一种振镜及激光打标机、激光焊接机的制作方法

本技术涉及光学设备相关，特别涉及一种振镜及激光打标机、激光焊接机。

背景技术：

1、现有技术中，在激光打标、激光焊接时会应用到振镜，但是现有的振镜在使用时容易发热，发热温度较高，并且抗激光损伤的能力低，在较高的激光能量辐照下振镜膜层易烧伤，使得振镜的使用寿命短，且振镜的反射率一般在99％-99.5％之间，并且其振动角度相对较小，使用效果一般。

技术实现思路

1、本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型提出一种振镜及激光打标机、激光焊接机，能够降低振镜的发热温度、提高耐用性、提高反射率及提高振动角度。

2、根据本实用新型的第一方面实施例的一种振镜，包括：基片、五氧化二钽涂层及二氧化硅涂层，其中，所述五氧化二钽涂层与所述二氧化硅涂层交替堆叠50-56层以形成反射膜层，所述基片表面设有所述反射膜层。

3、根据本实用新型实施例的一种振镜，至少具有如下有益效果：五氧化二钽涂层的反射率也比较高，能够增强镜片的反射效果。而二氧化硅涂层具有高度透明性，折射率低，两种涂层相互堆叠，能够提高激光的反射率，并且减少其烧穿的情况发生，通过交替堆叠50-56层的五氧化二钽涂层和二氧化硅涂层形成的反射膜层能够很好地提高振镜的反射率，具有较高的出光效率和激光转化效率，激光照射下不容易发热，温度在大致在25℃以内，振镜运行稳定，抗激光损伤阈值高，在较高的激光能量辐照下，反射膜层不易损伤、使用寿命耐久，并且振动角度较大。

4、根据本实用新型的一些实施例，所述基片采用石英玻璃材质制成。

5、根据本实用新型的一些实施例，所述基片采用jgs2石英玻璃制成。

6、根据本实用新型的一些实施例，所述基片厚度为2±0.5mm。

7、根据本实用新型的一些实施例，所述五氧化二钽涂层与所述二氧化硅涂层交替堆叠52层以形成所述反射膜层。

8、根据本实用新型的一些实施例，所述反射膜层包括相互堆叠的第一堆叠层及第二堆叠层，所述第一堆叠层直接与所述基片连接，所述第二堆叠层与所述第一堆叠层连接；所述第一堆叠层包括交替堆叠50层的所述五氧化二钽涂层及所述二氧化硅涂层，其中，在所述第一堆叠层中，每层所述五氧化二钽涂层为1/4设计波长的光学厚度，每层所述二氧化硅涂层为1/2设计波长的光学厚度；所述第二堆叠层包括交替堆叠的1层所述五氧化二钽涂层及1层所述二氧化硅涂层，其中，在所述第二堆叠层中所述五氧化二钽涂层为1/4设计波长的光学厚度，所述二氧化硅涂层为1/4设计的光学厚度。

9、根据本实用新型的一些实施例，与所述基片直接接触的膜层为所述五氧化二钽涂层。

10、根据本实用新型的一些实施例，所述反射膜层厚度为9.3μm。

11、根据本实用新型的第二方面实施例的一种激光打标机，包括采用上述的振镜的一种激光打标机。

12、根据本实用新型实施例的一种激光打标机，至少具有如下有益效果：激光打标机采用上述的一种振镜时，具有较高的出光效率和激光转化效率，激光照射下不容易发热，温度在大致在25℃以内，振镜运行稳定，抗激光损伤阈值高，在较高的激光能量辐照下，反射膜层不易损伤、使用寿命耐久，并且振动角度较大。

13、根据本实用新型的第三方面实施例的一种激光焊接机，包括采用上述的振镜的一种激光焊接机。

14、根据本实用新型实施例的一种激光焊接机，至少具有如下有益效果：激光焊接机采用上述的一种振镜时，具有较高的出光效率和激光转化效率，激光照射下不容易发热，温度在大致在25℃以内，振镜运行稳定，抗激光损伤阈值高，在较高的激光能量辐照下，反射膜层不易损伤、使用寿命耐久，并且振动角度较大。

15、本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

技术特征：

1.一种振镜，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种振镜，其特征在于，所述基片(100)采用石英玻璃材质制成。

3.根据权利要求2所述的一种振镜，其特征在于，所述基片(100)采用jgs2石英玻璃制成。

4.根据权利要求3所述的一种振镜，其特征在于，所述基片(100)厚度为2±0.5mm。

5.根据权利要求4所述的一种振镜，其特征在于，所述五氧化二钽涂层(210)与所述二氧化硅涂层(220)交替堆叠52层以形成所述反射膜层(200)。

6.根据权利要求5所述的一种振镜，其特征在于，所述反射膜层(200)包括相互堆叠的第一堆叠层(230)及第二堆叠层(240)，所述第一堆叠层(230)直接与所述基片(100)连接，所述第二堆叠层(240)与所述第一堆叠层(230)连接；所述第一堆叠层(230)包括交替堆叠50层的所述五氧化二钽涂层(210)及所述二氧化硅涂层(220)，其中，在所述第一堆叠层(230)中，每层所述五氧化二钽涂层(210)为1/4设计波长的光学厚度，每层所述二氧化硅涂层(220)为1/2设计波长的光学厚度；所述第二堆叠层(240)包括交替堆叠的1层所述五氧化二钽涂层(210)及1层所述二氧化硅涂层(220)，其中，在所述第二堆叠层(240)中所述五氧化二钽涂层(210)为1/4设计波长的光学厚度，所述二氧化硅涂层(220)为1/4设计的光学厚度。

7.根据权利要求6所述的一种振镜，其特征在于，与所述基片(100)直接接触的膜层为所述五氧化二钽涂层(210)。

8.根据权利要求7所述的一种振镜，其特征在于，所述反射膜层(200)厚度为9.3μm。

9.一种激光打标机，其特征在于，包括根据权利要求1至8中任一项所述的一种振镜。

10.一种激光焊接机，其特征在于，包括根据权利要求1至8中任一项所述的一种振镜。

技术总结
本技术公开了一种振镜及激光打标机、激光焊接机，包括基片、五氧化二钽涂层及二氧化硅涂层，其中，五氧化二钽涂层与二氧化硅涂层交替堆叠50‑56层以形成反射膜层，基片表面设有反射膜层。五氧化二钽涂层的反射率也比较高，能够增强镜片的反射效果。而二氧化硅涂层具有高度透明性，折射率低，两种涂层相互堆叠，能够提高激光的反射率，并且减少其烧穿的情况发生，通过交替堆叠50‑56层的五氧化二钽涂层和二氧化硅涂层形成的反射膜层能够具有较高的出光效率和激光转化效率，激光照射下不容易发热，温度在大致在25℃以内，振镜运行稳定，抗激光损伤阈值高，在较高的激光能量辐照下，反射膜层不易损伤、使用寿命耐久，并且振动角度较大。

技术研发人员：闪雷雷,朱小康
受保护的技术使用者：大鼎光学薄膜（中山）有限公司
技术研发日：20230808
技术公布日：2024/2/25