本发明属于光学薄膜，具体涉及一种光学材料用低反射低阻抗的增透膜材料及其制备方法。
背景技术：
1、在光学元件中，由于元件表面的反射作用而使光能损失，为了减少元件表面的反射损失，常在光学元件表面镀层透明介质薄膜，这种薄膜就叫增透膜。很多应用领域中，增透膜是不可缺少的，否则，无法达到应用的要求。
2、现有的增透膜折射率往往在1.4以上，且受阻抗影响，当界面与空气阻抗失配会引起光能损失，为了进一步提高光学薄膜的光学性能，亟需一种具有兼具低反射低阻抗的增透膜材料。
技术实现思路
1、本发明提供了一种光学材料用低反射低阻抗的增透膜材料及其制备方法，以解决现有增透膜光能损失严重的问题。
2、为了解决上述技术问题，本发明提供了一种光学材料用低反射低阻抗的增透膜材料，包括：自上而下依次层叠的第一aras混合涂布层、基材层、第二aras混合涂布层；其中所述第一aras混合涂布层的厚度为λ0/4nm；所述第二aras混合涂布层的厚度为(λ0/4)+a nm；所述λ0为中心波长，a为1～5。
3、又一方面，本发明还提供了一种如前所述的光学材料用低反射低阻抗的增透膜材料的制备方法，包括如下步骤：s1，将各组分混合后在基材层上双面高精密涂布；s2，经烘箱烘烤后留下均匀树脂，uv固化形成第一aras混合涂布层和第二aras混合涂布层，得到光学材料用低反射低阻抗的增透膜材料。
4、本发明的有益效果是，本发明的光学材料用低反射低阻抗的增透膜材料及其制备方法基于光线穿过膜材料的光路损耗进行了优化，通过高精度涂布微调整入射光通过的第二aras混合涂布层的厚度，可以有效降低对于穿透能力较弱的长波的损耗，同时双面aras混合涂布层的设置在降低折射率的同时也降低了阻抗，进一步降低了光能损耗。
5、本发明的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。
6、为使本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。
1.一种光学材料用低反射低阻抗的增透膜材料，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的光学材料用低反射低阻抗的增透膜材料，其特征在于，
3.如权利要求1所述的光学材料用低反射低阻抗的增透膜材料，其特征在于，
4.如权利要求3所述的光学材料用低反射低阻抗的增透膜材料，其特征在于，
5.如权利要求3所述的光学材料用低反射低阻抗的增透膜材料，其特征在于，
6.如权利要求3所述的光学材料用低反射低阻抗的增透膜材料，其特征在于，
7.如权利要求3所述的光学材料用低反射低阻抗的增透膜材料，其特征在于，
8.如权利要求1所述的光学材料用低反射低阻抗的增透膜材料，其特征在于，
9.如权利要求1所述的光学材料用低反射低阻抗的增透膜材料，其特征在于，
10.一种如权利要求1-9任一项所述的光学材料用低反射低阻抗的增透膜材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：