专利名称：具自转及公转复合式真空溅镀设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于镀膜的工具，尤指一种具自转及公转复合式真空溅镀设备。
背景技术：
溅镀是指利用氩离子轰击靶源，靶源原子被击出后变成气相并析镀于待镀物上，溅镀具有以下优点:一，可广泛应用，几乎任何材料均可镀上镀膜；二，无污染；三，附着性良好。现有的真空溅镀设备包含有一腔体、一滚筒、多个治具、一动力装置及一靶台；腔体内为真空；滚筒轴向设于腔体的真空内部空间内，且具有一轴向开口 ；各治具环绕设置于滚筒内；动力装置使滚筒及治具在腔体内转动；靶台穿设滚筒，且靶台上设有至少一靶源。使用时，待镀物设于治具上，而靶台上的靶源则开始解离以提高滚筒内的离子浓度，并使待镀物可进行镀膜；而由于靶台不动，且靶台上的靶源始终面对同一方向，因此正对靶源之处的离子浓度自然较他处为高；所以使用时，动力装置会带动滚筒、治具及待镀物围绕靶台转动，进而使各治具上的待镀物，皆可轮流经过高离子浓度之处，以达到各待镀物均匀镀膜的功效。然而，即使各治具皆会轮流经过靶源前方，但是由于每次经过时，治具始终是同一面朝向靶源，因此各待镀物上，其朝向靶源的面会因离子浓度较高而镀得更厚，而背向靶源的面则会因离子浓度低而镀得较薄，进而造成待镀物上各面镀膜厚度不一的缺点。有鉴于前述现有技术的真空溅镀设备，其无法均匀地镀膜于待镀物的每一面的缺点及不足，本发明提供一种具自转及公转复合式真空溅镀设备。
发明内容
本发明的目的是在于提供一种具自转及公转复合式真空溅镀设备，其可进一步通过治具的自转，以使治具上的待镀物的每一面可轮流朝向靶源，进而达到均匀镀膜的效果。为达到上述的发明目的，本发明提出一种具自转及公转复合式真空溅镀设备，其中包含:一腔体，其具有一可形成真空的内部空间；一滚筒，其设于腔体的内部空间内；多个治具，其皆设于滚筒内，且环绕排列于滚筒的轴心外；至少一靶台，其设于滚筒内，靶台上设有至少一靶源；以及
一使各治具自转并相对靶台的靶源公转的动力装置。本发明的优点在于，通过使各治具在环绕靶台的靶源公转时，亦同时自转，因此治具上的待镀物，其每一面皆可轮流朝向靶源，进而使每一面皆可轮流接触到离子浓度较高之处，以使各面的镀膜厚度更为均匀。本发明借此达到使待镀物的各面均匀镀膜的目的。进一步而言，所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其中动力装置包含有一动力源及一传动机构，其动力源连接并驱动传动机构，传动机构连接并驱动各治具，并使各治具可相对靶台的靶源公转，并且于公转时，各治具同时自转。进一步而言，所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其中动力装置的传动机构包含有一中心齿轮及多个环绕齿轮，中心齿轮固设于滚筒的轴向底面；环绕齿轮枢设于滚筒的轴向底面，且环绕并啮合于中心齿轮，前述的治具固设于相对应的环绕齿轮轴心 ’动力源驱动中心齿轮转动。进一步而言，所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其中各治具包含有一主杆及多个固定件，主杆端部固设于相对应的环绕齿轮轴心，各固定件间隔设置于主杆上。进一步而言，所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其中各固定件包含有一直杆、多个横杆及一固定杆；直杆设于主杆上；各横杆一端间隔设置于直杆上；固定杆装设于各横杆上，且位于横杆的另一端。进一步而言，所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其中腔体进一步具有一轴向的开口 ；另包含一门体，该门体可分离地盖设于该腔体的轴向开口，该靶台的一端连接该门体。进一步而言，所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其中具有两靶台，两靶台的夹角小于180度。
以下附图仅旨在于对本发明做示意性说明和解释，并不限定本发明的范围。其中: 图1为本发明的侧视剖面示意图。图2为本发明的滚筒的立体外观示意图。图3为本发明的治具的立体外观示意图。图4为本发明的传动机构的示意图。图5为本发明使用时的前视作动示意图。图6为本发明的门体打开后的侧视剖面示意图。主要元件标号说明:10腔体20滚筒30治具31主杆32固定件321直杆322横杆323固定杆324螺帽40动力装置41动力源42传动机构421中心齿轮422环绕齿轮50门体60革巴台61靶源62遮板80待镀物
具体实施方式
为了对本发明的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照
本发明的具体实施方式
。请参阅图1所示，本发明的具自转及公转复合式真空溅镀设备包含有一腔体10、一滚筒20、一底座(图中未示)、多个治具30、一动力装置40、一门体50及至少一靶台60。前述的腔体10具有一可形成真空的内部空间及一轴向的开口。请参阅图1及图2所示，前述的滚筒20轴向地设于腔体10的内部空间内，且设有一轴向的开口，滚筒20的开口方向与腔体10的开口方向相同。前述的底座设于腔体10内，且位于滚筒20的下方，底座上设有多个滚子，以使滚筒20可相对底座转动。请参阅图1至图3所示，前述的多个治具30皆设于滚筒20内，且环绕排列于滚筒20的轴心外；各治具30包含有一主杆31及多个固定件32，各治具30的主杆31贯穿并枢设于滚筒20的轴向底面，且各主杆31贯穿滚筒20处皆设有一轴承(图中未示)，以减少主杆31相对滚筒20转动时的磨耗；各固定件32间隔设置于主杆31上，且各固定件32包含有一直杆321、多个横杆322、一固定杆323及多个螺帽324 ;直杆321的中段设于主杆31上，且与主杆31垂直；各横杆322 —端间隔设置于直杆321上,且与直杆321垂直；固定杆323套设于各横杆322上,且位于横杆322的另一端；各螺帽324螺合固定于横杆322另一端的端部，并抵靠固定杆323。请参阅图1及图4所示,前述的动力装置40装设于腔体10的内部空间内，且包含有一动力源41及一传动机构42 ;动力源41在本实施例中为马达；传动机构42装设于滚筒20的轴向底面外，且包含有一中心齿轮421及多个环绕齿轮422 ;中心齿轮421固设于滚筒20的轴向底面；各环绕齿轮422轴心固设相对应的治具30的主杆31端部，且环绕啮合于中心齿轮421 ;动力源41驱动中心齿轮421转动。前述的门体50可分离地盖设于腔体10的轴向开口。请参阅图1及图5所示，前述的靶台60设于滚筒20内，于本实施例而言，靶台60的数目为两个，且位于各治具30环绕出来的空间中，靶台60的一端连接门体50 ;两靶台60的侧缘相连接，并且两靶台60的夹角小于180度；各靶台60上设有两间隔设置的靶源61 ；两靶台60设有一共同遮板62，其覆盖于靶源61照射的相反方向。请参阅图1及图6所示，使用时，先使门体50连带祀台60及祀源61远离腔体10,并使腔体10成开启的状态(如图6所示)；接着将各待镀物80置入治具30。请参阅图2及图3所示，在本实施例中，待镀物80为圆筒状；待镀物80首先穿设于治具30上的横杆322，将固定件32的横杆322设满待镀物80后，接着将固定杆323套设固定件32的各横杆322外端，最后再以螺帽324固定固定杆323，进而使待镀物80夹持固定于固定杆323及直杆 321。请参阅图1所示，将各治具30装设完待镀物80后，接着移动门体50，并使门体50上的靶台60穿设进滚筒20中；门体50盖设腔体10后，便使腔体10的内部空间呈密闭状态，接着将腔体10的内部空间抽为真空后，便可开始镀膜程序。请参阅图1 、图4及图5所示，镀膜时，靶台60上的靶源61开始解离并逐渐提高离子浓度；同时动力装置40的马达带动中心齿轮421转动，而中心齿轮421带动滚筒20转动，滚筒20则通过轴向底面套设各治具30的主杆31，以使各治具30可连带转动，此时各治具30即相对靶台60的靶源61公转；同时，通过中心齿轮421与环绕齿轮422相啮合，因此环绕齿轮422亦受到中心齿轮421转动的影响而转动，而透过各主杆31连带使固设环绕齿轮422轴心的治具30，亦随着环绕齿轮422转动，则此时各治具30亦同时自转。靶源61解离时，通过各治具30可环绕靶源61公转，以可使各治具30轮流经过靶源61解离之处，进而使各治具30均匀地镀膜；而通过各治具30亦同时自转，以使治具30上的待镀物80的每一面，皆轮流面向靶源61解离之处，进而使待镀物80的每一面皆可均匀地镀膜。本发明借此达到可使待镀物80的各面均匀镀膜的目的。此外，通过使两靶台60的夹角小于180度，以可重叠离子浓度较高的区域，进而使该区的离子浓度进一步提升，使经过该区的待镀物80可更快地反应及镀膜。在其他实施例中，待镀物亦可为其他类型，不以圆筒状为限，而治具也可对应待镀物的形状改为其他类型。在其他实施例中，动力装置的传动机构亦可为其他型式，例如使用皮带轮及皮带来带动各元件公转或自转。
以上所述仅为本发明示意性的具体实施方式
，并非用以限定本发明的范围。任何本领域的技术人员，在不脱离本发明的构思和原则的前提下所作的等同变化与修改，均应属于本发明保护的范围。
权利要求
1.一种具自转及公转复合式真空溅镀设备，其特征在于，所述具自转及公转复合式真空溅镀设备包含: 一腔体，其具有一能形成真空的内部空间； 一滚筒，其设于所述腔体的内部空间内； 多个治具，其皆设于所述滚筒内，且环绕排列于所述滚筒的轴心外； 至少一靶台，其设于所述滚筒内，所述靶台上设有至少一靶源；以及 一使各所述治具自转并相对所述靶台的靶源公转的动力装置。
2.如权利要求1所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其特征在于，所述动力装置包含有一动力源及一传动机构，其动力源连接并驱动所述传动机构，所述传动机构连接并驱动各所述治具，并使各所述治具能相对所述靶台的靶源公转，并且于公转时，各所述治具同时自转。
3.如权利要求2所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其特征在于，所述动力装置的传动机构包含有一中心齿轮及多个环绕齿轮，所述中心齿轮固设于所述滚筒的轴向底面；所述环绕齿轮枢设于所述滚筒的轴向底面，且环绕并啮合于所述中心齿轮，所述治具固设于相对应的所述环绕齿轮轴心；所述动力源驱动所述中心齿轮转动。
4.如权利要求3所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其特征在于，各所述治具包含有一主杆及多个固定件，所述主杆端部固设于相对应的所述环绕齿轮轴心，各所述固定件间隔设置于所述主杆上。
5.如权利要求4所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其特征在于，各所述固定件包含有一直杆、多个横杆及一固定 杆；所述直杆设于该主杆上；各所述横杆一端间隔设置于所述直杆上；所述固定杆装设于各所述横杆上，且位于所述横杆的另一端。
6.如权利要求1至5中任一项所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其特征在于，所述腔体进一步具有一轴向的开口 ；另包含一门体，该门体能分离地盖设于该腔体的轴向开口，该祀台的一端连接该门体。
7.如权利要求1至5中任一项所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其特征在于，该具自转及公转复合式真空溅镀设备具有两靶台，两所述靶台的夹角小于180度。
8.如权利要求6所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其特征在于，该具自转及公转复合式真空溅镀设备具有两靶台，两所述靶台的夹角小于180度。
全文摘要
本发明涉及一种用于镀膜的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其包含有一腔体、一滚筒、多个治具、至少一靶台及一使各治具自转并相对靶台的靶源公转的动力装置，该腔体具有一能形成真空的内部空间，该滚筒设于该腔体的内部空间内，治具皆设于该滚筒内，且环绕排列于该滚筒的轴心外，靶台设于该滚筒内，该靶台上设有至少一靶源。本发明使用时，通过使各治具在环绕靶台的靶源公转时，亦同时自转，因此治具上的待镀物，其每一面皆可轮流朝向靶台的靶源，进而使每一面皆可轮流接触到离子浓度较高之处，以使各面的镀膜厚度更为均匀。本发明借此达到可使待镀物的各面均匀镀膜的目的。
文档编号C23C14/34GK103184416SQ201110451209
公开日2013年7月3日 申请日期2011年12月29日 优先权日2011年12月29日
发明者杨济华, 杨景富, 卓廷彬, 高于迦, 吴政谚 申请人:财团法人金属工业研究发展中心