专利名称：一种具有稳定银层的高透型可异地钢化低辐射镀膜玻璃的制作方法
技术领域：
本实用新型属于低辐射镀膜玻璃生产技术领域，尤其涉及一种具有稳定银层的一种具有稳定银层的高透型可异地钢化低辐射镀膜玻璃。
技术背景 磁控溅射所谓溅射，即用荷能粒子轰击物体，可以使物体表面原子从目标体表面逸出。磁控溅射又称为高速、低温的溅射技术，其在本质上是按磁控模式运行的二极溅射，不依靠外加源来提高放电中的电离率，而是利用溅射产生的二次电子本身的作用。在磁控溅射装置中，增设了和电场相正交的磁场，二次电子在正交的电场和磁场的共同作用下，不再是做单纯的直线运动，而是按特定的轨迹做复杂运动。这样，二次电子到达阳极的路程大大增加，碰撞电离几率也增加了，显著提高溅射效率。此外，在磁控溅射装置中的阳极置于阴极(靶材)的周围，基片放置在阴极靶材的对面，二次电子在经过多次碰撞后，自身能量消耗殆尽，对基片的碰撞减少则可提闻锻I吴质量。溅射成膜原理在充入少量工艺气体的真空舱室内，当极间电压很小时，只有少量离子和电子存在，电流密度在10-15A/cm2数量级，当真空舱室内阴极(靶材)和阳极间电压增加时，带电粒子在电场的作用下加速运动，粒子能量增加，与电极或中性气体原子相碰撞，产生更多的带电粒子，直至电流达到10-6A/cm2数量级，当电压在增加时，则会产生负阻效应，即“雪崩”现象。此时离子轰击阴极(靶材)，击出阴极原子和二级电子，二次电子与中性原子碰撞产生更多离子，此离子再轰击阴极(靶材)，又产生二次电子，如此反复。当电流密度达到10-2A/cm2数量级时，电流将随电压的增加而增加，形成高密度等离子体的异常辉光放电，高能量的离子轰击阴极(靶材)产生溅射现象，溅射出来的高能量靶材粒子沉积到阳极(玻璃基片，即平板玻璃)上，从而达到镀膜目的。现有的低辐射镀膜玻璃一般采用镍铬层作为银层的隔离保护层，由于镍铬金属膜对光具有高吸收性，故在镀制高透型低辐射镀膜玻璃时便将镍铬层镀制的偏薄，但镍铬层的减薄又影响到了银层的稳定性，尤其对可钢化膜系的玻璃产品影响更大。
实用新型内容本实用新型的目的在于克服现有高透型可异地钢化低辐射镀膜玻璃上镍铬层偏薄，导致银层的稳定性差的缺点，而提供一种具有稳定银层的高透型可异地钢化低辐射镀膜玻璃，在原有的镍铬层上利用溅射镀制一层镍铬氧化物，有镍铬层和镍铬氧化物层两层薄膜组成银层的保护层，不但提高了银层的稳定性，而且又有效的提高了膜系的光透过率。实现本实用新型所采用的技术方案—种具有稳定银层的高透型可异地钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板、从内向外依次溅射在玻璃基板上的第一抗反射膜层、第一隔离膜层、第二抗反射膜层、Ag层、第二隔离膜层、保护膜层，其中第一抗反射层和保护膜层的材料为Si3N4 ;第一隔离膜层和第二隔离膜层的材料为NiCr ;第二抗反射膜层的材料为ZnO，其特征在于在第二隔离膜层与保护膜层之间利用溅射方法镀制第三隔离膜层。所述的第三隔离膜层的材料为NiCrOx。所述的第二隔离膜层的厚度为第三隔离膜层的厚度为5-15mm。第二隔离膜层和第三隔离膜层共同组成Ag层的隔离保护层，既起到保护Ag层的作用，又提高了膜系透过率。本实用新型的有益效果是I、本实用新型提高了银层的稳定性。2、本实用新型提高了膜系的光透过率。
图I为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
如图I所示，一种具有稳定银层的高透型可异地钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板、从内向外依次溅射在玻璃基板上的第一抗反射膜层2、第一隔离膜层3、第二抗反射膜层4、Ag层5、第二隔离膜层6、保护膜层8，其特征在于在第二隔离膜层6与保护膜层8之间利用溅射方法镀制第三隔离膜层7。由于玻璃中有60%_70%的硅成分，Si3N4与玻璃表面有较好的结合力，同时Si3N4结构致密，可有效阻挡玻璃钢化时基板本身释放的钠离子或游离氧侵蚀Ag层，造成其被氧化而失去隔热节能的功能，所以用Si3N4作为第一抗反射膜层2的材料，第一抗反射膜层2的膜厚为20-30 nm。第一隔离膜层3的材料为NiCr合金，其膜厚为1_5 nm,可保护Ag层免受侵蚀而被氧化。第二抗反射膜层4的材料为ZnO，其膜厚为5_10 nm ；ZnO具有表面光滑的特性，可使Ag层更加均匀，并且ZnO膜可提高可见光的透过率。Ag层5也为低辐射功能层，膜厚为8-12 nm，可阻挡红外线，有隔热保温的功能。第二隔离膜层6的材料为NiCr，膜厚为1_3 nm ;第三隔离膜层7的材料为NiCrOx,膜厚为5-15 nm。第二隔离膜层6和第三隔离膜层7两层膜组成Ag层的隔离保护层，不但提高了 Ag层的稳定性，而且提高了膜系的透过率。保护膜层8的材料为Si3N4，膜厚为20_60nm，保护整体膜层结构，阻挡钢化过程中空气中的氧气、水汽、硫化氢等有害物质对膜系中Ag层的腐蚀，提高了中提膜层的耐化学腐蚀和机械摩擦能力。
权利要求1.ー种具有稳定银层的高透型可异地钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板、从内向外依次溅射在玻璃基板上的第一抗反射膜层(2)、第一隔离膜层(3)、第二抗反射膜层(4)、Ag层(5)、第二隔离膜层(6)、保护膜层(8)，其中第一抗反射层(2)和保护膜层(8)的材料为Si3N4 ;第一隔离膜层(3)和第二隔离膜层(6)的材料为NiCr ;第二抗反射膜层(4)的材料为ZnO，其特征在于在第二隔离膜层(6)与保护膜层(8)之间利用溅射方法镀制第三隔离膜层⑴。
2.根据权利要求I所述的ー种具有稳定银层的高透型可异地钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于第三隔离膜层(7)的材料为NiCrOx。
3.根据权利要求I所述的ー种具有稳定银层的高透型可异地钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于第二隔离膜层(6)的厚度为l_3mm，第三隔离膜层(7)的厚度为5_15mm。
专利摘要本实用新型属于低辐射镀膜玻璃生产技术领域，尤其涉及一种具有稳定银层的高透型可异地钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板、从内向外依次溅射在玻璃基板上的第一抗反射膜层、第一隔离膜层、第二抗反射膜层、Ag层、第二隔离膜层、第三隔离膜层、保护膜层，由第二隔离膜层和第三隔离膜层组成Ag层的保护层，不但提高了银层的稳定性，而且又有效的提高了膜系的光透过率。
文档编号B32B15/04GK202540848SQ20122013608
公开日2012年11月21日 申请日期2012年3月31日 优先权日2012年3月31日
发明者刘国龙, 张云飞, 王建, 苍利民, 贺超宇, 韩广军 申请人:河南安彩高科股份有限公司