专利名称：一种超低剥离力的离型膜的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种离型膜，特别是ー种最小离型カ小于3g/in的超低剥离カ的离型膜，属于粘接材料技术领域。
背景技术：
离型膜广泛应用于电子，电脑，家电等加工领域；目前，带有粘性的软质产品需要一种离型膜，所述软质产品放置于其上再揭起时不会破坏软质产品的质量；目前的硅油离型膜不能符合此要求。目前的硅油离型膜是在原膜层Ia上涂ー层硅油层2a，如图1所示，目前的硅油离型膜的最小剥离カ在5g/in且稳定性不高。目前我们的软质产品要求离型膜的最小离型カ必须控制在< 3g/in剥离カ且要稳定。
发明内容
本发明的目的在于提供ー种最小离型カ小于3g/in的超低剥离カ的离型膜。为达到上述目的，本发明采用的技术方案是一种超低剥离カ的离型膜，包括原膜层；所述原膜层的表面上均匀地设置有点状硅油层。由于上述技术方案的运用，本发明与现有技术相比具有下列优点本发明的超低剥离カ的离型膜，在原膜层的表面上设置点状硅油层，减小了产品与离型膜表面上的硅油层的接触面积，有效地降低离型膜的离型カ且更稳定；同时也解决了贴合时气泡的工程难题；本发明方案的离型膜的最小离型カ小于3g/in。
下面结合附图对本发明技术方案作进ー步说明图1为现有技术的离型膜的截面图；图2为本发明的超低剥离カ的离型膜的截面图；图3为图2的俯视图；其中1a、原I旲层；2a、娃油层；lb、原I旲层；2b、点状娃油层。
具体实施例方式下面结合附图来说明本发明。如附图2、3所示为本发明的一种超低剥离カ的离型膜，包括原膜层Ib ;所述原膜层Ib的表面上均匀地设置有点状硅油层2b。由于上述技术方案的运用，本发明与现有技术相比具有下列优点本发明的超低剥离カ的离型膜，在原膜层的表面上设置点状硅油层，减小了产品与离型膜表面上的硅油层的接触面积，有效地降低离型膜的离型カ且更稳定；同时也解决了贴合时气泡的工程难题；本发明方案的离型膜的最小离型カ小于3g/in。上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人 士能够了解本发明的内容并加以实施，并不能以此限制本发明的保护范围，凡根据本发明
精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围内。
权利要求
1. 一种超低剥离カ的离型膜，包括原膜层；其特征在于所述原膜层的表面上均匀地设置有点状硅油层。
全文摘要
本发明公开了一种超低剥离力的离型膜，包括原膜层；所述原膜层的表面上均匀地设置有点状硅油层；本发明的超低剥离力的离型膜，在原膜层的表面上设置点状硅油层，减小了产品与离型膜表面上的硅油层的接触面积，有效地降低离型膜的离型力且更稳定；同时也解决了贴合时气泡的工程难题；本发明方案的离型膜的最小离型力小于3g/in。
文档编号B32B9/04GK103029364SQ2011102702
公开日2013年4月10日 申请日期2011年9月14日 优先权日2011年9月14日
发明者王春生 申请人:苏州安洁科技股份有限公司