专利名称：一种磨料自供式抛光系统的制作方法
技术领域：
本实用新型属于机械制造领域，具体涉及一种抛光工具，适用于零件抛光。
背景技术：
具有较高使用要求的零件，特别是光学元件在使用之前一般需要通过抛光处理达到较低的表面粗糙度和较高的面型精度。目前，常用的抛光方式是在软质抛光工具、如抛光布、抛光垫和被抛光工件之间添加游离磨料。这种游离磨料抛光方法的不足之处在于:
(I)抛光工具与工件之间的游离磨料在旋转工具的带动下，易被甩出抛光区域，特别是抛光区域边界处的游离磨料更易被甩出，使得抛光区域边界处的游离磨料较抛光区域中心处要少，造成抛光区域内不同位置处出现去除不均匀的现象；(2)抛光过程中，抛光工具与工件的接触以及抛光工具周边较高的速度，会使得游离磨料较难持续性添加到抛光工具与工件之间，参与抛光的游离磨料更新不及时。上述不足之处造成游离磨料抛光质量较难控制，抛光效率低。
发明内容本实用新型提供一种磨料自供式抛光系统，以解决目前游离磨料抛光效果差和抛光效率低的问题。本实用新型采用的技术方案是:螺旋供料装置与支撑座固定连接，电机的输出轴通过联轴器与螺旋供料装置的螺旋轴的一端连接，该螺旋轴的另一端通过螺钉与抛光工具的抛光头连接；供液和回收系统与螺旋供料装置连接；所述螺旋供料装置结构是:螺旋轴与外筒之间安装有轴承一和轴承二，密封圈一、密封圈二、密封圈三、密封圈四位于螺旋轴和外筒之间，外筒上有排液口一和排液口二，夕卜筒上有进液口，端盖与外筒的一端固定连接；所述螺旋供料装置的螺旋轴结构是:它中部开有螺旋槽，螺旋槽与外筒之间形成一个空腔，它另一端开有中心孔一和沿圆周分布的一圈出液孔，出液孔一与中心孔一连通；所述抛光工具的结构是:抛光头上均布有若干个形状相同的圆弧槽，槽宽沿抛光头径向逐渐增加；圆弧槽上沿径向开有出液孔二，出液孔二的孔径沿抛光头径向逐渐增大，抛光头开有与圆弧槽上的出液口相通的中心孔二，中心孔二和螺旋轴一端的中心孔一相通，抛光头上的非圆弧槽部分粘接有抛光布；所述供液和回收系统的结构是:用于储存抛光液的储液罐与泵连接，泵的输出端通过管路与螺旋供料装置的外筒上的进液口连通，外筒上的排液口一和排液口二分别通过管接头一、管道一、管接头二和管接头三、管道二、管接头四与收集槽连接。本实用新型考虑到由于抛光工具旋转造成抛光接触区域中心和边缘处抛光磨料分布不均匀，通过设计抛光头上出液孔的孔径和数目、圆弧槽的宽窄，促使抛光区域内抛光磨料分布均匀，提高抛光效率和抛光质量。[0010]本实用新型的优点是:(1)可实现向抛光接触区域持续提供游离磨料，保证抛光接触区域内参与抛光的游离磨料的及时更新；(2)提供给抛光接触区域中心和边缘处的游离磨料数量不同，提供给边缘处的游离磨料多于提供给中心区域的游离磨料，克服了边缘处游离磨料由于工具旋转被甩出而造成的游离磨料不足的情况，保证了抛光接触区域各处游离磨料分布基本均匀；(3)混有游离磨料的抛光液通过泵输出，可实现抛光液的自动可控供给。
图1是本实用新型的结构示意图；图2是图1的左视图；图3是本实用新型外筒的结构示意图。图4是本实用新型螺旋轴的结构示意图；图5是图4的左视图；图6是本实用新型抛光头的结构示意图；图7是图6的右视图；图8是图6的左视图。
具体实施方式
螺旋供料装置与支撑座9固定连接，电机4的输出轴通过联轴器5与螺旋供料装置的螺旋轴6的一端连接，该螺旋轴6的另一端通过螺钉与抛光工具的抛光头19连接；供液和回收系统与螺旋供料装置连接；所述螺旋供料装置结构是:螺旋轴6与外筒13之间安装有轴承一 7和轴承二 17，密封圈一 12、密封圈二 15、密封圈三10、密封圈四18位于螺旋轴6和外筒13之间，外筒13上有排液口一 32和排液口二 33，外筒13上有进液口 31，端盖8与外筒13的一端固定连接;所述螺旋供料装置的螺旋轴结构是:它中部开有螺旋槽27，螺旋槽27与外筒13之间形成一个空腔，它另一端开有中心孔一 26和沿圆周分布的一圈出液孔25,出液孔一 25与中心孔一 26连通；所述抛光工具的结构是:抛光头19上均布有若干个形状相同的圆弧槽29，槽宽沿抛光头19径向逐渐增加；圆弧槽29上沿径向开有出液孔二 28，出液孔二 28的孔径沿抛光头19径向逐渐增大，抛光头19开有与圆弧槽29上的出液口 28相通的中心孔二 30，中心孔二 30和螺旋轴6 —端的中心孔一 26相通,抛光头19上的非圆弧槽部分粘接有抛光布34 ；所述供液和回收系统的结构是:用于储存抛光液的储液罐I与泵2连接，泵2的输出端通过管路3与螺旋供料装置的外筒13上的进液口 31连通，外筒13上的排液口一 32和排液口二 33分别通过管接头一 11、管道一 24、管接头二 23和管接头三16、管道二 20、管接头四21与收集槽22连接。本实用新型工作方式是:储液罐I中混有游离磨料的抛光液通过泵2，经管道3、管接头14、进液口 31进入螺旋轴6与外筒13之间的空腔；电机4通过联轴器5带动螺旋轴6旋转，螺旋轴6带动抛光头19和粘在抛光头19上的抛光布34 —同旋转，同时螺旋轴6与外筒13之间的相对螺旋运动推动抛光液依次通过螺旋轴6上的出液孔25、中心孔一 26和抛光头19的中心孔二 30、圆弧槽29上的出液孔28进入抛光接触区域，抛光布34带动游离磨料实现对零件的抛光；从密封圈一 12和密封圈二 15渗出的抛光液，分别经过外筒13的排液口一 32、管接头一 11、管道一 24、管接头二 23和外筒13的排液口二 33、管接头三16、管道二 20、管接头四21流入收集槽22，回收抛光液；根据抛光头19的旋转速度，通过泵2可以调节提供的抛光液的流量，实现游离磨料的可控供给，提高抛光质量和抛光效率。
权利要求1.一种磨料自供式抛光系统，其特征在于:螺旋供料装置与支撑座固定连接，电机的输出轴通过联轴器与螺旋供料装置的螺旋轴的一端连接，该螺旋轴的另一端通过螺钉与抛光工具的抛光头连接；供液和回收系统与螺旋供料装置连接。
2.根据权利要求1所述的一种磨料自供式抛光系统，其特征在于:螺旋供料装置的结构是:螺旋轴与外筒之间安装有轴承一和轴承二，密封圈一、密封圈二、密封圈三、密封圈四位于螺旋轴和外筒之间，外筒上有排液口一和排液口二，外筒上有进液口，端盖与外筒的一端固定连接。
3.根据权利要求2所述的一种磨料自供式抛光系统，其特征在于:螺旋供料装置的螺旋轴结构是:它中部开有螺旋槽，螺旋槽与外筒之间形成一个空腔，它另一端开有中心孔一和沿圆周分布的一圈出液孔，出液孔一与中心孔一连通。
4.根据权利要求1所述的一种磨料自供式抛光系统，其特征在于:抛光工具的结构是:抛光头上均布有若干个形状相同的圆弧槽，槽宽沿抛光头径向逐渐增加；圆弧槽上沿径向开有出液孔二，出液孔二的孔径沿抛光头径向逐渐增大，抛光头开有与圆弧槽上的出液口相通的中心孔二，中心孔二和螺旋轴一端的中心孔一相通，抛光头上的非圆弧槽部分粘接有抛光布。
5.根据权利要求1所述的一种磨料自供式抛光系统，其特征在于:供液和回收系统的结构是:用于储存抛光液的储液罐与泵连接，泵的输出端通过管路与螺旋供料装置的外筒上的进液口连通，外筒上的排液口一和排液口二分别通过管接头一、管道一、管接头二和管接头三、管道二、管接 头四与收集槽连接。
专利摘要本实用新型涉及一种磨料自供式抛光系统，属于机械制造领域。螺旋供料装置与支撑座固定连接，电机的输出轴通过联轴器与螺旋供料装置的螺旋轴的一端连接，该螺旋轴的另一端通过螺钉与抛光工具的抛光头连接；供液和回收系统与螺旋供料装置连接。优点是可实现向抛光接触区域持续提供游离磨料，保证了抛光接触区域各处游离磨料分布基本均匀；实现了抛光液的自动可控供给。
文档编号B24B57/02GK203077104SQ20132002733
公开日2013年7月24日 申请日期2013年1月18日 优先权日2013年1月18日
发明者张雷, 周宛松, 冀世军, 王昕 申请人:吉林大学