一种用于凸透镜成像实验中的光源底座的制作方法

文档序号:30345117发布日期:2022-06-08 08:59阅读:182来源:国知局
一种用于凸透镜成像实验中的光源底座的制作方法

1.本实用新型涉及凸透镜成像实验,尤其涉及一种用于凸透镜成像实验中的光源底座。


背景技术:

2.凸透镜成像实验是初中物理实验中的基本实验。凸透镜成像实验在探究凸透镜成像时,通过把光源插杆固定在光源底座上,然后移动光源底座来实现光源的移动。但由于现有光源底座的结构限制,光源只能做前后移动,上下移动,而不能做左右移动。这样学生实验时,只能探究光源在前后移动或上下移动时的成像规律,而不能探究光源左右移动时的成像规律。


技术实现要素:

3.本实用新型的目的在于提供一种用于凸透镜成像实验中的光源底座,在探究凸透镜成像实验时,既可以让光源前后移动、上下移动,还可以左右移动,从而能探究光源前后移动、上下移动和左右移动时的成像规律。
4.本实用新型采用的技术方案是:一种用于凸透镜成像实验中的光源底座,其特征在于:包括光源底座主体和移动块,所述移动块设有光源固定筒,所述移动块可在所述光源底座主体上左右移动,所述移动块下部为无底边的移动块框,所述移动块框套在所述光源底座主体上;所述光源底座主体顶部设有滑动槽,光源插杆穿过光源固定筒,插入所述滑动槽内,光源底座主体底部有2个导杆孔,导杆孔套在光源底座导杆上。
5.所述移动块框侧面的底部有向内的沿边。
6.本实用新型在探究凸透镜成像实验时,既可以让光源前后移动、上下移动,还可以左右移动,从而探究光源前后、上下、左右移动时的成像规律。
附图说明
7.图1是本实用新型一种用于凸透镜成像实验中的光源底座的结构图;
8.图2是图1的俯视图;
9.图3是本实用新型光源底座主体的结构图;
10.图4是本实用新型移动块的结构图;
11.图中:1、光源底座主体;2、移动块;3、调节螺母,4、导杆孔,5、滑动槽,6、移动块框,7、光源固定筒。
具体实施方式
12.下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例,都属
于本实用新型保护的范围。
13.从图1-4可知,本实用新型是一种用于凸透镜成像实验中的光源底座,包括光源底座主体1和移动块2,光源底座主体1顶部设有滑动槽5,底部有2个导杆孔,导杆孔套在光源底座导杆上;移动块2上部为光源固定筒,下部为无底边的移动块框6,移动块框侧面的底部有向内的沿边,移动块框6套在光源底座主体1上,光源插杆穿过光源固定筒,插入所述滑动槽内。移动块可在光源底座主体上左右移动。
14.本实用新型的使用过程:
15.先将光源底座主体1的2个导杆孔套在光源底座导杆上,光源底座主体可沿导杆作前后运动,运动到合适位置后,可由调节螺母固定定位;
16.再将光源插杆插入光源固定筒内,通过插入深度调节上下高度到合适位置后,同样也可以由调节螺母固定定位;
17.再移动移动块,光源插杆沿滑动槽左右运动来调节光源的左右位置。
18.本实用新型在探究凸透镜成像实验时,既可以让光源前后移动、上下移动,还可以左右移动,从而可以探究光源前后、上下、左右移动时的成像规律。
19.本实用新型所述的实施例仅仅是对本实用新型的优选实施方式进行的描述,并非对本实用新型构思和范围进行限定,在不脱离本实用新型设计思想的前提下,本领域中工程技术人员对本实用新型的技术方案作出的各种变型和改进,均应落入本实用新型的保护范围,本实用新型请求保护的技术内容,已经全部记载在权利要求书中。


技术特征:
1.一种用于凸透镜成像实验中的光源底座,其特征在于:包括光源底座主体和移动块,所述移动块设有光源固定筒,所述移动块可在所述光源底座主体上左右移动,所述移动块下部为无底边的移动块框,所述移动块框套在所述光源底座主体上;所述光源底座主体顶部设有滑动槽,光源插杆穿过光源固定筒,插入所述滑动槽内,光源底座主体底部有2个导杆孔,导杆孔套在光源底座导杆上。2.根据权利要求1所述的一种用于凸透镜成像实验中的光源底座,其特征在于:所述移动块框侧面的底部有向内的沿边。

技术总结
本实用新型公开了一种用于凸透镜成像实验中的光源底座,包括光源底座主体和移动块,所述移动块设有光源固定筒,所述移动块可在所述光源底座主体上左右移动,所述移动块下部为无底边的移动块框,所述移动块框套在所述光源底座主体上;所述光源底座主体顶部设有滑动槽,光源插杆穿过光源固定筒,插入所述滑动槽内,光源底座主体底部有2个导杆孔,导杆孔套在光源底座导杆上。本实用新型在探究凸透镜成像实验时,既可以让光源前后移动、上下移动,还可以左右移动,从而探究光源前后、上下、左右移动时的成像规律。时的成像规律。时的成像规律。


技术研发人员:蒋仕兵 万甘露 杨立书 黄志勇 吴华政 姚旭 李碧琼 李曼玲
受保护的技术使用者:蒋仕兵
技术研发日:2021.11.05
技术公布日:2022/6/7
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