专利名称：半反透型tft的彩色滤光片的制作方法
技术领域：
半反透型TFT的彩色滤光片
技术领域：
本实用新型涉及半反透型TFT，更具体地说，涉及一种半反透型TFT的彩色滤光 片。
背景技术：
进入新千年，作为信息产业的重要构成部分_显示器件正在加速推进其平板化的 进程。目前，世界已进入"信息革命"时代，显示技术及显示器件在信息技术的发展过程中 占据了十分重要的地位，电视、电脑、移动电话、BP机、PDA等可携式设备以及各类仪器仪表 上的显示屏为人们的日常生活和工作提供着大量的信息。 TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶体管)屏幕是一种高亮度、高对比度的显示器
件，其每个液晶像素点都是由集成在像素点后面的薄膜晶体管来驱动，从而可以做到高速 度、高亮度、高对比度显示屏幕信息，是目前最好的LCD彩色显示设备之一，广泛应用在各 种设备上，如手机、手提电脑等。TFT屏幕之所以能够产生色彩的变化，主要是来自CF(Color Filter，彩色滤光片)；当光闸选择背光源穿透与否时，能产生黑白的画面，再透过CF的红 (R)、绿(G)、蓝(B)三种彩色层提供色相，形成彩色显示画面。 为了达到上述要求，现有技术中的TFT CF通常是利用树脂来制作BM(Black Mask, 黑色矩阵)，即为光闸；在光闸处设置RGB彩色色块，形成彩色层；再在光闸和色块上设置 0C层(Over Coat，即保护层)禾P IT0层(Tindoped Indium 0xide， IT0，氧化铟锡)。为了 提高TFT显示的对比度，需要BM具有较高的0D值(Optical Density光学密度)，以提高其 遮光率。通常情况下，膜厚与OD值呈线性关系，即成正比(树脂BM膜厚在l. 15um时，0D值 为3左右)。而且BM膜越厚在加工过程中0C层(Over Coat，即保护层)的流平性越不好， 最终的膜结构在平整性和均匀性上受到严重的影响，进而影响到TFT屏成品的对比度和视 角。
实用新型内容
为克服现有技术中TFT屏幕中的彩色滤光片存在的平坦性差的缺陷，本实用新型 提供一种新型的半反透型TFT彩色滤光片，其光闸的厚度更薄且0D值更高。 本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是构造一种半反透型TFT的彩色 滤光片，包括玻璃基板、由金属及其氧化材料制成的块状MB均布在玻璃基板上而形成的BM 层、由设置在BM间隙处的R、 G、 B色块形成的彩色层、覆盖在彩色层和BM层之上的IT0层。 在本实用新型所述半反透型TFT的彩色滤光片中，所述BM层中的块状MB由AL、 Cr、 CrOx、 Mo及Mo的氧化物中的一种制成。 在本实用新型所述半反透型TFT的彩色滤光片中，所述BM层的厚度设置为 0. 15-0. 25 ii m ;优选为0. 2 ii m。 实施本实用新型所述半反透型TFT的彩色滤光片中，具有以下有益效果通过在 玻璃基板上设置由金属材料制成的BM层，使得膜层在保证足够高的0D值时厚度却大大降低(0D值^4，膜厚0.2iim)，使得这种彩色滤光片的表面平整性、均匀性更好。同时，无需 再在BM层和彩色层上设置OC层，简化了工艺，节约了生产成本。 下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明。
图1是本实用新型所述半反透型TFT的彩色滤光片的结构示意图。
具体实施方式
如图1所示，在本实用新型所述半反透型TFT的彩色滤光片的优选实施例中，包含 多层材料，依次为玻璃基板1、 BM层2、彩色层3和ITO层4。其中BM层2为金属及其氧化 物制成的块状MB (Metal Black) 21，均匀分布在玻璃基板1上，作为彩色滤光片上的光闸； 具体可选用AL、 Cr、 CrOx、 Mo及Mo的氧化物等，本实施例优选为Cr和CrOx的混合物。彩 色层3为设置在MB间隙处的红R、绿G、蓝B色块。这样光闸形成的BM层厚度非常薄，而OD 值仍较高，使得这种彩色滤光片做出的TFT具有高色彩饱和度和高对比度，能够适用于户 内户外各种场合。 为制得上述TFT的彩色滤光片，通常先在玻璃基板上按照预设的图案溅镀一层Cr 或CrOx的膜层，形成块状MB，形成BM层；最好将膜层控制在0. 15-0. 25 y m之间，优选为 0. 2ym。再在MB的间隙处着色为R的彩色光阻以Spin涂装，经由R用图案光罩曝光后，再 显影将未曝光部分去除，形成第一颜色用的R图案，再烘干；用同样的方法在MB的间隙处加 工处G、B颜色的图案，形成彩色层；最后在彩色层上加工处ITO层，形成上述结构的彩色滤 光片。通过在玻璃基板上使用Cr或CrOx制成的BM层，使得膜层厚度更薄，保证了整个彩 色滤光片的平整性和均匀性，同时又具有较高的OD值，适用于室内室外各种环境。同时，无 需再在BM层和彩色层上设置OC层，简化了工艺，节约了生产成本。 以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细， 但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通 技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属 于本实用新型的保护范围。
权利要求一种半反透型TFT的彩色滤光片，其特征在于，包括玻璃基板、由金属及其氧化材料制成的块状MB均布在玻璃基板上而形成的BM层、由设置在BM间隙处的R、G、B色块形成的彩色层、覆盖在彩色层和BM层之上的ITO层。
2. 根据权利要求1所述半反透型TFT的彩色滤光片，其特征在于，所述BM层中的块状 MB由AL、 Cr、 CrOx、 Mo及Mo的氧化物中的一种制成。
3. 根据权利要求2所述半反透型TFT的彩色滤光片，其特征在于，所述BM层的厚度设 置为0. 15-0. 25iim。
4. 根据权利要求3所述半反透型TFT的彩色滤光片，其特征在于，所述BM层的厚度设 置为0. 2iim。
专利摘要本实用新型涉及一种半反半透型TFT的彩色滤光片，包括玻璃基板、由金属及其氧化材料制成的块状BM均布在玻璃基板上而形成的BM层、由设置在BM间隙处的R、G、B色块形成的彩色层、覆盖在彩色层和BM层之上的ITO层。通过在玻璃基板上设置由金属材料制成的BM层，使得膜层在保证足够高的OD值时厚度却大大降低，使得这种彩色滤光片的表面平整性、均匀性更好。同时，无需再在BM层和彩色层上设置OC层，简化了工艺，节约了生产成本。
文档编号G02F1/1335GK201532511SQ20082023586
公开日2010年7月21日 申请日期2008年12月30日 优先权日2008年12月30日
发明者何强民, 朱星旺, 毛利良, 胡华, 胡春和 申请人:中国南玻集团股份有限公司