专利名称：一种书写模板的制作方法
技术领域：
本实用新型具体涉及一种书写模板，尤其涉及一种带笔画槽的书写模板，属于文
化用品制作的技术领域，特别适应少儿幼儿练习书写应用。
技术背景 就发明人所知，目前，现有少儿幼儿使用的书写模仿，大都是采用平面仿引方框约束笔画的方式练习，采用这种方式虽然能使书写达到规范字体规格，提高写字水平的目的，但是也存在仿引工序复杂，少儿幼儿掌控困难，笔画印记清晰度不足，笔画轻重难以掌控的缺陷。
发明内容； 本实用新型的目的就是为弥补以上不足，提供的一种工序简单灵活，笔画印记直观，字体、笔画规格标准规范，不易损坏的一种书写模板。 本实用新型是这样实现的，所述的一种书写模板，其特征在于设置一块平面(200X270)mm的长方型模板(l)，在长方型模板(1)的面上以横8mm，竖10mm等份成长方形块(2)，并在长方型模板(1)上留天，下留地，在长方形块(2)内刻制有标准的文字或笔画槽(3)。少儿幼儿在练习写字时，无需任何程序，只要手握笔杆(什么笔均可)，顺槽练习即可完成。 本实用新型的一种书写模板，具有结构合理简单，面洁大方，触觉明显，工序简单灵活，笔画印记直观，字体、笔画规格标准规范，不易损坏，投资少，费用低、美观大方，易操
作、效果明显的优点。
附图为一种书写模板 图中1.长方型模板，2.长方形块，3.笔画槽，具体实施方式
以下结合附图实施例对本实用新型作进一步的详细说明，如附图所示一种书写模板，是设置一块平面(200X270)mm的长方型模板(l)，在长方型模板(1)的面上以横8mm，竖10mm等份成长方形块(2)，在长方形块(2)内刻制有标准的文字或笔画槽(3)，并在长方型模板(1)上留天，下留地。特别适应于相关制造企业制造生产。
权利要求一种书写模板，其特征在于设置一块平面(200×270)mm的长方型模板(1)，在长方型模板(1)的面上以横8mm，竖10mm等份成长方形块(2)，在长方形块(2)内刻制有标准的文字或笔画槽(3)，并在长方型模板(1)上留天，下留地。
专利摘要一种书写模板，解决了现有书写模仿，印记清晰度不足，笔画轻重难以掌控，工序复杂的问题，特点是设置一块(200×270)mm的长方型模板(1)，在长方型模板(1)的面上以横8mm，竖10mm等份成长方形块(2)，在长方形块(2)内刻制有标准的文字或笔画槽(3)，并在长方型模板(1)上留天，下留地，本实用新型具有结构合理简单，工序简单灵活，笔画印记直观，字体、笔画规格标准规范，不易损坏，美观大方，易操作、效果明显的优点，特别适应于少儿幼儿练习书写应用。
文档编号G09B11/00GK201477761SQ20092016208
公开日2010年5月19日 申请日期2009年7月7日 优先权日2009年7月7日
发明者张澎珍 申请人:张澎珍