本实用新型涉及镀膜机的清洗技术领域，特别涉及一种真空镀膜机的清洗机构。
背景技术：
真空工艺进行前应清洗系统材料表面清除污染物；一般情况下通过吸附现象、化学反应、浸析和干燥过程、机械处理以及扩散和离析过程都使反应室腔壁、靶源表面使污染物增加，久而久之，衬壁的膜层就会越来越厚。由于在真空管的镀膜过程中还参与了反应溅射。反应溅射的产物附着在衬壁上，这样的膜层会降低原子向壳体运动的速度及能力。我们在生产过程中，会常遇到起靶困难的现象，就是这个原因。如果想顺利起靶，要么提高本底真空度，这样会花费较长的时间，要么就需要清理膜层影响真空镀膜的反应效率和质量，现今的清洁去污方法大多数用人手，通过佩戴装备，进行酸洗清洁，不但效率低，而且对人身安全造成很大隐患。
故有必要对现有真空镀膜机的清洗机构进行进一步地技术革新。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于针对现有技术的缺陷和不足，提供一种结构简单，设计合理、使用方便的真空镀膜机的清洗机构。
为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：
本实用新型所述的一种真空镀膜机的清洗机构，它包括有清洗剂桶、进液体管、真空反应室、阳极靶源、真空管、抽真空机、排液门、锥形漏斗和排液管；所述阳极靶源设置在真空反应室的内腔顶部；所述真空管的出风端与抽真空机相接通；真空管的进风端与真空反应室的内腔相连通；所述进液体管一端与清洗剂桶相接通；进液体管另一端与真空反应室相连通；所述进液体管上分别设置有抽液泵和进液截止阀；所述进液截止阀设置在进液体管的出口端；所述真空反应室的外壁设置有电机支架；所述电机支架上设置有电机；所述电机的转轴端伸入到真空反应室的内腔；所述电机的转轴末端设置有搅拌桨；所述真空管的进风端设置有真空泵截止阀；所述真空反应室的底部呈开口状；所述排液门铰接在真空反应室的内壁底部；所述排液门的上表面设置有阴极靶座；所述真空反应室的顶部设置有气缸；所述气缸的伸缩轴端伸入到真空反应室的内腔后与排液门的上表面相固定连接；所述锥形漏斗的上端呈开状；所述锥形漏斗与真空反应室之间设置有密封环；所述排液门的下表面抵压在密封环的上表面；所述锥形漏斗的底端与排液管一端相连通；所述排液管另一端清洗剂桶相接通；所述排液管上连接有排液泵。
进一步地，所述真空管的进风端水平高度低于真空管的出风端水平高度。
采用上述结构后，本实用新型有益效果为：本实用新型所述的一种真空镀膜机的清洗机构，它包括有清洗剂桶、进液体管、真空反应室、阳极靶源、真空管、抽真空机、排液门、锥形漏斗和排液管；所述阳极靶源设置在真空反应室的内腔顶部；所述真空管的出风端与抽真空机相接通；真空管的进风端与真空反应室的内腔相连通；所述进液体管一端与清洗剂桶相接通；进液体管另一端与真空反应室相连通；所述进液体管上分别设置有抽液泵和进液截止阀；所述进液截止阀设置在进液体管的出口端；所述真空反应室的外壁设置有电机支架；所述电机支架上设置有电机；所述电机的转轴端伸入到真空反应室的内腔；所述电机的转轴末端设置有搅拌桨；所述真空管的进风端设置有真空泵截止阀；所述真空反应室的底部呈开口状；所述排液门铰接在真空反应室的内壁底部；所述排液门的上表面设置有阴极靶座；所述真空反应室的顶部设置有气缸；所述气缸的伸缩轴端伸入到真空反应室的内腔后与排液门的上表面相固定连接；所述锥形漏斗的上端呈开状；所述锥形漏斗与真空反应室之间设置有密封环；所述排液门的下表面抵压在密封环的上表面；所述锥形漏斗的底端与排液管一端相连通；所述排液管另一端清洗剂桶相接通；所述排液管上连接有排液泵。在使用本实用新型时，当需要对真空反应室的内腔、阳极靶源和阴极靶座进行清洁时，气缸往下顶使排液门紧压在密封环上，进液截止阀打开，真空泵截止阀关闭，注入清洗剂，用电机进行搅拌，使清洗剂与真空反应室的内腔、阳极靶源和阴极靶座充分接触反应；反应后关闭进液截止阀，气缸往上拉使排液门离开密封环，通过排液泵把清洗剂排出，此过程不需要人体接触到真空反应室的内腔，清洁效率快，降低操作的危险性。本实用新型具有结构简单，设置合理，制作成本低等优点。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图；
附图标记说明：
1、清洗剂桶；2、进液体管；3、抽液泵；4、真空反应室；
4-1、电机支架；5、电机；6、进液截止阀；7、阳极靶源；8、气缸；
9、真空泵截止阀；10、真空管；11、抽真空机；12、阴极靶座；
13、排液门；14、锥形漏斗；14-1、密封环；15、排液泵；16、排液管。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。
如图1所示，本实用新型所述的一种真空镀膜机的清洗机构，它包括有清洗剂桶1、进液体管2、真空反应室4、阳极靶源7、真空管10、抽真空机11、排液门13、锥形漏斗14和排液管16；所述阳极靶源7设置在真空反应室4的内腔顶部；所述真空管10的出风端与抽真空机11相接通；真空管10的进风端与真空反应室4的内腔相连通；所述进液体管2一端与清洗剂桶1相接通；该清洗剂为酸性或者碱性液体；进液体管2另一端与真空反应室4相连通；所述进液体管2上分别设置有抽液泵3和进液截止阀6；所述进液截止阀6设置在进液体管2的出口端；所述真空反应室4的外壁设置有电机支架4-1；所述电机支架4-1上设置有电机5；所述电机5的转轴端伸入到真空反应室4的内腔；所述电机5的转轴末端设置有搅拌桨；搅拌桨用作搅拌真空反应室4内的清洗剂；使清洗剂与真空反应室4的内腔、阳极靶源7和阴极靶座12充分接触；所述真空管10的进风端设置有真空泵截止阀9；防止清洗剂流入抽真空机11内，损坏抽真空机11；所述真空反应室4的底部呈开口状；所述排液门13铰接在真空反应室4的内壁底部；所述排液门13的上表面设置有阴极靶座12；所述真空反应室4的顶部设置有气缸8；所述气缸8的伸缩轴端伸入到真空反应室4的内腔后与排液门13的上表面相固定连接；当真空反应室4需要注入清洗剂时候，排液门13是关闭的，当真空反应室4需要排开清洗剂时候，排液门13是打开的；都是利用气缸8推、拉排液门13实施的；所述锥形漏斗14的上端呈开状；所述锥形漏斗14与真空反应室4之间设置有密封环14-1；所述排液门13的下表面抵压在密封环14-1的上表面；所述锥形漏斗14的底端与排液管16一端相连通；所述排液管16另一端清洗剂桶1相接通；所述排液管16上连接有排液泵15。
作为本实用新型的一种优选方式；所述真空管10的进风端水平高度低于真空管10的出风端水平高度，在排液时候，使真空管10内的清洗剂能顺利排出。
在使用本实用新型时，当需要对真空反应室的内腔、阳极靶源和阴极靶座进行清洁时，气缸往下顶使排液门紧压在密封环上，进液截止阀打开，真空泵截止阀关闭，注入清洗剂，用电机进行搅拌，使清洗剂与真空反应室的内腔、阳极靶源和阴极靶座充分接触反应；反应后关闭进液截止阀，气缸往上拉使排液门离开密封环，通过排液泵把清洗剂排出，此过程不需要人体接触到真空反应室的内腔，清洁效率快，而且降低操作的危险性。本实用新型具有结构简单，设置合理，制作成本低等优点。另外，该结构简单、设计合理，制造成本低。
以上所述仅是本实用新型的较佳实施方式，故凡依本实用新型专利申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均包括于本实用新型专利申请范围内。