一种窄边IR膜的制作方法

文档序号:32360081发布日期:2022-11-29 20:42阅读:26来源:国知局
一种窄边IR膜的制作方法
一种窄边ir膜
技术领域
1.本实用新型涉及显示模组技术领域,尤其涉及一种窄边ir膜。


背景技术:

2.在显示模组中,ir膜是用于在某些工序中贴附在显示模组的ir孔处起保护、防脏污等作用,但是现有技术中,ir膜存在以下问题:ir膜的拉把位置居中,比较难分辨正反,在二次贴附时容易出现方向贴反的问题;拉把过大,在受风枪、离子风枪吹拭时应力变大,容易带动ir膜脱离;收腰区面积过大,受应力后容易带动ir膜脱开或起翘等。
3.因此,现有技术存在缺陷,需要改进。


技术实现要素:

4.本实用新型的目的是克服现有技术的不足,提供一种窄边ir膜。
5.本实用新型的技术方案如下:一种窄边ir膜,包括:ir膜本体,所述ir膜本体包括:拉把、粘贴区和遮挡区,所述拉把包括拉把区和收腰区,所述收腰区连接所述粘贴区和拉把区,所述拉把位于所述粘贴区上部的一端,所述遮挡区位于所述粘贴区下部的中间位置,所述收腰区呈两端宽中间窄的形状,所述收腰区上设有第一断线和第二断线,所述粘贴区的背面和所述第二断线下方的收腰区形成有粘贴层,所述拉把区的端部带有颜色,所述拉把的长度小于等于3毫米,宽度小于等于3.61毫米。
6.进一步地,所述收腰区最窄处的宽度为1.42毫米。
7.采用上述方案,本实用新型的有益效果在于:通过变更ir膜的拉把位置,避免作业过程中二次贴附存在方向贴反的问题,缩减ir膜拉把面积,以解决窄边ir膜贴敷粘贴面积小,产品生产过程中易受设备风枪、离子风机、人员触碰导致的ir膜脱开、起翘、脏污等问题。
附图说明
8.图1为本实用新型一实施例的正面的结构图。
9.图2为本实用新型一实施例的背面的结构示意图。
10.图3为本实用新型一实施例的拉把的尺寸示意图。
具体实施方式
11.以下结合附图和具体实施例,对本实用新型进行详细说明。
12.请结合参阅图1至图3,本实用新型提供一种窄边ir膜,包括:ir膜本体,所述ir膜本体包括:拉把、粘贴区2和遮挡区1,所述遮挡区1对应用于遮挡显示模组的ir孔,所述拉把包括拉把区4和收腰区3,所述收腰区3连接所述粘贴区2和拉把区1,所述拉把位于所述粘贴区2上部的一端,所述遮挡区1位于所述粘贴区2下部的中间位置,所述收腰区3呈两端宽中间窄的形状,所述收腰区3上设有第一断线31和第二断线32,所述粘贴区2的背面和所述第
二断线31下方的收腰区形成有粘贴层(图2中斜线图案填充区域),通过第一断线31和第二断线32可以有效分散应力,避免把ir膜带动脱落的问题,所述拉把区4的端部带有颜色,方便识别,所述拉把的长度小于等于3毫米,宽度小于等于3.61毫米,其中带颜色的部分的宽度为2.22毫米。
13.进一步地,所述收腰区4最窄处的宽度为1.42毫米,相对与现有方案,拉把的面积缩小,既可以实现相应的功能,也可以避免把ir膜带脱开的问题。
14.综上所述,本实用新型的有益效果在于:通过变更ir膜的拉把位置,避免作业过程中二次贴附存在方向贴反的问题,缩减ir膜拉把面积,以解决窄边ir膜贴敷粘贴面积小,产品生产过程中易受设备风枪、离子风机、人员触碰导致的ir膜脱开、起翘、脏污等问题
15.以上仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用于限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。


技术特征:
1.一种窄边ir膜,其特征在于,包括:ir膜本体,所述ir膜本体包括:拉把、粘贴区和遮挡区,所述拉把包括拉把区和收腰区,所述收腰区连接所述粘贴区和拉把区,所述拉把位于所述粘贴区上部的一端,所述遮挡区位于所述粘贴区下部的中间位置,所述收腰区呈两端宽中间窄的形状,所述收腰区上设有第一断线和第二断线,所述粘贴区的背面和所述第二断线下方的收腰区形成有粘贴层,所述拉把区的端部带有颜色,所述拉把的长度小于等于3毫米,宽度小于等于3.61毫米。2.根据权利要求1所述的窄边ir膜,其特征在于,所述收腰区最窄处的宽度为1.42毫米。

技术总结
本实用新型公开一种窄边IR膜,包括:IR膜本体,所述IR膜本体包括:拉把、粘贴区和遮挡区,所述拉把包括拉把区和收腰区,所述收腰区连接所述粘贴区和拉把区,所述拉把位于所述粘贴区上部的一端,所述遮挡区位于所述粘贴区下部的中间位置,所述收腰区呈两端宽中间窄的形状,所述收腰区上设有第一断线和第二断线,所述粘贴区的背面和所述第二断线下方的收腰区形成有粘贴层,所述拉把区的端部带有颜色。本实用新型的有益效果在于:通过变更IR膜的拉把位置,避免作业过程中二次贴附存在方向贴反的问题,缩减IR膜拉把面积,以解决窄边IR膜贴敷粘贴面积小,产品生产过程中易受设备风枪、离子风机、人员触碰导致的IR膜脱开、起翘、脏污等问题。问题。问题。


技术研发人员:奉福周 罗俊 郭晓琴 尹宗兵 尹智杰
受保护的技术使用者:深圳同兴达科技股份有限公司
技术研发日:2022.06.28
技术公布日:2022/11/28
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1