专利名称：半蚀刻网格框的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及ー种真空荧光显示屏中的栅极器件，特别是涉及ー种金属网格框。
背景技术：
真空荧光显示屏(VFD)是从真空电子管发展而来的显示器件，由发射电子的阴极、加速控制电子流的栅极、玻璃基板上印上的电极和荧光粉的阳极即栅网和玻盖构成，这种显示器件利用电子撞击荧光粉，使荧光粉发光，是ー种自身发光显示器件，由于它可以做多色彩显示，亮度高，又可以用低电压来驱动，易干与集成电路配套，广泛应用于家用电器、办公自动化设备、エ业仪器仪表及汽车等各种领域中。其中的栅极，通常是将金属薄板通过光蚀刻后形成的金属网格框状部件。一般的加工方法中，只将该金属薄板上蚀刻出多个通孔以形成金属网格框部件，这样的金属网格的厚度即为该金属薄板的原始厚度，这样虽然加工简单，但是金属网格框作为栅极的性能并不是很好。
发明内容本实用新型所要解决的技术问题是提供一种网格厚度较薄的半蚀刻网格框。本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案为一种半蚀刻网格框，包括金属基板以及位于金属基板上的多个通孔，所述通孔的周边形成网格框，其特征在干所述通孔通过光蚀刻加工贯穿整个金属基板，所述网格框通过半蚀刻加工，厚度小于金属基板的
原厚度。优选地，该金属基板的厚度为0. 15mm,网格框的厚度为0. 07mm 0. 11mm。与现有技术相比，本实用新型的优点在于这样的半蚀刻金属网格框，不但加工方便，易于量产，而且网格框的厚度较小，导电性较好，使使用该金属网格框的真空荧光显示屏的性能也得到增强。
图I为本实用新型半蚀刻网格框的示意图。
具体实施方式
以下结合附图实施例对本实用新型作进ー步详细描述。如图I所示，该半蚀刻网格框包括金属基板1，以及位于金属基板I上的多个通孔2，通孔2的周边即为网格框3。在基板上直接加工出通孔2，通孔2的周边相互连接以形成网格框3，一般的网格框加工エ艺中该网格框3的厚度即为金属基板I的厚度，而本实用新型中的网格框3通过半蚀刻エ艺形成，即在金属基板I上蚀刻出通孔2的同吋，也对通孔2的周边的网格框3进行蚀刻，通孔2为全蚀刻部分，网格框3为半蚀刻部分，在蚀刻时保留一定厚度的基板I的材料。即该网格框3的厚度小于基板I的原厚度。加工吋，该通孔2和网格框3的位置分别使用不同的掩膜片，对通孔2的部分进行全蚀刻加工，对网格框3的部分进行半蚀刻加工，保留一部分基板I的厚度。优选地，该金属基板I的厚度为0. 15mm,网格框3的厚度为0. 07mm 0. 11mm。通孔2为正六边形，其边长为0. 25mm,网格框3的线宽为0. 02mm_0. 05mm。这样的半蚀刻金属网格框，不但加工方便，易于量产，而且网格框的厚度较小，导电性较好，使使用该金属网格框的真空荧光显示屏的性能也得到增强。
权利要求1.一种半蚀刻网格框，包括金属基板(I)以及位于金属基板(I)上的多个通孔(2)，所述通孔(2)的周边形成网格框(3)，其特征在于所述通孔(2)通过光蚀刻加工贯穿整个金属基板(I)，所述网格框(3)通过半蚀刻加工，厚度小于金属基板(I)的原厚度。
2.如权利要求I所述的半蚀刻网格框，其特征在于该金属基板(I)的厚度为0.15mm,网格框(3)的厚度为0. 07mm 0. 11mm。
专利摘要一种半蚀刻网格框，包括金属基板以及位于金属基板上的多个通孔，所述通孔的周边形成网格框，其特征在于所述通孔通过光蚀刻加工贯穿整个金属基板，所述网格框通过半蚀刻加工，厚度小于金属基板的原厚度。这样的半蚀刻金属网格框，不但加工方便，易于量产，而且网格框的厚度较小，导电性较好，使使用该金属网格框的真空荧光显示屏的性能也得到增强。
文档编号H01J29/02GK202473833SQ20122008049
公开日2012年10月3日 申请日期2012年3月6日 优先权日2012年3月6日
发明者何公明, 史小军, 梁泰频, 王满根, 陈雪尧 申请人:宁波东盛集成电路元件有限公司