一种防水可移胶白画布标签结构的制作方法

文档序号:8652596阅读:127来源:国知局
一种防水可移胶白画布标签结构的制作方法
【专利说明】
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及的是关于一种防水可移胶白画布标签结构。
【【背景技术】】
[0002]经过近些年的发展和整合,人们对中高端介质的品种和质量要求越来越多样,绿色环保,低能耗和高效使用功能的新一代打印介质已经成为产品不可缺少的重要的标志。但是,目前的标签存在柔软贴合性不强,容易渗水等不足。
【【实用新型内容】】
[0003]本实用新型的目的是克服现有技术的不足而提供一种柔软贴合性强、防水、可重复使用的可移胶白画布标签结构。
[0004]针对上述目的,本实用新型采用以下技术方案:
[0005]一种防水可移胶白画布标签结构,包括有絹布基材层1,在絹布基材层I的底面设有离型膜层2,所述离型膜层2与絹布基材层I之间还设有可移胶水层3,在絹布基材层I的顶面覆盖有防水涂层4。
[0006]所述絹布优选为丝光絹布,厚度为80?120 μ mo
[0007]所述离型膜优选为与絹布结合一面为带有硅油的离型膜,厚度为30-80 μ m。
[0008]所述可移胶为水性环保丙烯酸压敏胶。厚度为0-20 μ mo
[0009]所述防水涂层厚度为0-20 μ m。
[0010]本实用新型的有益效果有:
[0011]本实用新型标签柔软贴合性强、表观高雅、防水耐刮擦、渗透性强不易晕染、安全环保、可贴在各种界面并可重复使用。所述絹布基材层材质柔软,平面、曲面均可以应用。由于絹布基材层的纤维结构以及较大的空隙,墨水可较快的渗透,从而防止墨水晕染。由于环保水性可移压敏胶的应用,使标签可以多次使用。防水涂层的使用,使标签可以达到耐水耐潮等要求。
【【附图说明】】
[0012]图1是本实用新型的结构示意图。
【【具体实施方式】】
[0013]下面结合附图与实施例对本实用新型作详细说明:
[0014]如图所示,防水可移胶白画布标签结构,包括有絹布基材层1,在絹布基材层I的底面设有离型膜层2,所述离型膜层2与絹布基材层I之间还设有可移胶水层3,在絹布基材层I的顶面覆盖有防水涂层4。采用以上四个层结构,使标签柔软贴合性强、表观高雅、防水耐刮擦、渗透性强不易晕染、安全环保、可贴在各种界面并可重复使用。所述絹布基材层材质柔软,平面、曲面均可以应用。由于絹布基材层的纤维结构以及较大的空隙,墨水可较快的渗透,从而防止墨水晕染。由于环保水性可移压敏胶的应用,使标签可以多次使用。防水涂层的使用,使标签可以达到耐水耐潮等要求。
[0015]作为本实施例的优选方式,所述絹布基材层I为丝光絹布层,其厚度为80 -120 μ m。所述防水涂层4的厚度为0.1_20 μ m。所述离型膜层2与絹布基材层I合在一起的一面涂有硅油的离型膜,其厚度为30-80 μ m。
[0016]所述可移胶水层3为水性环保丙烯酸压敏胶层,其厚度为0.1-20 μ m。所述可移胶水层3为申请人在先申请的专利(201410448513.9)中的水性环保丙烯酸压敏胶制造而成的层结构。
[0017]本实用新型不局限于上述最佳实施方式,任何人在本实用新型的启示下都可得出其它各种形式的产品,但不论在其形状结构或结构上做任何变化,凡是具有与本申请相同或相近的技术方案,均落在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种防水可移胶白画布标签结构,包括絹布基材层(I),其特征在于在絹布基材层(I)的底面设有离型膜层(2),所述离型膜层(2)与絹布基材层(I)之间还设有可移胶水层(3),在絹布基材层(I)的顶面覆盖有防水涂层(4)。
2.根据权利要求1所述的一种防水可移胶白画布标签结构,其特征在于所述絹布基材层(I)为丝光絹布层,其厚度为80 - 120 μ mo
3.根据权利要求1或2所述的一种防水可移胶白画布标签结构,其特征在于所述防水涂层(4)的厚度为0.1-20 μ m。
4.根据权利要求1或2所述的一种防水可移胶白画布标签结构,其特征在于所述离型膜层(2)与絹布基材层(I)合在一起的一面涂有硅油的离型膜,其厚度为30-80 μπι。
5.根据权利要求1或2所述的一种防水可移胶白画布标签结构,其特征在于所述可移胶水层(3)为水性环保丙烯酸压敏胶层,其厚度为0.1-20 μ mo
【专利摘要】本实用新型涉及一种防水可移胶白画布标签结构,包括有绢布基材层,在绢布基材层的底面设有离型膜层,所述离型膜层与绢布基材层之间还设有可移胶水层,在绢布基材层的顶面覆盖有防水涂层。本案提供一种柔软贴合性强、防水、可重复使用的可移胶白画布标签结构。
【IPC分类】G09F3-04, G09F3-02
【公开号】CN204360698
【申请号】CN201520018725
【发明人】张怡平, 周广滨, 陈丽娟
【申请人】广东高璐美数码科技有限公司
【公开日】2015年5月27日
【申请日】2015年1月12日
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