专利名称：真空蒸镀装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及薄膜的真空蒸镀装置，特别涉及具备对基板照射离子等的能量粒子源的真空蒸镀装置。
背景技术：
以往，已知有在真空容器内使薄膜材料朝向基板表面蒸发时，通过向堆积在基板上的蒸镀层照射离子来进行致密化的离子辅助蒸镀装置(例如，专利文献I)。在这样的蒸镀装置中，利用离子枪向基板照射较低能量的气体离子，同时利用中和器向基板照射中和电子(电子)，由此能够中和气体离子所导致的基板上的电荷的偏移，同时利用气体离子的动能来制作致密的膜。专利文献1:日本特许第4540746号公报但是，在专利文献I等现有的离子辅助蒸镀装置中，离子源配设于真空容器的底面或门以外的侧面，因此在进行离子源的部件更换或清扫等维护时，作业者需要使身体大幅进入真空容器内，所以期望维护的作业性的提高。
实用新型内容本实用新型是鉴于上述课题而完成的，本实用新型的目的在于，提供在具备照射离子或等离子体等能量粒子的能量粒子源的真空蒸镀装置中，能量粒子源的维护性高的真空蒸镀装置。所述课题根据技术方案I的真空蒸镀装置，通过如下方式解决，即，该真空蒸镀装置在真空容器内使蒸镀物质蒸镀至基板，其中，该真空蒸镀装置构成为具备:拱顶型的基板保持构件，其配设于所述真空容器内，用于保持多个所述基板；旋转构件，其用于使该基板保持构件旋转；蒸镀构件，其以与所述基板对置的方式设置；以及能量粒子源，其用于对所述基板照射能量粒子，所述能量粒子源在能量粒子诱导部朝向所述基板方向的状态下，安装于在所述真空容器配设的门的内壁面。这样，由于在门的内壁面安装有能量粒子源，所以在维护时，能量粒子源就出现在打开门的作业者的附近，能量粒子源的保养检查变得容易，提高了维护性。另外，所述能量粒子源也可以是离子源。另外，优选的是，所述真空蒸镀装置具备用于对所述基板照射电子的中和器，该中和器在电子诱导部朝向所述基板方向的状态下，安装于在所述真空容器配设的门的内壁面。当如上所述地构成时，由于在门的内壁面安装有中和器，所以在维护时，中和器就出现在打开门的作业者的附近，中和器的保养检查变得容易，提高了维护性。而且，向所述离子源供给气体的气体配管优选为螺旋状的金属配管。由于这样构成，将气体配管形成为金属弹簧这样的形状，能够具有挠性。另外，向所述离子源供给气体的气体配管也可以由具有弹性且具有复原性的原材料形成。另外，所述具有复原性的原材料可以是树脂。由于如上所述地构成，随着门的开闭，气体配管伸缩或挠曲，防止气体配管因门的开闭导致金属疲劳等而损伤，从而能够延长气体配管的部件寿命。根据本实用新型的真空蒸镀装置，能够提高能量粒子源的维护性，并能够削减能量粒子源的维护所需的时间，从而提高生产率。
图1是本实用新型的一个实施方式的真空蒸镀装置的概念图。图2是示出本实用新型的一个实施方式的真空容器的门位置的说明图。标号说明1:真空蒸镀装置10:真空容器IOa:门12:基板保持器14:基板34:蒸镀源34a、38a:闸板38:离子源40:中和器44:连接件G:铰链K:阶梯部
具体实施方式
以下，参照附图对本实用新型的实施方式进行说明。另外，以下说明的部件、配置等是将实用新型具体化的一个例子，并不用于限定本实用新型，当然可以按照本实用新型的宗旨进行各种改变，而且等同物也包含于权利范围内。图1是本实用新型的一个实施方式的真空蒸镀装置I的概要剖视图。真空蒸镀装置I是能够一边从作为能量粒子源的一个例子的离子源38向基板照射离子束一边进行成膜处理的离子辅助蒸镀装置，在纵向放置的圆筒状的真空容器10的内部的上方保持有作为基板保持构件的基板保持器12。而且，在真空容器10的内部的下方配设有作为蒸镀构件的蒸镀源34。利用未图示的真空泵对真空容器10的内侧进行排气，使其成为预定的压力(例如大约 3 X KT2Pa I(T4Pa)。如图1所示，在本实施方式中，在真空容器10的侧面设有门10a，在所述门IOa的内壁面设有离子源38及中和器40。如图2所示，在真空容器10的侧面侧设有门10a。[0040]在该门IOa的内壁面配设有离子源38及中和器40。如图1所示，作为基板保持构件的基板保持器12是以能够绕垂直轴线旋转的方式保持在真空容器10内的上侧的、形成为拱顶状的不锈钢制的部件。基板保持器12的旋转构件与未图示的马达的输出轴连结。在基板保持器12的下表面，以成膜面朝向下方的方式支承有多个作为基板的基板14。基板保持器12由大致半球状的拱顶形状构成，但也可以形成为圆锥拱顶、棱锥拱顶等任何形状的拱顶。基板14是在表面通过成膜而附着电介质膜或吸收膜的树脂(例如聚酰亚胺)、石英、强化玻璃等具有透光性的部件。在本实施方式中，使用圆板状的部件作为基板14，但形状不限于此，也可以是例如透镜形状、圆筒状、圆环状、矩形板状之类的其他形状。真空容器10是在已知的成膜装置中通常使用的具有大致圆筒的外形状的不锈钢制的容器，为接地电位。而且，在其侧面侧形成有所述门10a。门IOa通过铰链G、G连结于真空容器10，并能够以铰链G、G轴为中心相对于真空容器10转动开放。并且，在该门IOa的真空容器10内侧的面形成有阶梯部K，离子源38及中和器40安装于该阶梯部K。阶梯部K具备通过使真空容器10内侧变低而成的倾斜面，该阶梯部K的倾斜面的上表面侧构成为与基板14面对。将离子源38及中和器40安装到该阶梯部K的倾斜面(内表面侧)，由此，容易以预定角度向基板14照射离子束及电子束。在真空容器10中设有未图示的排气口，并经由排气口与未图示的真空泵连接。并且，在真空容器10中形成有用于向内部导入气体的气体导入管(未图示)。蒸镀源34是配设于真空容器10的下侧，通过电子束加热方式对疏油性、疏水性膜物质、高折射率物质或低折射率物质进行加热并朝向基板14放出的蒸发构件。而且，蒸镀源34也可以是直接加热方式或间接加热方式等电阻加热方式的构件。在蒸镀源34的上方安装有能够开闭操作的闸板34a。离子源38具备:照射离子的离子源主体；用于将离子源主体设置于真空容器10的连接件44 ;和用于将气体、电力、冷却水导入真空容器10内的真空导入部。在真空导入部具备用于将作为离子的原料的气体导入真空容器10的未图示的气体配管。本实施方式的气体配管构成为螺旋状的金属配管。而且，气体配管不限于螺旋状的金属配管，也可以由具有弹性且具有复原性的原材料形成。例如，可以使用合成树脂管等。离子源38是朝向基板14放出离子束的装置，由反应气体(例如O2)或稀有气体(例如Ar)的等离子体诱导出带电的离子(02+、Ar+)，并通过加速电压加速射出。另外，在离子源38的上方安装有能够利用未图示的控制器进行适宜地开闭控制的闸板38a。在本实施方式中，具备离子源38来作为能量粒子源，但不限于此，也可以使用用于向基板14照射等离子体的等离子体源或用于产生活性物种的活性物种产生构件等。中和器40是朝向基板14放出电子(e_)的装置，由Ar等稀有气体的等离子体诱导出电子，并利用加速电压进行加速而放出电子。利用从这里射出的电子来中和附着于基板14表面的离子。在本实施方式的真空蒸镀装置I中，中和器40配设为与离子源38隔开预定距离。中和器40的安装位置只要是能够向基板14照射电子来进行中和的位置即可。离子源38安装于基板保持器12的外周侧。由此，从离子源38照射出的离子束有角度地向基板14入射。这样，通过使入射到基板14的离子束具有角度，从而使保持高动能状态的离子束从倾斜方向碰撞基板14表面，能够对堆积在基板14表面的蒸镀物质作用更大的能量等，发现取得了比以往更高的离子辅助效果。
权利要求1.一种真空蒸镀装置，其在真空容器内使蒸镀物质蒸镀至基板，所述真空蒸镀装置的特征在于， 该真空蒸镀装置构成为具备: 拱顶型的基板保持构件，其配设在所述真空容器内，用于保持多个所述基板； 旋转构件，其用于使该基板保持构件旋转； 蒸镀构件，其以与所述基板对置的方式设置；以及 能量粒子源，其用于对所述基板照射能量粒子， 所述能量粒子源在能量粒子诱导部朝向所述基板方向的状态下，安装于在所述真空容器配设的门的内壁面。
2.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于， 所述能量粒子源是离子源。
3.根据权利要求1或2所述的真空蒸镀装置，其特征在于， 所述真空蒸镀装置具备用于对所述基板照射电子的中和器， 该中和器在电子诱导部朝向所述基板方向的状态下，安装于在所述真空容器配设的门的内壁面。
4.根据权利要求2所述的真空蒸镀装置，其特征在于， 向所述离子源供给气体的气体配管是螺旋状的金属配管。
5.根据权利要求2所述的真空蒸镀装置，其特征在于， 向所述离子源供给气体的气体配管由具有弹性且具有复原性的原材料形成。
6.根据权利要求5所述的真空蒸镀装置，其特征在于， 所述具有复原性的原材料是树脂。
专利摘要本实用新型提供一种真空蒸镀装置，其能够维持离子源的效率且不会使装置大型化，并且能够提高维护性。在具备照射离子或等离子体等能量粒子的能量粒子源的真空蒸镀装置中，提供能量粒子源的维护性高的真空蒸镀装置。真空蒸镀装置构成为具备拱顶型的基板保持构件(12)，其配设于真空容器(10)内，用于保持多个基板(14)；旋转构件，其用于使基板保持构件(12)旋转；蒸镀构件(34)，其以与基板(14)对置的方式设置；以及能量粒子源(38)，其用于对基板(14)照射能量粒子。能量粒子源(38)在能量粒子诱导部朝向基板方向的状态下，安装于在真空容器(10)配设的门(10a)的内壁面。
文档编号C23C14/32GK202968678SQ20122069416
公开日2013年6月5日 申请日期2012年12月14日 优先权日2012年12月14日
发明者盐野一郎, 林达也, 姜友松, 宫内充祐, 冈田胜久, 长江亦周 申请人:株式会社新柯隆