专利名称:波纹瓦的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种波纹瓦。
背景技术：
现有的波纹瓦，由于两边的波谷处没设较深的排水凹槽，遇到下大雨，常因排水不畅而漏雨。
实用新型内容
本实用新型的目的，是要提供一种在两边的波谷处设有较深的排水凹槽的波纹瓦，达到较好的排水效果。
本实用新型所述的波纹瓦，其特征是波纹瓦的两边的波谷处，各有一排水凹槽。
本实用新型的有益效果是，在波纹瓦的两边的波谷处，设较深的排水凹槽，不但排水较顺畅，而且两瓦片相互压合，也较牢固和稳当。
图1为本实用新型的示意图。
其中1.波纹瓦，2.两边波谷处的排水凹槽。
具体实施方式
本实用新型所述的波纹瓦，如图1所示，将瓦泥压制成两边波谷处各有一排水凹槽2的波纹瓦1，然后入窑烧制即成。
权利要求
1.一种波纹瓦，其特征是波纹瓦两边的波谷处，各有一排水凹槽。
专利摘要
本实用新型所述的波纹瓦，其两边的波谷处各有一排水凹槽。它不但有较好的排水效果，而且两瓦压合时，较牢固和稳当。
文档编号E04D1/02GKCN2685430SQ200420038656
公开日2005年3月16日 申请日期2004年2月24日
发明者吴声团 申请人:吴声团导出引文BiBTeX, EndNote, RefMan