陶瓷放置架回转到内侧，未上釉的陶瓷，进行上釉，这样效率更高、操作方便；
15、3.顶位喷头的喷射口竖直向下，作用于陶瓷的顶面，侧位喷头的喷射口倾斜向下，作用于陶瓷的侧面，陶瓷放置架由电机驱动进行旋转，从而带动陶瓷做圆周运动，使陶瓷外表面依次、匀速经过顶位喷头、侧位喷头的喷釉区域，实现陶瓷整个外表面的上釉处理。
1.一种瓷喷釉设备，其特征在于：包括设有喷釉腔(2)的机体(1)；
2.根据权利要求1所述的一种瓷喷釉设备，其特征在于：所述机体(1)还设有用于控制釉料的阀门(6)，阀门(6)与所述顶位喷头(71)、侧位喷头(72)通过管路各自连接一个阀门(6)。
3.根据权利要求2所述的一种瓷喷釉设备，其特征在于：所述喷釉腔(2)的底部设有回收槽。
4.根据权利要求3所述的一种瓷喷釉设备，其特征在于：所述机体(1)的旁侧设有控制箱(15)。