将图案形成装置与衬底进行空间对准的方法与流程

本发明涉及一种在光刻设备中将图案形成装置与衬底进行空间对准的方法，其中，图案形成装置和衬底由包括一个或更多个可移动光学部件的光学路径分开。

背景技术：

1、光刻设备是一种被构造为将所期望的图案施加到衬底上的机器。例如，光刻设备可以用于集成电路（ic）的制造中。光刻设备可以例如将图案形成装置（例如，掩模）处的图案投影到设置在衬底上的辐射敏感材料（抗蚀剂）层上。

2、为了将图案投影到衬底上，光刻设备可以使用电磁辐射。这种辐射的波长确定可以形成在衬底上的特征的最小尺寸。使用极紫外（euv）辐射（具有在4 nm至20 nm的范围内的波长，例如6.7 nm或13.5 nm）的光刻设备可以被用于在衬底上形成与使用例如具有193nm的波长的辐射的光刻设备相比更小的特征。

3、为了用图案形成装置的图案准确地对衬底进行图案化，需要衬底和图案形成装置的准确对准。为了这样做，已知通过将存在于图案形成装置上的一个或更多个标记物的图案或图像投影到布置在保持衬底的衬底台上的传感器上来确定图案形成装置与衬底或保持衬底的衬底台之间的对准位置。通常，这样的对准过程涉及沿包括一个或更多个光学部件（诸如反射镜或透镜）的光学路径投影所述图案。在这种对准过程中，光学部件通常被保持在固定位置处。在这些部件在后续图案化或曝光过程期间移位或需要被移位的情况下，已经发现所确定的对准位置可能有缺陷或不准确，从而在图案化过程期间可能导致重叠误差。

技术实现思路

1、本发明的目的是特别是在光刻设备中的图案化过程期间使用可移动光学部件的情况下，提供图案形成装置与衬底之间的改善的对准。

2、根据本发明的第一方面，提供了一种将图案形成装置与衬底进行空间对准的方法，其中，所述图案形成装置和所述衬底由包括一个或更多个可移动光学部件的光学路径分开，所述方法包括：

3、-执行多次对准测量，其中，对于每次对准测量，所述可移动光学部件被布置在对应的预定位置中，

4、-组合所述对准测量，以及

5、-基于所述对准测量的组合，将所述图案形成装置与所述衬底进行空间对准。

6、根据本发明的第二方面，提供了一种装置，包括：

7、-支撑结构，所述支撑结构被配置成支撑图案形成装置；

8、-衬底台，所述衬底台被配置成支撑衬底；

9、-投影系统，所述投影系统包括多个可移动光学部件，所述可移动光学部件在所述图案形成装置与所述衬底之间提供光学路径；

10、-定位系统，所述定位系统被配置成定位所述图案形成装置、所述衬底、以及所述投影系统的可移动光学部件；

11、-位置测量系统，所述位置测量系统被配置成测量所述支撑结构、所述衬底台以及所述投影系统的可移动光学部件的位置；

12、-控制单元，所述控制单元被配置成控制所述定位系统；

13、-其中，所述设备被配置成接收辐射束以辐照所述图案形成装置，并且其中，所述控制单元被配置成控制所述设备以执行根据本发明的第一方面所述的将所述图案形成装置与所述衬底进行空间对准的方法。

技术特征：

1.一种将图案形成装置与衬底进行空间对准的方法，其中，所述图案形成装置和所述衬底由包括一个或更多个可移动光学部件的光学路径分开，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其中，选择所述可移动光学部件的预定位置，以平均所述可移动光学部件的定位误差。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，组合所述对准测量包括平均化所述对准测量。

4.根据权利要求2或3所述的方法，其中，所述可移动光学部件的定位误差由所述可移动光学部件的位置测量的循环误差引起。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述方法包括：

6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述循环误差包括具有不同周期性的两个分量。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，执行多次对准测量包括执行三次对准测量，并且其中，组合所述对准测量包括平均化所述对准测量。

8.根据权利要求5所述的方法，其中，所述循环误差包括n个分量，n>1，并且所述循环误差能够被表示为：

9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述多次对准测量的预定位置xj能够被表示为：

10.根据引用权利要求4的前述权利要求中任一项所述的方法，其中，使用干涉仪测量系统或编码器测量系统来执行所述位置测量。

11.一种设备，包括：

12.一种光刻系统，包括：

13.根据权利要求12所述的光刻系统，其中，所述辐射源是euv辐射源。

14.根据权利要求13所述的光刻系统，其中，所述可移动光学部件是euv反射镜。

技术总结
描述了一种将图案形成装置与衬底进行空间对准的方法，其中，所述图案形成装置和所述衬底由包括一个或更多个可移动光学部件的光学路径分开，所述方法包括：‑执行多次对准测量，其中对于每次对准测量，所述可移动光学部件被布置在对应的预定位置中，‑组合所述对准测量，以及‑基于所述对准测量的组合，将所述图案形成装置与所述衬底进行空间对准。

技术研发人员：汉斯·巴特勒,M·P·瑞因德斯,P·A·J·蒂内曼斯
受保护的技术使用者：ASML荷兰有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/11/11