清洁基座、侧面清洁组件及清洁头的制作方法

文档序号:36099153发布日期:2023-11-21 08:02阅读:40来源:国知局
清洁基座的制作方法

本公开涉及一种清洁基座、侧面清洁组件及清洁头。


背景技术:

1、现有的地面清洁器以能够完全润湿待清洁的地板的方式以高流量的清洁液对地板实施清洁。通过使坚硬的地板面湿润,清洗头将尘埃从地板转移到清洁液中,之后,该清洁液从坚硬的地板面被除去,并且作为被污染的清洁液而被保持在回收存储部内。

2、湿式表面清洁器通常具备:容纳清洁溶液的清洁液存储部;回收从被清洗的地板回收的污染物的回收存储部;马达驱动的真空源,以形成从被清洗地板到回收存储部的抽真空流道;可再充电电池,为各部件提供能量;基站,用于湿式表面清洁器的充电和清洁后维护。

3、但是湿式表面清洁器在使用时,由于其清洁部位于整个湿式表面清洁器的前方,在一些使用场合,例如清理墙角等位置时,无论湿式表面清洁设备从哪个方向靠近墙壁,总存在部分区域无法被清洁。

4、因此,如何设计一种能够清洁墙角等位置的地面清洁器成为亟需解决的问题。


技术实现思路

1、为了解决上述技术问题之一,本公开提供了一种清洁基座、侧面清洁组件及清洁头。

2、根据本公开的一个方面,提供了一种清洁基座,其包括:

3、外壳,所述外壳至少部分地限定了半封闭清洁室,所述半封闭清洁室用于容纳第二搅拌件的至少部分;

4、开口,所述开口被所述外壳的至少部分所限定;

5、刮除器,所述刮除器的至少部分位于所述半封闭清洁室内,并且邻近所述开口设置;其中,所述刮除器被设置为与所述第二搅拌件干涉;以及

6、出水口,所述出水口形成于所述外壳上方,用于向所述半封闭清洁室内的第二搅拌件提供清洁液体。

7、根据本公开的至少一个实施方式的清洁基座,所述外壳包括:

8、上部构件;

9、下部构件,所述下部构件与所述上部构件之间间隔设置;以及

10、连接构件,所述连接构件用于连接所述上部构件和下部构件,并且所述上部构件、下部构件和连接构件共同围合成所述的半封闭清洁室。

11、根据本公开的至少一个实施方式的清洁基座,所述连接构件的内表面呈弧形,以使得所述第二搅拌件的周面与所述连接构件的内表面之间具有间隙。

12、根据本公开的至少一个实施方式的清洁基座,所述开口设置于所述连接构件,并位于所述连接构件的周向的大致中间位置。

13、根据本公开的至少一个实施方式的清洁基座,所述开口的下沿与所述下部构件的内表面齐平或者低于所述下部构件的内表面。

14、根据本公开的至少一个实施方式的清洁基座,所述刮除器设置于所述下部构件的内表面,并且向所述半封闭清洁室的内部延伸预设高度。

15、根据本公开的至少一个实施方式的清洁基座,所述刮除器包括细长的刮片,所述细长的刮片沿所述第二搅拌件的径向方向设置。

16、根据本公开的至少一个实施方式的清洁基座,所述刮除器的一端的至少部分连接于所述连接构件的内表面。

17、根据本公开的至少一个实施方式的清洁基座,所述刮除器包括凹口,所述凹口的内壁面、连接构件以及下部构件共同限定流体流动通孔。

18、根据本公开的至少一个实施方式的清洁基座,沿所述第二搅拌件的转动方向,所述刮除器位于所述开口的下游侧。

19、根据本公开的至少一个实施方式的清洁基座,沿所述第二搅拌件的转动方向,所述出水口位于所述刮除器的下游侧。

20、根据本公开的另一方面,提供一种侧面清洁组件,其包括上述的清洁基座。

21、根据本公开的至少一个实施方式的侧面清洁组件,还包括第二搅拌件,所述第二搅拌件能够被驱动以进行转动,其中,所述第二搅拌件的至少部分位于所述半封闭清洁室内。

22、根据本公开的另一方面,提供一种清洁头,包括上述的侧面清洁组件,其中,所述清洁基座和第二搅拌件作为完整的单元可独立地从清洁头上拆卸。



技术特征:

1.一种清洁基座,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的清洁基座,其特征在于,所述外壳包括:

3.根据权利要求2所述的清洁基座,其特征在于,所述连接构件的内表面呈弧形,以使得所述第二搅拌件的周面与所述连接构件的内表面之间具有间隙。

4.根据权利要求3所述的清洁基座,其特征在于,所述开口设置于所述连接构件,并位于所述连接构件的周向的大致中间位置。

5.根据权利要求4所述的清洁基座,其特征在于,所述开口的下沿与所述下部构件的内表面齐平或者低于所述下部构件的内表面。

6.根据权利要求2所述的清洁基座,其特征在于,所述刮除器设置于所述下部构件的内表面,并且向所述半封闭清洁室的内部延伸预设高度。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的清洁基座,其特征在于,所述刮除器包括细长的刮片,所述细长的刮片沿所述第二搅拌件的径向方向设置;

8.一种侧面清洁组件,其特征在于,包括权利要求1-7中任一项所述的清洁基座。

9.根据权利要求8所述的侧面清洁组件,其特征在于,还包括第二搅拌件,所述第二搅拌件能够被驱动以进行转动,其中,所述第二搅拌件的至少部分位于所述半封闭清洁室内。

10.一种清洁头,包括权利要求9所述的侧面清洁组件,其中,所述清洁基座和第二搅拌件作为完整的单元可独立地从清洁头上拆卸。


技术总结
本公开提供一种清洁基座,其包括:外壳,所述外壳至少部分地限定了半封闭清洁室,所述半封闭清洁室用于容纳第二搅拌件的至少部分;开口,所述开口被所述外壳的至少部分所限定;刮除器,所述刮除器的至少部分位于所述半封闭清洁室内,并且邻近所述开口设置;其中,所述刮除器被设置为与所述第二搅拌件干涉;以及出水口,所述出水口形成于所述外壳上方,用于向所述半封闭清洁室内的第二搅拌件提供清洁液体。本公开还提供一种侧面清洁组件及清洁头。

技术研发人员:李鹏程,谢明健,周道煌,唐成
受保护的技术使用者:北京顺造科技有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/16
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