专利名称：用于激光打标的掩模及激光打标装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及激光打标装置，尤其涉及一种掩模式激光打标装置。
背景技术：
激光打标装置用于在工件表面打印上永久存留的激光标记。现有技术中的激光打标装置可分为扫描式和掩模式两类。
掩模式激光打标装置包括掩模。现有技术中的掩模一般为薄金属片，在其上镂刻图案或文字等标识。打标时，将该掩模置于工件上方，然后激光器发射的激光射向掩模，激光透过掩模的镂空部分在工件上打出所述标识。
但是这种掩模存在着缺点。由于激光射向掩模时，只有一小部分激光穿过掩模的镂空部分作功，而大部分激光由于被掩模的非镂空部分阻挡而散射掉了。因此，使用这种薄金属片做掩模的激光打标装置激光能量利用率很低。
因此，有必要发明一种激光能量利用率较高的掩模及激光打标装置。
发明内容
本发明一方面提供了一种用于激光打标的掩模，包括凹腔片，该凹腔片具有镂空的标识，在该凹腔片的凹面镀有全反射膜；以及凸腔片，该凸腔片的凸面镀有全反射膜；并且所述凹腔片与凸腔片组成正支共焦非稳腔。
优选地，所述正支共焦非稳腔的前壁为所述凹腔片，所述正支共焦非稳腔的后壁为所述凸腔片，凸腔片的的半径小于凹腔片的半径。
优选地，所述凹腔片的半径的二分之一减去所述凸腔片的半径的二分之一等于凹腔片与凸腔片之间的距离。
本发明另一方面提供了一种激光打标装置，包括发射脉冲激光束的激光器和安装在该激光器发射端前方的掩模，所述掩模包括凹腔片，该凹腔片具有镂空的标识，在该凹腔片的凹面镀有全反射膜；以及凸腔片，该凸腔片的凸面镀有全反射膜；并且所述凹腔片与凸腔片组成正支共焦非稳腔。
优选地，所述正支共焦非稳腔的前壁为所述凹腔片，所述正支共焦非稳腔的后壁为所述凸腔片，凸腔片的的半径小于凹腔片的半径。
优选地，所述凹腔片的半径的二分之一减去所述凸腔片的半径的二分之一等于凹腔片与凸腔片之间的距离。
本发明提供的这种用于激光打标的掩模，由于采用了正支共焦非稳腔的前壁作为掩模片，其上镂刻待打的标识，并且该腔内壁镀有全反射膜，因此在打标时，激光进入腔内作无源震荡。当震荡的激光射向前壁的镂空标识时，穿透镂空部分的激光将作功，被阻挡的部分将被反射而继续震荡。如此多次射向前壁的镂空标识，形成对标识的扫描，使整个镂空部分充分受到激光的穿透，从而提高了激光能量的利用率。
本发明其他方面及优点将在具体实施方式
中结合附图详细说明。
图1是本发明提供的一种用于激光打标的掩模的侧视剖面示意图；图2是本发明提供的一种激光打标装置的示意图；具体实施方式
参考图1，本发明提供的一种用于激光打标的掩模的一个优选实施例中，如图所示，掩模100包括凹腔片110和凸腔片120。凸腔片120的半径比凹腔片110的半径小。两腔片组成的腔室130是正支共焦非稳腔。在本发明的一个优选实施例中，凹腔片110的半径的二分之一减去凸腔片120的半径的二分之一等于二者之间的距离。
凹腔片110为腔室130的前壁，凸腔片120为腔室130的后壁。在凹腔片110的内侧，也就是凹腔片110的凹面112上镀有全反射膜。在凸腔片120的外侧，也就是凸腔片120的凸面122上镀有全反射膜。如此一来，腔室130就构成了一个可以使激光作无源震荡的空腔。
在凹腔片110上具有镂空的待打的标识，例如文字、图案等。激光就是从镂空的部分射出去做功(即在工件上打出痕迹)的。
参考图2，本发明提供的一种激光打标装置的一个优选实施例中，如图所示，激光打标装置300包括激光器200和安装在该激光器200前方的掩模100。激光器200能够发射脉冲激光束。激光器200具有正支共焦非稳腔230。掩模100如前所述，在此不再赘述。
参考图2，工作时，由激光器200发射环状激光束，激光束从腔室230中输出，该激光束射入掩模100的腔室130中。然后该激光束的一部分从掩模100的凹腔片110上的镂空部分(即标识)射出做功，被凹腔片110非镂空部分阻挡的激光在腔式130中做无源震荡。做无源震荡的过程中，这部分激光也分批次的从镂空部分射出做功。最终在工件(图未示)上打出标识。
以上所揭露的仅为本发明的优选实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，因此依本发明申请专利范围所作的等同变化，仍属本发明所涵盖的范围。
权利要求
1.一种用于激光打标的掩模，其特征在于包括凹腔片，该凹腔片具有镂空的标识，在该凹腔片的凹面镀有全反射膜；以及凸腔片，该凸腔片的凸面镀有全反射膜；并且所述凹腔片与凸腔片组成正支共焦非稳腔。
2.根据权利要求1所述的掩模，其特征在于所述正支共焦非稳腔的前壁为所述凹腔片，所述正支共焦非稳腔的后壁为所述凸腔片，凸腔片的的半径小于凹腔片的半径。
3.根据权利要求2所述的掩模，其特征在于所述凹腔片的半径的二分之一减去所述凸腔片的半径的二分之一等于凹腔片与凸腔片之间的距离。
4.一种激光打标装置，包括发射脉冲激光束的激光器和安装在该激光器发射端前方的掩模，其特征在于所述掩模包括凹腔片，该凹腔片具有镂空的标识，在该凹腔片的凹面镀有全反射膜；以及凸腔片，该凸腔片的凸面镀有全反射膜；并且所述凹腔片与凸腔片组成正支共焦非稳腔。
5.根据权利要求4所述的激光打标装置，其特征在于所述正支共焦非稳腔的前壁为所述凹腔片，所述正支共焦非稳腔的后壁为所述凸腔片，凸腔片的的半径小于凹腔片的半径。
6.根据权利要求5所述的激光打标装置，其特征在于所述凹腔片的半径的二分之一减去所述凸腔片的半径的二分之一等于凹腔片与凸腔片之间的距离。
全文摘要
本发明公开了一种用于激光打标的掩模，包括凹腔片，该凹腔片具有镂空的标识，在该凹腔片的凹面镀有全反射膜；以及凸腔片，该凸腔片的凸面镀有全反射膜；并且所述凹腔片与凸腔片组成正支共焦非稳腔。这种掩模利用正支共焦非稳腔构成无源震荡腔室，进入腔室的激光做无源震荡，提高了激光能量的利用率。本发明还同时公开了一种安装了该掩模的激光打标装置。
文档编号B44B7/00GK1807114SQ20061003345
公开日2006年7月26日 申请日期2006年1月26日 优先权日2006年1月26日
发明者戈军 申请人:戈军