把一种处理剂供给一个移动表面上的方法和装置的制作方法

文档序号:2456581阅读:212来源:国知局
专利名称:把一种处理剂供给一个移动表面上的方法和装置的制作方法
技术领域
本发明涉及一种把一种处理剂供给到一个如同权利要求1前序部分所限定的移动表面上的方法。
本发明还涉及一种把一种处理剂供给到一个如同权利要求8前序部分所限定的移动表面上的装置。
移动表面可以由一种片材,一个滚筒外壳或者一条传送带或者一个通过其可以把一种处理剂转移到片材上的等效移动部件形成。此外,被处理的片材可以是一种纸制片材,一种木质片材或者一种塑料膜。在该申请中,片材的处理是指表面整形、覆层或者其它等效的处理片材的过程,其中一种处理剂至少添加到片材的一个表面上。
表面整形和覆层方法可以粗分为基于接触的方法和非接触方法。
基于接触的方法包括,例如,叶片覆层,膜转移覆层和气刀覆层。在叶片覆层中,一种处理剂通过不同的方法被应用到片材的表面上并且多余的处理剂层被去掉以及处理剂通过一个与片材相接触的叶片进行平整。在叶片覆层中,本申请的方法可能被实施,例如涂抹滚筒应用或者喷嘴应用。在膜转移覆层中,一个所需的处理剂层被应用到一个滚筒的表面上,在所述滚筒和后滚筒之间的夹持下处理剂从该表面被转移到片材的表面上。处理剂层的量通过一个调整刀片或者一个测量杆调整。在气刀覆层中,该申请可以被实施,例如,通过一个滚筒涂抹器装置或者喷嘴。处理剂量的实际调节通过一个气体调整器进行。这儿所使用的气体调整器为一种雾状腔,该腔的功能是为了收集被调整器分离的处理剂雾状体从而把处理剂颗粒从空气中分离出来。
非接触方法是这样的方法,即涂抹器装置不与覆层的表面相接触并且应用到片材上的处理剂量在处理剂被应用之后不再单独进行调整。非接触覆层的方法包括喷射覆层和帘覆层。在喷射覆层中,处理剂在高压下通过多个小喷嘴被泵压到需要处理的片材表面上。较小的处理剂液滴碰撞在片材的表面上并且通过它们自己的动量散布在片材的表面上。在帘覆层中,一个平整的处理剂层形成,该层作为一个帘在重力的作用下落在片材的表面上。帘覆层装置可以分为从一个间隙或者从一个平面供料的覆层装置。在从一个间隙供料的涂抹器杆中,处理剂通过一个分配腔泵压到一个小间隙中,该间隙位于片材的上方并且在帘形成的唇上从而流到下面的片材上。在从一个平面供给的帘覆层装置中,处理剂沿着一个倾斜的表面流动到平面的边缘,从该边缘处理剂以帘的型式流到下面的片材上。
US专利6063450公开了一种用于把一种处理剂直接或者间接供给到一连续表面的一侧或者两侧上的方法和装置。装置包括一个喷嘴列,在压力下喷嘴朝一个倾斜装置供给处理剂,也就是说,一个弯曲的接触板。处理剂射流的方向通过弯曲的接触板改变以至于处理剂射流在一个片材的表面上被导向,该片材在一个支撑滚筒的外壳上(直接涂抹)或者支撑滚筒的外壳表面上(间接涂抹)移动。在间接涂抹中,处理剂从支撑滚筒的外表面转移到在支撑滚筒和后滚筒之间夹持的片材上。在处理剂碰撞在片材表面上之后,该片材在支撑滚筒的外壳上或者支撑滚筒的外壳的表面上移动,处理剂的平整以及厚度的调整通过一个与支撑滚筒相对设置的调整滚筒实施。在该专利所描述的实施例中,喷嘴的排列和接触板位于片材和支撑滚筒的下面。从喷嘴中分配出来的处理剂在一个水平方向上或者相对于水平方向向上倾斜的方向上。从接触板的尾端处理剂几乎垂直或者在一个与垂直方向成一个很小的角度的方向上分配到片材或者支撑滚筒的外壳上。从喷嘴分配出的处理剂的动能必须相对较高从而这种类型的可抵抗重力的申请是可能的。
US专利4093016公开了一种制造多层纸质片材的方法。纸浆被供给用于支撑片材的互相隔开的丝网上,因此形成了多层片材。此外,淀粉从一个提供帘覆层的单独的装置供给到至少一层的上表面上。装置包括一个设置在片材上的腔室并且包括一个垂直侧壁。该垂直侧壁包括一个具有上下边缘的水平延伸狭缝,在垂直方向上狭缝的宽度为1.6-12.7mm。供给到腔室中的淀粉的表面保持在腔室的这样一个水平上,即在整个时间中它在所述狭缝的上边缘上。淀粉作为一个与狭缝的上下边缘相接触的水平流体从狭缝中压出。流体的厚度由狭缝的垂直宽度决定。从狭缝中排出的淀粉由于重力下落,从狭缝的下边缘沿着垂直表面下落,该表面在位于所述狭缝一定距离处的尾端上终止。沿着垂直表面下落的淀粉形成了一个连续的帘,当其下落时变薄。离开垂直表面的尾端的帘的厚度因此比从狭缝排出的帘的厚度小。从垂直平面的尾端变薄的连续帘落在下面的片材上。腔室还可以轻微地转动以至于所述垂直流动表面形成与垂直表面大约成10°的角度。倾斜的流动表面使得降低膜中的空气携带以及作用在膜上的压力变为可能。
EP专利609535公开了一种帘覆层装置,该装置沿着一个倾斜表面供料并使用一个起板。在覆层操作开始前,具有一个连接接头的起板转向片材上的一个开始位置。在开始位置上,一个覆层帘碰撞在倾斜的起板上并且沿着它流到一个收集容器中。然后,起板转向一个覆层位置,在该位置上覆层帘直接落在片材上。该公开的发明中涉及起板的上边缘的形状,该形状形成与帘的横切方向的一个或者多个角度。在一个实施例中,起板的上部包括一个接受覆层帘的L形部分并且具有2-10mm的长度,优选地为3-5mm。当起板从开始位置转到覆层位置时,覆层帘下落,在起板的中间位置上,落在用于接受覆层帘的起板的所述L形倾斜部分上并且沿着它进一步流动到片材上。通过这样的设置,试图保证形成在片材上的覆层厚度在覆层操作的开始阶段不会增加。公开的内容提及一个问题,即覆层的厚度在覆层的最初阶段增大。描述在该发明中的装置主要是对摄影膜进行覆层。
申请人的FI专利申请991498在该申请中被引用,其公开了一种用于在一个移动表面上覆盖一种处理剂的设置。该设置包括至少一个可以供给处理剂的供给腔,以及把处理剂从供给腔导向一个移动片材上的部件。所述用于对处理剂导向的装置包括一个漏板,该漏板至少部分封闭至少一个供给腔。漏板具有孔,该孔由围绕漏板的整个圆周限定。通过这些孔,应用到移动表面上的处理射流形成。漏板由一块在其上至少具有一列孔的薄板形成。孔列包括相对较小并且互相靠近的孔。
在FI专利申请991498中公开的供给装置非常简单并且在操作上非常可靠。该装置可以制造地非常紧凑,这意味着它甚至可以安装在滚筒和一个供给的片材之间的间隙中。因此,装置可以被应用在许多应用处理剂比较困难或者不可能应用的位置上。在供给装置中,处理剂的供给通过薄漏板上的孔进行。这些孔仅仅被薄漏板限定,因此相对于孔的直径孔的长度可以被制造得较小。通过这种设置处理剂射流可以均匀地形成而不会形成滴状或者雾状,并且处理剂射流的质量和冲力是足够地高可以使处理剂转移并粘附到将要覆层的表面上。在漏板上的孔相对隔开较远的情况下,当处理剂从孔中排出时,形成单独的射流,从而形成一个在移动表面的横向方向上具有预定间隔的不连续的处理剂帘。当碰撞到移动表面上时,单个的射流形成一个平整均匀的处理剂层。在漏板上的孔互相非常靠近的情况下,当处理剂从孔中排出时,在移动表面的横向方向上形成一个连续的处理剂帘。
在FI专利申请991498中公开的设置可以在一个非常宽的驱动速度范围内操作,因此它适于在许多使用的场合下使用。然而,在某些情况下,该设置会存在一些问题。
在漏板上的孔互相相对隔开较远并且试图产生相互隔开的处理剂射流的情况下,从一些孔中流出的射流会不完全地形成或者被倾斜地导向,例如,由于所述孔边缘的缺陷边缘。结果,一个或者多个单独的射流会缩小和停止,因此在移动表面上会产生条纹,也就是说,处理剂不会在移动表面上形成一个平整的层。尤其当处理剂在低流速时该问题会更加明显。
在漏板上的孔互相非常靠近并且试图在处理剂从漏板上的孔流出之后马上产生连续的处理剂帘的情况下,从一些孔中流出的射流会不完全地形成或者被倾斜地导向,例如,由于所述孔边缘的缺陷边缘。结果,连续的处理剂帘会打破,因此条纹会产生在移动表面上,也就是说,处理剂不会在移动表面上形成一个平整的层。
本发明提供了一种解决上述问题的方法,因此操作的可靠性以及在FI专利申请991498中公开的使用的设置范围可以变得更大。
根据本发明的方法的主要特征在权利要求1中的特征部分中描述。
根据本发明的装置的主要特征在权利要求8中的特征部分中描述。
在根据本发明的设置中,在FI专利申请991498中公开的供给装置被转向从而使供给装置的供给方向向下。此外,至少一个倾斜的表面添加在供给装置的下面,该表面用于平整出任何可能在处理剂流体中存在的缺陷,该处理剂从供给装置的漏板上的孔流出。
下面,本发明的一些优选的实施例参照附图以及附图中的部件进行描述,然而,本发明不是排它性地限定。


图1为根据本发明的一个实施例的示意侧视图;图2为根据本发明的第二实施例的示意侧视图;图3为根据本发明的第三实施例的示意侧视图;图4为根据本发明的第四实施例的示意侧视图;图5为图2中所示实施例的变形的示意顶视图;图1中所示的本发明的装置形成了一种处理剂的供给装置10,该装置本身是公知的并且公开在FI专利申请991498中,一个处理剂的平整装置100设置在供给装置下部。一个用于对处理剂进行处理的移动表面200在平整装置100下移动。
处理剂的供给装置10包括一个主体腔11,一个中间部16,以及两个连接部20,21。在主体腔11中形成一个供给腔12,该供给腔12包括一个导向图中侧部的进口13a,从该进口13a处理剂可以供给到供给腔12中,以及一个导向图中下侧的出口13b,从该出口13b处理剂可以流出供给腔12。此外,中间部16具有一个中间腔17,该中间腔17包括一个导向图中上侧的进口17a,从该进口17a处理剂流到中间腔17中,以及一个导向图中下侧的出口17b,从该出口17b处理剂可以流出中间腔17。中间腔17的进口17a的截面对应于供给腔12的出口13b的截面。
供给腔12的出口13b被一个挡板14关闭,该挡板通过中间部16压紧在主体腔11上。挡板14在所述供给腔12的出口13b处具有孔15,通过该孔供给腔12中的处理剂可以流入到中间腔17中。此外,中间腔17的出口17b通过一个漏板18关闭,该漏板18通过连接件20,21紧压在中间部16上。漏板18上具有孔19,通过孔19中间腔17中的处理剂可以流出中间腔17。
主体腔11,中间部16,以及连接件20,21可以通过本领域技术人员所公知的设置互相连接在一起,例如螺栓,快松紧固件或者压力软管和弹簧(没有显示在图中)。
例如,作为漏板18,使用一个钢条是可能的,该钢条的厚度优选地在0.1-0.8mm的范围内。因此,形成在漏板18上的孔19的直径优选在0.1-1.0mm的范围内并且在漏板18上的孔19的周边之间的连续颈部区在它们的最窄点上优选地在0.1-0.7mm的范围内。漏板18上的孔19的直径与漏板18上的孔19的长度的比率,也就是说,与漏板18的厚度的比率,优选地在0.5-2的范围内。因为漏板18上的孔19在流动方向上非常短,该孔不可能被任何逐渐粘附在孔19的边缘上的处理剂阻塞,但是,相反地,比孔19小的处理剂颗粒可以容易地穿过孔19。漏板18上的孔19可以位于一列或者多列上或者它们可以以任意的方式形成在漏板18上。漏板18上的孔19的截面形状可以为任何形状,例如,圆形,椭圆形,矩形或者多边形。
作为挡板14,例如,使用一个钢条同样是可能的,该钢条的厚度可以与漏板18的厚度相同。挡板14上的孔15的直径比漏板18上的孔19的直径小。挡板14的厚度优选地在0.1-0.8mm的范围内。挡板14上的孔15的直径优选地在0.05-0.5mm范围内,挡板14上的孔15可以位于一列或者多列上或者它们可以以任意的方式形成在挡板14上。挡板14上的孔15的截面形状可以为任何形状,例如,圆形,椭圆形,矩形或者多边形。
处理剂的平整装置100设置在处理剂的供给装置10的下面,在该实施例中的平整装置包括一块形成一倾斜表面110的倾斜板。倾斜板110的一个上端112延伸到供给装置10的连接件21上,并且它的下端,也就是说,尾端111,延伸到距离位于平整装置下的移动表面220的一定距离处。
装置操作从而使处理剂从位于供给装置10的主体腔11一侧上的供给腔12的进口13a供给到供给腔12中。取决于本申请的应用,处理剂可以是水,浆糊,覆层颜料或者用于对制造的片材进行处理的其它液体材料。供给到供给腔12中的处理剂通过挡板14上的孔15流入到中间腔17中,该挡板17关闭供给腔12的出口13b。处理剂可能包含比挡板14的孔15大的固体杂质或者结块将仍然留在供给腔12中,通过供给腔12的一个附加量的处理剂的循环或者清洗装置它们将被去除。在这样的一种情形下,例如处理剂为水或者漏板18上的孔19的直径较大时,例如在0.7-1.0mm范围内时,挡板14可以被省略。
在中间腔17中,处理剂的流动是均衡的并且从中间腔17,处理剂流动经过漏板18上的孔19,该漏板18关闭中间腔17的出口17b。在漏板18上的孔19中,处理剂形成射流,该射流导向处理剂的平整装置100,也就是说,导向位于处理剂的供给装置10下的倾斜板110,射流的直径非常小,但是射流不会碎成雾状,这意味着它们的质量和冲击力比喷射雾高。在供给腔12中,使用一个相对较低的压力,优选地压力在0.01-0.5Mpa范围内,其中从漏板18上的孔19中流出的处理剂射流的移动速度是较低的,也就是说,在0.2-6m/s的范围内。当处理剂首先经过挡板14上的孔15时,压力进一步下降,因此从漏板18上的孔19中流出的处理剂射流的动能较小。
处理剂以非常小的动能从漏板18上的孔19中流出形成一第一处理剂流F1。该第一处理剂流F1作为一个帘在空气中自由下落到平整装置100上,也就是说,处理剂的倾斜板110上。通过倾斜板110,任何可能在第一处理剂帘F1中存在的杂质可以被平整是可能的。当第一处理剂帘F1碰撞到倾斜板110时,把倾斜板打湿并且通过它所获得的动能作用以及在重力的作用下沿着倾斜板110流下,可能分开的处理剂流会聚在一起。一个平整的薄的处理剂流因此形成在倾斜板110上。处理剂从倾斜板110的尾端111上流出,形成一个第二处理剂流F2。该第二处理剂流F2作为一个帘在空气中自由下落到移动表面200上,在移动表面上形成一个处理剂层。移动表面200可以是一个将被处理的片材,一个滚筒的外壳,或者一个传送带或者一个通过其可以把处理剂转移到片材上的等效的移动部件。移动表面200的移动方向用箭头S表示。
倾斜板110的倾斜度在移动表面200的移动方向S上导向,以至于一个间隙G,该间隙在移动表面200的移动方向S上逐渐变窄,形成在移动表面和倾斜板110之间。
处理剂的供给装置10以及处理剂的平整装置100延伸经过移动表面200的整个宽度。
图2示出了根据本发明的一个第二设置。处理剂的供给装置10对应于显示在图1中的供给设置10,因此在此不再进行重复的描述。
在另一方面,在该实施例中位于处理剂的供给装置10下的处理剂的平整装置100与图1所示的平整装置100不同。在此,平整装置100由两块形成了两个倾斜表面120,130的倾斜板形成。第一上部倾斜板120的尾端121设置在第二下部倾斜板130上。
从漏板18上的孔19中流出的处理剂,形成一个作为帘在空气中自由下落的第一处理剂流F1。该第一处理剂帘F1落在第一倾斜板120上,在该板120上第一处理剂帘向下朝第一倾斜板120的尾端121流过一给定的第一长度L1。从第一倾斜板120的尾端121,处理剂流动到第二倾斜板130上,在该倾斜板130上处理剂向下朝第二倾斜板130的尾端131流过一个给定的第二长度L2。从第二倾斜板130的尾端131,处理剂流出并且形成作为一个帘在空气中自由下落的第二处理剂流F2。该第二处理剂帘F2落在下面的移动表面200上,形成一个处理剂层。
第一倾斜板120的上端122延伸到供给装置10的一个连接部21上,第二倾斜板130的上端132延伸到供给装置10的主体腔11下的一定距离处。一个侧部腔30附加提供在供给装置10的主体腔11的侧部表面上。侧部腔30包括一个从供给装置10的主体腔向外延伸的水平壁31,以及一个位于供给装置10下面的倾斜壁32,以及一个连接这两壁的垂直壁33。倾斜壁32延伸到第二倾斜板130的下端131上。该侧部腔30与第一倾斜板120,第二倾斜板130以及供给装置10的外表面共同形成一个封闭的空间50,主体腔11的侧部上的开口端被适合的端部件(图中没有显示)关闭。一个真空泵可以设置在该封闭空间50中,例如,通过一个设置在封闭空间50的一个端部件上的风扇40。侧部腔30的倾斜壁32上可以具有孔34,如图所示。移动表面200所携带的气垫可以从一个位于移动表面200和侧部腔30的倾斜壁32之间的狭缝G经过倾斜壁32上的孔34吸入到所述封闭空间50中,并且通过所述风扇40进一步从该空间中出来进入到围绕在装置周围的空气中。移动表面200所携带的气垫在超过400m/min的速度上是未解决的,气垫破坏落在移动表面200上的第二处理剂帘F2。
图3示意地示出了根据本发明的第三实施例的侧视图。处理剂的供给装置10和平整装置100与图1和图2中所示的处理剂的供给装置10和平整装置100稍微有所不同。
供给装置10包括一个主体腔11,一个中间部16,两个连接件20,21,连接装置20a,20b,20c;21a,21b,21c,膨胀装置23,以及一个支撑部24。连接装置中的销钉20a,21a从支撑部24,主体部11和连接件20,21中伸出。在销钉20a,20b的下端具有螺母20c,21c,这些螺母支撑在连接件20,21的外表面上。连接装置20,21通过围绕销钉的弹簧20b,21b在中间部16上支撑在它们的内表面上。在销钉20a,21a的上端同样具有支撑在支撑部24的上表面上的螺栓20d,21d。此外,支撑部24通过一个膨胀软管23支撑在主体腔11的底部表面上。供给装置10图示在操作位置,膨胀软管23被压缩。连接件20,21把漏板18压紧在中间部16的下表面上。当压力从膨胀软管23中去除时,弹簧20b,21b在图中向下压紧连接件20,21,以至于压紧在连接件20,21和中间部16之间的漏板18可以从供给装置10上拆除。
主体腔11上具有供给腔12,处理剂可以通过一个导向图中侧部的管22供给到所述供给腔中。在该位置处所述管22被连接到供给装置12上形成供给腔的一个进口。一个具有孔15的挡板14安装在供给腔12的出口上。此外,在中间部16上具有一个连通供给腔12的中间腔17。中间腔17的出口通过具有孔19的漏板18关闭。
处理剂的平整装置100设置在处理剂的供给装置10的下面,该实施例中的平整装置包括两块形成了两个倾斜表面120,130的倾斜板。第一倾斜板120的上端122延伸到供给装置10的漏板18的底部表面上并且它的下端,也就是说,它的尾端121延伸到供给装置10下的一定距离处。第二倾斜板130的上端132延伸到第一倾斜板120的下端121处或者其上部,第二倾斜板130的下端131设置在移动表面200上。
从供给装置10的漏板18上的孔19中流出的处理剂射流直接流到第一倾斜板120上并且沿着第一倾斜板到达第一倾斜板120的尾端121。从第一倾斜板120的尾端121处理剂流到第二倾斜板130上,沿着第二倾斜板处理剂流体向下流动并且从第二倾斜板130的尾端131流到移动表面200上。在第一倾斜板120上处理剂流沿着一个第一流动路径L1流动,以至于重力把处理剂流体压紧在由第一板120的上部表面限定的第一流动路径L1上。在第二倾斜表面130上,处理剂流以相应的方式沿着第二流动路径L2流动,以至于重力把处理剂流体压紧在由第二板130的上部表面限定的第二流动路径L2上。第二倾斜板130在这作为一个叶片覆层器,但是形成在移动表面上的处理剂层的厚度实际上不是被所述第二倾斜板调整该第二倾斜板而是主要作为一个处理剂的分散件。在此,当然,第一倾斜板120可以完全省略,当从漏板18上的孔19流出的处理剂可以直接落在第二倾斜板130上时。
图4示意地示出了根据本发明的第四实施例的侧视图。处理剂的供给装置10在这相应地对应于图3中所示的供给装置,因此在这不再重复描述,图4中所示的平整装置100与图3中所示的平整装置100不同。
图4中所示的平整装置包括一板,该板形成了一个倾斜表面110,并具有一个延伸到漏板18的底面的上端112,以及一个下端,也就是说,设置在一个圆筒形涂抹杆140的外表面上的尾端111。涂抹杆140,因此,与一个移动表面200相接触。涂抹杆140的旋转方向P与移动表面200的移动方向S相反。处理剂流过漏板18上的孔19到达倾斜板110上并且沿着第一流动路径L1向下到达倾斜板110的尾端,从该尾端处理剂流过涂抹杆140的外表面。在旋转涂抹杆140的外表面上,处理剂沿着第二流动路径L2从涂抹杆140和移动表面200之间的一个接触点流到移动表面200上。旋转涂抹杆140在此形成一个弯曲的第二倾斜表面。移动表面200的移动方向S同样可以与图中所示的相反,其中涂抹杆140的旋转方向P与移动表面200的移动方向S相一致。
图5示出了图2中的平整装置100的一个变形的顶视图。在该实施例中,限定了第二倾斜表面130的板设置成可在横切于移动表面200的移动方向S的方向T上移动。在该情况下,第二倾斜板130的长度B2至少为移动表面200的宽度B1的1.5倍。与第二倾斜板130相连接的并且通过其可以使第二倾斜板130在横切于移动表面200的移动方向S的方向T上移动的致动装置310,320设置在移动表面200的两侧上。当需要清洗第二倾斜板130时,相对于移动表面200驱动每一侧上的致动装置310,320到另一边。然后,在移动表面200侧的第二倾斜板130的所述部分可以自动进行清洗,例如,通过射流水(图中没有显示)或者手工清洗。第二倾斜板130可以间歇地驱动在移动表面200从一边到另一边的处理过程中,因此在移动表面200侧的第二倾斜板130的部分在每个特殊的时间中可以被清洗。因此,第二倾斜板130的表面与处理剂相接触并且尤其是第二倾斜板的尾端131可以在整个时间中保持清洁。可选择地,第二倾斜板130可以由环形带形成,因此它可以连续地或者间歇地旋转。
图5中所示的原理可以应用到清洗挡板14和/或处理剂的供给装置10的漏板18上,其中它们可以在横切于移动表面200的移动方向S的方向上移动。这样的一种设置在上述的引用在该申请中的FI专利申请991498中公开。当然,图5中所示的原理同样可以应用到图1中所示倾斜板110以及图2中所示的第一倾斜板120上。
在图1所示的实施例中,处理剂的平整装置100包括一个倾斜板110,该倾斜板形成处理剂的一个向下的倾斜流动路径L1。此外,在图2和图3所示的实施例中,处理剂的平整装置100包括两个倾斜板120,130,这些倾斜板形成带有两个不同倾斜度的向下倾斜的处理剂流动路径L1,L2。在图4中所示的实施例中,处理剂的平整装置100包括一个倾斜板110和一个旋转涂抹杆140,其中板110形成一个向下的倾斜流动路径L1,涂抹杆140形成一个向下倾斜的弯曲流动路径L2。从本发明的观点来看,平整装置包括一个直接向下倾斜的连续倾斜表面或者一个以断开线的型式向下倾斜并具有多个不同的倾斜度的倾斜表面。倾斜表面还可以包括弯曲的部分。倾斜表面110,120,130,140的处理剂流动路径L1,L2可以是平整的并且可以优选地进行处理以至于该路径是吸水的。倾斜表面110,120,130,140的处理剂流动路径L1,L2可以包括平行于流体延伸的沟槽或者凹陷部并且通过它们处理剂流体可以平整。
在图2所示的实施例中,第一处理剂帘F1流入平整装置100的第一倾斜板120上并且沿着第一倾斜板120的流动路径L1流到第二倾斜板130上。也可以这样设置,即第一处理剂帘F1直接流入第二倾斜板130上并且沿着倾斜流动路径L2向下流动到第二倾斜板130的尾端131,从该尾端处理剂流到移动表面200上。在这种情况下,第一倾斜板120仅仅只是作为封闭空间50的一个壁。
在图1和图2所示的实施例中,处理剂在空气中自由地从漏板18上的孔19向下流过高度H1到达第一倾斜板110,120上。在图3和图4所示的实施例中,处理剂直接经过漏板18上的孔19到达第一倾斜板110,120上。第一处理剂帘F1的自由下落高度H1优选地在0-20mm范围内。
在图1和图2所示的实施例中,处理剂在空气中从倾斜板110,130的尾端111,131自由落下到位于下部的移动表面200上。在图3和图4所示的实施例中,处理剂直接从倾斜板130或者涂抹杆140到达移动表面200上。第二处理剂帘F1的自由下落高度H2优选地在0-200mm范围内。
在图1-4所示的实施例中,在倾斜板110,120上流动的处理剂的第一流动路径L1优选地在5-100mm的范围内。第二流动路径的长度L2同样优选地在5-100mm的范围内。
在图1-4所示的实施例中,相对于其上处理剂流过L1,L2的倾斜板110,120,130的部分的垂直平面的倾斜角α1,α2,优选地在30°-45°的范围内。这些倾斜角α1,α2的角度值根据覆层状况决定。如果处理剂在倾斜板110,130的尾端111,131形成一个凹陷部,角度α1,α2必须增大,也就是说,倾斜板110,130的垂直度必须减小,因为在紊乱状态下的凹陷部会抓住它下面的空气。如果角度α1,α2太大,移动表面200携带的气垫通过落在移动表面200上的处理剂帘在倾斜板110,130的尾端111,131压紧它自己。当处理剂帘突然加速到移动表面200的速度时,处理剂帘从尾端破裂是可能的。在这种情况下,角度α1,α2必须被制得足够大。如果移动表面200的移动速度较高,角度α1,α2还必须调整,从而使处理剂帘在不会产生雾的情况下粘附到移动表面200上。
在图1和图2所示的实施例中,平整装置100的倾斜板110,120和130这样设置,以至于由它们限定的向下倾斜的流动路径L1,L2在移动表面200的移动方向S上导向。处理剂沿着倾斜板的流动不会被移动表面200可能携带的杂质污染。此外,移动表面200携带的气垫不会与倾斜板上的处理剂流体相互干扰。如果不存在处理剂的污染,可以这样设置以至于通过平整装置100的倾斜表面110,120,130形成的流动路径L1,L2可以在移动表面200的移动方向S的相反的方向上导向。然而,移动表面200携带的气垫可能会阻碍处理剂从倾斜板尾端的流动,所述处理剂从所述气垫落下。
在该申请中,使用了术语“漏板”18,但是该板与包括传统的喷嘴的板不同。位于漏板18上的孔19不能与传统的喷嘴相比。在传统的喷嘴中,处理剂的流动管相对于处理剂的流动管的截面尺寸较长。通过比较,在本发明申请中漏板18上的孔19在处理剂的流动方向上相对于孔19的直径非常短。因此,漏板18上的孔19不会形成传统的喷嘴。此外,相对于从一个传统的喷嘴中流出的处理剂的压力处理剂在一个较小的压力下从漏板18上的孔19中流出。
处理剂的倾斜表面110,120,130的后侧可以通过流过雾状水或者水蒸气或者雾状空气从而形成浓缩水保持清洁。通过该装置,任何可能粘附在倾斜表面上的杂质和水膜以及进一步地从倾斜表面的对置侧流出的处理剂膜一起流动到移动表面200上。进入移动表面上的较小的杂质从纸质量的角度来看不是非常的有害,该纸处于处理剂在一个形成阶段进行的状况下。通过使用大量的处理剂流量使覆层材料在倾斜表面两侧上的流动变为可能,因此倾斜板的两侧保持清洁。
漏板18上可以仅仅只具有一排孔19,其中处理剂作为分开的射流或者作为一个连续的帘碰撞在倾斜表面上。碰撞在倾斜表面上的分开的射流以及连续的帘基本上在一条直线。漏板18同样可以具有两排孔19,以至于孔19位于交错的位置关系上。碰撞在倾斜表面上的射流在互相分离的两列上。从靠近倾斜表面的孔19中流出的处理剂射流在一个垂直方向上形成一个在倾斜表面上的膜,并且以与船产生水纹的相同方式从远离倾斜表面的孔19流出的处理剂射流在一个垂直方向上破膜前行。当具有几个互相平行的船时,交叉纹产生。
在一个横向方向上交叉流动的流体可以阻止,例如,一个灰尘颗粒或者一个气泡对在倾斜表面上流动的流体造成的损坏。如果在倾斜表面上流动的处理剂流体被损坏,交叉流在它的上面流动并且缝合该损坏使得整个帘再次为一整体。如果一些从漏板18上的孔19流出的处理剂射流没有完全与其它的处理剂射流平行,这将导致在倾斜表面上流动的处理剂流产生条纹。交叉流同样也可以调整这种情况。
下面所描述的权利要求以及本发明的细节可以在由所述权利要求限定的创造性思想的范围内进行变化,并且可以与上述仅仅通过例子所公开的内容不同。
权利要求
1.一种把处理剂供给到一个移动表面(200)上的方法,使用一个包括至少一个供给腔(12)的供给装置(10),该供给腔具有至少一个进口(13a)和至少一个出口(13b),以及至少一个漏板(18),该漏板上具有孔(19)并且这些孔(19)与所述至少一个供给腔(12)上的至少一个出口(13b)相连通,处理剂从所述至少一个供给腔(12)的至少一个出口(13b)经过所述至少一个漏板(18)上的孔(19)流出,其特征在于,一个向下移动的第一处理剂流(F1)由从所述至少一个漏板(18)上的孔(19)流出的射流形成,一个设置在供给装置(10)下面的平整装置(100)在该方法中使用,该平整装置具有至少一个用于接受第一处理剂流(F1)的倾斜表面(110,120,130)并且形成一个向下的倾斜流动路径(L1,L2),在该表面上一个平整的薄的第二处理剂流(F2)由第一处理剂流(F1)形成,第二处理剂流从平整装置(100)流到所述移动表面(200)上。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,第一处理剂流(F1)作为一个帘在空气中自由地从所述漏板(18)上的孔(19)落在位于下面的平整装置的倾斜表面(110,120,130)上,该倾斜表面接受第一处理剂流(F1)。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于第一处理剂流(F1)直接从所述漏板(18)上的孔(19)流到位于其下面的平整装置(100)的倾斜表面(110,120,130)上,该倾斜表面接受第一处理剂流(F1)。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其特征在于,通过平整装置(100)形成了一个平整的薄的流体的第二处理剂流(F2)作为一个帘在空气中自由地从平整装置(100)转移到移动表面(200)上。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其特征在于,通过平整装置(100)形成一个平整的薄的流体的第二处理剂流(F2)通过平整装置(100)的一个表面(110,130,140)和移动表面(200)之间的一个接触点从平整装置(100)转移到移动表面(200)上。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其特征在于,形成在平整装置(100)的至少一个倾斜表面(110,120,130,140)上的向下的倾斜流动路径(L1,L2)在移动表面(200)的移动方向(S)上导向,因此在平整装置(100)和移动表面(200)之间形成一个在移动表面(200)的移动方向(S)上逐渐变窄的间隙(G)。
7.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其特征在于,形成在平整装置(100)的至少一个倾斜表面(110,120,130,140)上的向下的倾斜流动路径(L1,L2)在移动表面(200)的移动方向(S)相反的方向上导向。
8.一种把处理剂供给到一个移动表面(200)上的装置,该装置包括一个供给装置(10),该供给装置包括至少一个供给腔(12),该供给腔具有至少一个用于处理剂的进口(13a)和至少一个用于处理剂的出口(13b),以及至少一个漏板(18),该漏板上具有孔(19)并且这些孔(19)与所述至少一个供给腔(12)上的至少一个出口(13b)相连通,处理剂从所述至少一个供给腔(12)的至少一个出口(13b)经过所述至少一个漏板(18)上的孔(19)流出,其特征在于,所述从至少一个漏板(18)上的孔(19)流出的射流形成一个向下移动的第一处理剂流(F1),并且装置还包括一个设置在供给装置(10)下面的平整装置(100),该平整装置具有至少一个用于接受第一处理剂流(F1)的倾斜表面(110,120,130,140)并且形成一个向下的倾斜流动路径(L1,L2),在该表面上第一处理剂流(F1)形成一个平整的薄的第二处理剂流(F2),第二处理剂流从平整装置(100)流到所述移动表面(200)上。
9.根据权利要求8所述的装置,其特征在于,用于接受第一处理剂流(F1)的平整装置(100)的倾斜表面(110,120)与供给装置(10)的漏板(18)上的孔(19)相互隔开,因此,从漏板(18)上的孔(19)流出的第一处理剂流(F1)作为一个帘在空气中自由地落在位于其下的平整装置(100)的倾斜表面(110,120)上,该倾斜表面用于接受第一处理剂流(F1)。
10.根据权利要求8所述的装置,其特征在于平整装置(100)的第一倾斜表面(110,120)直接位于供给装置(10)的漏板(18)上的孔(19)的下面,因此从漏板(18)上的孔(19)流出的第一处理剂流(F1)经过漏板(18)上的孔(19)直接流到位于其下的平整装置(100)的倾斜表面(110,120)上,该倾斜表面接受第一处理剂流(F1)。
11.根据权利要求8至10中的任一项所述的装置,其特征在于,第二处理剂流(F2)经过其上流到移动表面(200)上的平整装置(100)的倾斜表面(110,130)与移动表面(200)相隔开,因此第二处理剂流(F2)作为一个帘在空气中自由地落到移动表面(200)上。
12.根据权利要求8至10中的任一项所述的方法,其特征在于,其特征在于,第二处理剂流(F2)经过其上流到移动表面(200)上的平整装置(100)的倾斜表面(130,140)与移动表面(200)相接触,因此第二处理剂流(F2)直接通过平整装置(100)的所述表面(130,140)和移动表面(200)之间的一个接触点转移到移动表面(200)上。
13.根据权利要求8至12中任一项所述的装置,其特征在于,平整装置(100)的向下的倾斜流动路径(L1,L2)在移动表面(200)的移动方向(S)上导向,因此在平整装置(100)和移动表面(200)之间形成一个在移动表面(200)的移动方向(S)上逐渐变窄的间隙(G)。
14.根据权利要求8至12中任一项所述的装置,其特征在于,平整装置(100)的向下的倾斜流动路径(L1,L2)在移动表面(200)的移动方向(S)的相反方向上导向。
15.根据权利要求8所述的装置,其特征在于,平整装置(100)包括一个倾斜表面(110),该倾斜表面具有一个尾端(111)并且用于接受第一处理剂流(F1),该第一处理剂流(F1)在空气中作为一个帘自由地从漏板(18)上的孔(19)中落下并且第二处理剂流(F2)经过倾斜表面(110),该第二处理剂流(F2)变成一个在倾斜表面(110)的流动路径(L1)上平整的薄的处理剂流,在空气中作为一个帘从倾斜表面的尾端(111)流动到移动表面(200)上。
16.根据权利要求8所述的装置,其特征在于,平整装置(100)包括两个具有尾端(121,131)的倾斜表面(120,130),从而第一倾斜表面(120)的尾端(121)设置在第二倾斜表面(130)上,第一倾斜表面(120)接受在空气中作为一个帘从漏板(18)上的孔(19)自由下落的第一处理剂流(F1)并且第二处理剂流(F2)经过第二倾斜表面,该第二处理剂流在所述倾斜表面(120,130)的流动路径(L1,L2)上变成一个平整的薄的处理剂流,作为一个帘在空气中从倾斜表面的尾端(131)流到移动表面(200)上。
17.根据权利要求8所述的装置,其特征在于,平整装置(100)包括两个具有尾端(121,131)的倾斜表面(120,130),从而第一倾斜表面(120)的尾端(121)设置在第二倾斜表面(130)上,并且第二倾斜表面(130)的尾端(131)设置在移动表面(200)上,第一倾斜表面(120)接受在空气中作为一个帘从漏板(18)上的孔(19)自由下落的第一处理剂流(F1)并且第二处理剂流(F2)经过第二倾斜表面,该第二处理剂流在所述倾斜表面(120,130)的流动路径(L1,L2)上变成一个平整的薄的处理剂流,并从倾斜表面的尾端(131)直接流动到移动表面(200)上。
18.根据权利要求8所述的装置,其特征在于,平整装置(100)包括一个具有尾端(111)的倾斜表面(110)以及一个旋转的圆柱表面(140),从而第一倾斜表面(110)的尾端(111)设置在旋转圆柱表面(140)上并且旋转圆柱表面(140)与移动表面(200)相接触,第一倾斜表面(110)用于接受在空气中作为一个帘从漏板(18)上的孔(19)自由落下的第一处理剂流(F1)并且第二处理剂流(F2)流过旋转圆周表面(140),该流体在所述表面(120,130)的流动路径(L1,L2)上变成一个平整的薄的处理剂流,从旋转圆柱表面(140)和移动表面(200)之间的一个接触点上流到移动表面(200)上。
19.根据权利要求16所述的装置,其特征在于,第二倾斜表面(130)的长度(B1)至少为移动表面(200)的宽度(B1)的1.5倍,并且致动件(310,320)设置在移动表面(200)的两侧,致动件与第二倾斜表面(130)相连接并且通过致动件第二倾斜表面(130)设置成在横切于移动表面(200)的移动方向(S)的方向(T)上移动,因此,在移动表面(200)侧部的第二倾斜板(130)的部分在每个特殊的时间内可以人工清洗或者自动清洗。
20.根据权利要求16或19所述的装置,其特征在于,平整装置(100)包括一个形成在第一(120)和第二(130)倾斜表面之间的封闭空间(50)并且一个真空装置(40)与所述空间相连接,第二倾斜表面(130)包括孔(133),通过该孔一个由移动表面(200)携带的气垫可以通过真空装置(40)吸入到该封闭空间(50)中。
全文摘要
装置包括一个供给装置(10)和一个设置在供给装置下的平整装置(100)。供给装置(10)包括一个具有一进口(13a)和一出口(13b)的供给腔(12),以及一个其上具有孔(19)并且该孔与供给腔的出口(13b)相连通的漏板(18)。平整装置(100)包括至少一个形成了处理剂向下的倾斜流动路径(L1)的倾斜表面(110),从供给腔(12)的出口(13b)流出的射流经过漏板(18)上的孔(19)形成一个第一处理剂流(F1)。平整装置(100)的一个倾斜表面(110)用于接受第一处理剂流(F1),在平整装置(100)的流动路径(L1)上形成了一个平整的薄的处理剂流的第二处理剂流(F2)流到一个移动表面(200)上。
文档编号D21H23/00GK1812848SQ03802402
公开日2006年8月2日 申请日期2003年1月15日 优先权日2002年1月16日
发明者劳诺·兰塔宁 申请人:美卓纸业公司
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