单晶铜键合金丝清洗装置制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及单晶铜键合金丝生产设备，具体涉及一种单晶铜键合金丝清洗装置。单晶铜键合金丝清洗装置，包括清洗管，清洗管的两端连接进液管，清洗管的中部连通出液管，清洗管内设置旋流器。本实用新型结构简单，清洗液经进液管进入清洗管内，经过旋流器的旋流器旋片和旋流器旋槽加速旋转，提高了清洗液的喷射流速，提高了清洗液的清洗效率和清洗效果。
【专利说明】单晶铜键合金丝清洗装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及单晶铜键合金丝生产设备，具体涉及一种单晶铜键合金丝清洗装置。
【背景技术】
[0002]目前，在单晶铜键合金丝生产过程中，退火炉半成品清洗环节由单晶铜键合金丝清洗装置完成，单晶铜键合金丝清洗装置有效喷射结面小，液体喷射流速慢，清洗效果差。
【发明内容】
[0003]本实用新型的目的在于提供一种结构简单，安全可靠，清洗效果好的单晶铜键合金丝清洗装置。
[0004]本实用新型的技术方案是:
[0005]单晶铜键合金丝清洗装置，包括清洗管，清洗管的两端连接进液管，清洗管的中部连通出液管，清洗管内设置旋流器。
[0006]具体的，清洗管内设置旋流器内设置两个旋流器，两个旋流器相向设置。
[0007]具体的，旋流器的表面设置有4至6个呈90度到60度均布的螺旋状的旋流器旋片，在每个旋流器旋片之间设有旋流器旋槽，旋流器的中心部设置有旋流器贯通孔。
[0008]具体的，流器贯通孔呈锥 形，减少了截面变化产生的压力损失。
[0009]本实用新型的有益效果是，本实用新型结构简单，清洗液经进液管进入清洗管内，经过旋流器的旋流器旋片和旋流器旋槽加速旋转，在两个旋流器之间的空间形成旋流，提高了清洗液的喷射流速，提高了清洗液的清洗效率和清洗效果。
【专利附图】
【附图说明】
[0010]图1是本实用新型的结构示意图。
[0011]I清洗管 2堵头 3进液管4出液管5旋流器旋槽6旋流器旋片 7旋流器贯通孔 8孔。
【具体实施方式】
[0012]单晶铜键合金丝清洗装置，包括清洗管1，清洗管I两端设置堵头2，铜丝从清洗管I 一端堵头2的孔8进入，从另一端堵头2的孔8穿出，清洗管I的两端连接进液管3，清洗管I的中部连通出液管4，清洗管I内设置旋流器。
[0013]清洗管I内设置旋流器内设置两个旋流器，两个旋流器相向设置，旋流器的表面设置有4个呈60度均布的螺旋状的旋流器旋片6，在每个旋流器旋片6之间设有旋流器旋槽5，旋流器的中心部设置有旋流器贯通孔7，旋流器贯通孔7有一定的锥度，减少了截面变化产生的压力损失。
[0014]最后应当说明的是:以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非对其限制；尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细的说明，所属领域的普通技术人员应当理解:依然可以对本实用新型的【具体实施方式】进行修改或者对部分技术特征进行等同替换；而不脱离本实用新型技术方案的精神，其均应涵盖在本实用新型请求保护的技术方案范围当中。
【权利要求】
1.单晶铜键合金丝清洗装置，包括清洗管，清洗管的两端连接进液管，清洗管的中部连通出液管，其特征在于，清洗管内设置旋流器，旋流器的表面设置有4至6个均布的螺旋状的旋流器旋片，在每个旋流器旋片之间形成旋流器旋槽，旋流器的中心部设置有旋流器贯通孔。
2.根据权利要求1所述单晶铜键合金丝清洗装置，其特征在于，清洗管内设置旋流器内设置两个旋流器，两个旋流器相向设置。
3.根据权利要求1所述单晶铜键合金丝清洗装置，其特征在于，流器贯通孔呈锥形。
【文档编号】C23G3/02GK203403160SQ201320437109
【公开日】2014年1月22日 申请日期:2013年7月23日 优先权日:2013年7月23日
【发明者】贺龙彪 申请人:河南昶森电子科技有限公司