导电性光学层叠体的制作方法

文档序号:34847867发布日期:2023-07-22 12:47阅读:34来源:国知局
导电性光学层叠体的制作方法

本发明涉及一种导电性光学层叠体。


背景技术:

1、以往,作为触控传感器的电极等所使用的导电性膜,多使用于树脂膜上形成有铟-锡复合氧化物层(ito层)等金属氧化物层而成的导电性膜。然而,形成有金属氧化物层而成的导电性膜存在可挠性不足的问题。作为可挠性优异的导电性膜,提出了一种具备透明导电层的导电性膜,该透明导电层包含使用了银、铜等的金属纳米线或金属网。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1:日本特表2009-505358号公报


技术实现思路

1、发明所要解决的课题

2、多数情况下导电性膜是与图像显示面板组合使用,此时,存在配置于起偏器的附近来使用的情况。在此种情况下,受起偏器中所含的成分(尤其是碘成分)影响,可能会产生导电性膜的透明导电层中的金属纳米线等劣化而该导电性膜的导电性降低的问题。

3、本发明是为了解决上述问题而完成的,其目的在于提供一种导电性光学层叠体,其尽管具备起偏器及包含金属纳米线或金属网的透明导电层,却可防止该金属纳米线劣化。

4、用于解决课题的手段

5、本发明的导电性光学层叠体依次具备起偏器、阻挡层和透明导电层,该阻挡层为树脂层,该透明导电层包含金属纳米线或金属网。

6、在一个实施方式中,上述阻挡层包含丙烯酸系树脂及环氧系树脂。

7、在一个实施方式中,上述丙烯酸系树脂包含来自丙烯酸系单体的结构单元和来自下述式(1)所表示的单体(a)的结构单元。

8、

9、(式中,x表示包含选自由乙烯基、(甲基)丙烯酰基、苯乙烯基、(甲基)丙烯酰氨基、乙烯醚基、环氧基、氧杂环丁基、羟基、氨基、醛基及羧基所组成的组中的至少1种反应性基团的官能团,r1及r2分别独立地表示氢原子、可具有取代基的脂肪族烃基、可具有取代基的芳基或可具有取代基的杂环基,r1及r2可相互连结而形成环)。

10、在一个实施方式中,在上述丙烯酸系树脂中,相对于该丙烯酸系树脂100重量份,来自上述单体(a)的结构单元的含有比率为超过0重量份且低于50重量份。

11、在一个实施方式中,上述阻挡层的总厚度为0.1μm~16μm。

12、在一个实施方式中,上述导电性光学层叠体具有多层上述阻挡层。

13、在一个实施方式中,上述导电性光学层叠体进一步具备基材,上述透明导电层配置于该基材上。

14、在一个实施方式中,上述导电性光学层叠体在上述阻挡层与上述透明导电层之间进一步具备以保护该透明导电层的方式配置的保护层。

15、在一个实施方式中,构成上述金属纳米线的金属为选自由金、铂、银、铜、铝、铑及镍所组成的组中的1种以上的金属。

16、在一个实施方式中,构成上述金属网的金属为选自由金、铂、银、铜、铝、铑及镍所组成的组中的1种以上的金属。

17、在一个实施方式中,上述金属纳米线由对选自由金、铂、银、铜、铝、铑及镍所组成的组中的1种以上的金属进行镀覆处理而成的材料形成。

18、在一个实施方式中,上述金属网由对选自由金、铂、银、铜、铝、铑及镍所组成的组中的1种以上的金属进行镀覆处理而成的材料形成。

19、发明效果

20、根据本发明,可提供一种导电性光学层叠体,其尽管具备起偏器及包含金属纳米线的透明导电层,却可防止该金属纳米线劣化。



技术特征:

1.一种导电性光学层叠体,其依次具备起偏器、阻挡层和透明导电层,

2.如权利要求1所述的导电性光学层叠体,其中,所述阻挡层包含丙烯酸系树脂和/或环氧系树脂。

3.如权利要求2所述的导电性光学层叠体,其中,所述丙烯酸系树脂包含来自丙烯酸系单体的结构单元和来自下述式(1)所表示的单体(a)的结构单元,

4.如权利要求3所述的导电性光学层叠体,其中,在所述丙烯酸系树脂中,相对于该丙烯酸系树脂100重量份,所述来自单体(a)的结构单元的含有比率为超过0重量份且低于50重量份。

5.如权利要求1至4中任一项所述的导电性光学层叠体,其中,所述阻挡层的总厚度为0.1μm~16μm。

6.如权利要求1至5中任一项所述的导电性光学层叠体,其具有多层所述阻挡层。

7.如权利要求1至6中任一项所述的导电性光学层叠体,其进一步具备基材,所述透明导电层被配置于该基材上。

8.如权利要求1至7中任一项所述的导电性光学层叠体,在所述阻挡层与所述透明导电层之间进一步具备以保护该透明导电层的方式配置的保护层。

9.如权利要求1至8中任一项所述的导电性光学层叠体,其中,构成所述金属纳米线的金属为选自由金、铂、银、铜、铝、铑及镍所组成的组中的1种以上的金属。

10.如权利要求1至8中任一项所述的导电性光学层叠体,其中,构成所述金属网的金属为选自由金、铂、银、铜、铝、铑及镍所组成的组中的1种以上的金属。

11.如权利要求1至8中任一项所述的导电性光学层叠体,其中,所述金属纳米线由对选自由金、铂、银、铜、铝、铑及镍所组成的组中的1种以上的金属进行镀覆处理而成的材料形成。

12.如权利要求1至8中任一项所述的导电性光学层叠体,其中,所述金属网由对选自由金、铂、银、铜、铝、铑及镍所组成的组中的1种以上的金属进行镀覆处理而成的材料形成。


技术总结
本发明提供一种导电性光学层叠体,其尽管具备起偏器及包含金属纳米线或金属网的透明导电层,却可防止该金属纳米线劣化。本发明的导电性光学层叠体依次具备起偏器、阻挡层和透明导电层,该阻挡层为树脂层。在一个实施方式中,上述阻挡层包含丙烯酸系树脂和环氧系树脂。在一个实施方式中,上述导电性光学层叠体具有多层上述阻挡层。

技术研发人员:长濑纯一,三田聪司
受保护的技术使用者:日东电工株式会社
技术研发日:
技术公布日:2024/1/13
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