泛彩光学镀膜表面及其制造方法
【专利摘要】本发明公开了一种泛彩光学镀膜表面及其制造方法。本发明采用的泛彩光学镀膜表面制造方法包括如下步骤：1）清洁基材表面；2）底漆喷涂，厚度控制在23～27微米；3）镀膜，膜层依次采用6～10纳米的SiO2，12～14纳米的TiO2，3～7纳米的SiO2，18～22纳米的TiO2，23.5～27.5纳米的SiO2五层，镀SiO2时沉积速率控制在0.4～0.6纳米/秒，镀TiO2沉积速率控制在0.15～0.3纳米/秒；4）中漆喷涂，厚度控制在5～9um；5）面漆喷涂，厚度控制在16～20um。本发明的有益效果在于通过对不透明素材进行光学镀膜,利于光学镀膜层的反射及折射,使喷涂后的产品表面出现泛彩效果,增加了素材表面的质感,及颜色绚丽的效果,丰富了素材件的处理方法。
【专利说明】泛彩光学镀膜表面及其制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种镀膜技术，具体地讲，涉及一种泛彩光学镀膜表面及其制造方法。【背景技术】
[0002]现有技术中的普通光学镀膜表面为透明，无光圈，表面效果单一，没有合理的利用光学镀膜的折射及反射，达到表面泛彩的效果。
【发明内容】
[0003]本发明的目的在于为克服现有技术的不足及存在的问题，提出一种新型泛彩光学镀膜表面，喷涂后表面通过光学镀膜层的折射及反射，使喷涂层反射出七彩光圈，如水纹一样绚丽多彩，增加了喷涂层的质感，丰富了人们的视觉感受。
[0004]本发明采用的泛彩光学镀膜表面制造方法包括如下步骤:
1)清洁基材表面；
2)底漆喷涂，厚度控制在23~27微米；
3)镀膜，膜层依次采用6~10纳米的Si02，12~14纳米的Ti02，3~7纳米的Si02，18~22纳米的Ti02，23.5~27.5纳米的Si02五层，镀Si02时沉积速率控制在0.4~0.6纳米/秒，镀Ti02沉积速率控制在0.15~0.3纳米/秒；
4)中漆喷涂，厚度控制在5~9微米； 5)面漆喷涂，厚度控制在16~20微米。
[0005]一般而言，针对此工艺的基材要求，可选择PC (聚碳酸酯)材料、ABS塑料、GF (玻璃纤维)材料及其他表面易于涂料附着的材料，按照选用基材的不同，一般在每一步镀膜后需要测试产品的牢固性，需要在上述步骤(2)、(3)、(4)、(5)中的任意一步或几步完成后对产品进行附着力测试。
[0006]为了进一步测试产品的质量，一般在产品完成后，也就是步骤(5)完成后对产品进行耐水煮性测试。
[0007]本发明还提供了一种泛彩光学镀膜表面，包括底漆、镀膜层、中漆及面漆，其特征在于:底漆厚度为23~27微米，中漆厚度为5~9微米，面漆厚度为16~20微米，镀膜层依次包括厚度为6~10纳米的Si02，12~14纳米的Ti02，3~7纳米的Si02，18~22纳米的Ti02，23.5~27.5纳米的Si02五层。
[0008]本发明的有益效果在于通过对不透明素材进行光学镀膜，利于光学镀膜层的反射及折射，使喷涂后的产品表面出现泛彩效果，增加了素材表面的质感，及颜色绚丽的效果，丰富了素材件的处理方法。
【具体实施方式】
[0009]实施例1
本实施例以手机后壳(ABS材质)为基材，采用的泛彩光学镀膜表面制造方法包括如下步骤:
1)清洁基材表面；
2)底漆喷涂，厚度控制在25微米；
3)镀膜，膜层依次采用8纳米的Si02，12纳米的Ti02，6纳米的Si02，21纳米的Ti02，
24纳米的Si02五层，镀Si02时沉积速率控制在0.4~0.6纳米/秒，镀Ti02沉积速率控制在0.15~0.3纳米/秒；
4)中漆喷涂，厚度控制在8微米；
5)面漆喷涂，厚度控制在17微米。
[0010]实施例2
本实施例以ABS和PC分别内侧和外侧的基材，采用的泛彩光学镀膜表面制造方法包括如下步骤:
1)清洁基材表面；
2)底漆喷涂，厚度控制在25微米；进行附着力测试；
3)镀膜，膜层依次 采用7纳米的Si02，14纳米的Ti02，3纳米的Si02，19纳米的Ti02，27纳米的Si02五层，镀Si02时沉积速率控制在0.4~0.6纳米/秒，镀Ti02沉积速率控制在0.15~0.3纳米/秒；进行附着力测试；
4)中漆喷涂，厚度控制在6微米；进行附着力测试；
5)面漆喷涂，厚度控制在20微米。进行附着力测试；
然后对产品进行耐水煮性测试。
[0011]实施例3
本实施例以玻璃纤维为基材，采用的泛彩光学镀膜表面制造方法包括如下步骤:
1)清洁基材表面；
2)底漆喷涂，厚度控制在23微米；
3)镀膜，膜层依次采用10纳米的Si02，14纳米的Ti02，5纳米的Si02，18纳米的Τ?02, 23.5纳米的Si02五层，镀Si02时沉积速率控制在0.4~0.6纳米/秒，镀Τ?02沉积速率控制在0.15~0.3纳米/秒；
4)中漆喷涂，厚度控制在6微米；
5)面漆喷涂，厚度控制在20微米。
[0012]实施例4
按实施例1方法制得泛彩泛彩光学镀膜表面，可以通过产品附着力测试及耐水煮性测试，并可以得到所需泛彩视觉效果。
[0013]实施例5
按实施例2方法制得泛彩泛彩光学镀膜表面，可以通过产品附着力测试及耐水煮性测试，并可以得到所需泛彩视觉效果。
[0014]实施例6
按实施例3方法制得泛彩泛彩光学镀膜表面，可以通过产品附着力测试及耐水煮性测试，并可以得到所需泛彩视觉效果。
[0015]根据以上说明书中的阐述，本发明所属领域的技术人员还可以对上述实施方式进行适当的变更和修改。因此，上述实施例中提到的内容并非是对本发明的限定，在不脱离本发明的发明构思的前提下，任何·显而易见的替换均在本发明的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种泛彩光学镀膜表面制造方法，包括如下步骤: 1)清洁基材表面； 2)底漆喷涂，厚度控制在23~27微米； 3)镀膜，膜层依次采用6~10纳米的SiO2,12~14纳米的TiO2,3~7纳米的SiO2,18~22纳米的TiO2, 23.5~27.5纳米的SiO2五层，镀SiO2时沉积速率控制在0.4~0.6纳米/秒，镀TiO2沉积速率控制在0.15~0.3纳米/秒； 4)中漆喷涂，厚度控制在5~9微米； 5)面漆喷涂，厚度控制在16~20微米。
2.按照权利要求1所述的泛彩光学镀膜表面制造方法，其特征在于:在上述步骤(2)、(3)、(4)、(5)中的任意一步或几步完成后对产品进行附着力测试。
3.按照权利要求1或2所述的泛彩光学镀膜表面制造方法，其特征在于:步骤(5)完成后对产品进行耐水煮性测试。
4.一种泛彩光学镀膜表面，包括底漆、镀膜层、中漆及面漆，其特征在于:底漆厚度为·23~27微米，中漆厚度为5~9微米，面漆厚度为16~20微米，镀膜层依次包括厚度为·6~10纳米的SiO2,12~14纳米的TiO2, 3~7纳米的SiO2,18~22纳米的TiO2, 23.5~·27.5纳米的SiO2五层。·
【文档编号】C23C18/12GK103849858SQ201210498127
【公开日】2014年6月11日 申请日期:2012年11月29日 优先权日:2012年11月29日
【发明者】刘红彪, 易宁, 李晓东 申请人:东莞华清光学科技有限公司, 东莞劲胜精密组件股份有限公司