一种排水性好的边坡种植带结构的制作方法

本技术涉及边坡种植带结构领域，具体为一种排水性好的边坡种植带结构。

背景技术：

1、在对边坡的环境地质进行治理时，一般会采用植被加固边坡，植被生长后其根茎会向边坡内生长，从而增加边坡的整体强度，以减少水土流失产生滑坡的现象。

2、为了进一步提高边坡种植带结构的实用性，现有技术对边坡种植带结构作出了诸多改进，如公开号为cn217267555u的专利公开了一种矿山地质环境治理用边坡种植带结构，包括地基，所述地基表面铺设有土壤层，所述地基设有若干种植区，所述种植区底部设有第一截水沟，所述种植区侧边设有泄洪渠，所述第一截水沟与所述泄洪渠相连通，所述种植区铺设有疏水结构，所述疏水结构包括第一挡板和第二挡板，所述第一挡板与所述第二挡板围成框体结构，若干所述疏水结构之间形成疏水渠，所述疏水渠底部连通所述第一截水沟。该种植带结构中，在雨量小时，疏水结构能够有效的截流雨水，疏水渠能够在大雨或暴雨时疏散雨水，避免水土流失，第一截水沟能够收集雨水，再通过水泵和管道进行灌溉，暴雨时，第一截水沟中的过量雨水溢流至泄洪渠中进行可控、有序地排水。

3、上述现有技术中有明显的有益效果，但仍存在不足：

4、上述现有的边坡种植带结构通过将植被种植在种植区内的土壤层内，并采用倾斜的疏水渠对水进行排水，但在暴雨时，水流沿疏水渠进行流淌排水时，水流也会携带杂物在疏水渠内进行流动，杂物若产生堆积容易造成疏水渠的堵塞，从而影响排水，不利于护坡，为此提出了一种排水性好的边坡种植带结构。

技术实现思路

1、针对现有技术的不足，本实用新型提供一种排水性好的边坡种植带结构，以至少解决背景技术提出的问题之一。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种排水性好的边坡种植带结构，包括设置在地基土壤层上的若干种植区，种植区包括下框架、上框架和两个侧框架，下框架、上框架和两个侧框架的两侧均设有弧形限位槽，下框架和两个侧框架之间、上框架和两个侧框架之间均形成疏水渠，下框架、上框架和两个侧框架形成框体结构。

3、优选地，侧框架下方的弧形限位槽内壁下端和上框架两侧的弧形限位槽内壁下端均固定连接有支撑板，支撑板的上表面固定连接有转轴，转轴的外壁转动连接有调节块，调节块与弧形限位槽匹配设置。

4、优选地，两个相邻种植区之间形成有水平水渠，水平水渠的宽度与疏水渠的宽度相等。

5、优选地，两个相邻种植区的拐角处之间设有导向柱，导向柱的下端插接至地基土壤层内。

6、优选地，下框架、上框架和两个侧框架均相同设置。

7、优选地，下框架、上框架和两个侧框架均为等腰三角形设置，且下框架、上框架和两个侧框架的其中两边垂直设置。

8、优选地，转轴为阻尼转轴，调节块的半径不大于疏水渠的宽度。

9、与现有技术对比，本实用新型具备以下有益效果：

10、本实用新型地基土壤层上的种植区通过下框架、上框架和两个侧框架组合而成，植被种植在下框架、上框架和侧框架内的土壤层上，对植被进行保护，下框架、上框架和侧框架形成的疏水渠用于排水，下框架和侧框架侧壁的弧形限位槽可将水流带动的杂物进行截留并让位，不阻挡水流从疏水渠的排放，以增加对边坡的保护。

技术特征：

1.一种排水性好的边坡种植带结构，包括设置在地基土壤层上的若干种植区(1)，其特征在于，种植区(1)包括下框架(2)、上框架(3)和两个侧框架(4)，下框架(2)、上框架(3)和两个侧框架(4)的两侧均设有弧形限位槽(6)，下框架(2)和两个侧框架(4)之间、上框架(3)和两个侧框架(4)之间均形成疏水渠(5)，下框架(2)、上框架(3)和两个侧框架(4)形成框体结构。

2.根据权利要求1所述的一种排水性好的边坡种植带结构，其特征在于，侧框架(4)下方的弧形限位槽(6)内壁下端和上框架(3)两侧的弧形限位槽(6)内壁下端均固定连接有支撑板(10)，支撑板(10)的上表面固定连接有转轴(11)，转轴(11)的外壁转动连接有调节块(8)，调节块(8)与弧形限位槽(6)匹配设置。

3.根据权利要求1所述的一种排水性好的边坡种植带结构，其特征在于，两个相邻种植区(1)之间形成有水平水渠(7)，水平水渠(7)的宽度与疏水渠(5)的宽度相等。

4.根据权利要求1所述的一种排水性好的边坡种植带结构，其特征在于，两个相邻种植区(1)的拐角处之间设有导向柱(9)，导向柱(9)的下端插接至地基土壤层内。

5.根据权利要求1所述的一种排水性好的边坡种植带结构，其特征在于，下框架(2)、上框架(3)和两个侧框架(4)均相同设置。

6.根据权利要求1所述的一种排水性好的边坡种植带结构，其特征在于，下框架(2)、上框架(3)和两个侧框架(4)均为等腰三角形设置，且下框架(2)、上框架(3)和两个侧框架(4)的其中两边垂直设置。

7.根据权利要求2所述的一种排水性好的边坡种植带结构，其特征在于，转轴(11)为阻尼转轴，调节块(8)的半径不大于疏水渠(5)的宽度。

技术总结
本技术涉及边坡种植带结构领域，且公开了一种排水性好的边坡种植带结构，包括设置在地基土壤层上的若干种植区，种植区包括下框架、上框架和两个侧框架，下框架、上框架和两个侧框架的两侧均设有弧形限位槽，下框架和两个侧框架之间、上框架和两个侧框架之间均形成疏水渠，下框架、上框架和两个侧框架形成框体结构，本技术地基土壤层上的种植区通过下框架、上框架和两个侧框架组合而成，植被种植在下框架、上框架和侧框架内的土壤层上，对植被进行保护，下框架、上框架和侧框架形成的疏水渠用于排水，下框架和侧框架侧壁的弧形限位槽可将水流带动的杂物进行截留并让位，不阻挡水流从疏水渠的排放，以增加对边坡的保护。

技术研发人员：曾秋雨,李佳金,王磊,邓宇,黎智
受保护的技术使用者：北京中地华安科技股份有限公司
技术研发日：20230613
技术公布日：2024/1/15