一种低温真空蒸发镀膜设备的制作方法

本发明涉及真空蒸发镀膜，具体为一种低温真空蒸发镀膜设备。

背景技术：

1、真空蒸镀，简称蒸镀，是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料（或称膜料）并使之汽化，粒子飞至基片表面或工件表面凝聚成膜的工艺方法，将基片放入真空室内，以电阻、电子束、激光等方法加热膜料，使膜料蒸发或升华，气化为具有一定能量（0.1～0.3ev）的粒子（原子、分子或原子团）；气态粒子以基本无碰撞的直线运动飞速传送至基片，到达基片表面的粒子一部分被反射，另一部分吸附在基片上并发生表面扩散，沉积原子之间产生二维碰撞，形成簇团，粒子簇团不断地与扩散粒子相碰撞，或吸附单粒子，或放出单粒子；此过程反复进行，当聚集的粒子数超过某一临界值时就变为稳定的核，再继续吸附扩散粒子而逐步长大，最终通过相邻稳定核的接触、合并，形成连续薄膜，随着真空蒸发镀膜件的广泛应用，为此提出一种低温真空蒸发镀膜设备。

2、在实现本发明过程中，发明人发现在现有技术中至少存在如下问题没有得到解决：在现有技术中，因为集中气口到整流板的各个分流气孔的位置距离的不同，工艺气体的浓度、气压、流速等都会存在明显的差异，这会导致工件镀膜效果不均匀的问题；尤其是有大面积镀膜需求的情况下，存在镀膜均匀性差，镀膜面积内工艺一致性低等问题，为此我们提出一种低温真空蒸发镀膜设备来解决现有的问题。

技术实现思路

1、本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，如：现有技术中，因为集中气口到整流板的各个分流气孔的位置距离的不同，工艺气体的浓度、气压、流速等都会存在明显的差异，这会导致工件镀膜效果不均匀的问题；尤其是有大面积镀膜需求的情况下，存在镀膜均匀性差，镀膜面积内工艺一致性低等问题。

2、为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

3、一种低温真空蒸发镀膜设备，包括底架、蒸发罐、多层气体溢流器、水冷循环机构和行星伞机构，所述底架的顶部固定安装有蒸发罐，蒸发罐的内部嵌入安装有延伸出的多层气体溢流器；

4、多层气体溢流器包括溢流管路、稳压阀、气体控制罩、整流板、叶片、联动环、外齿环、拨动槽板、伺服马达、齿轮，溢流管路的两端分别安装有两组稳压阀，稳压阀的一端固定安装有气体控制罩，气体控制罩的一侧固定安装有延伸至蒸发罐的内部整流板，且气体控制罩的内部转动安装有叶片，叶片的一侧固定安装有延伸出气体控制罩外侧的拨动槽板，拨动槽板的内侧通过联动杆安装有联动环，联动环的外侧固定安装有外齿环，气体控制罩的外部一侧通过固定架安装有伺服马达，伺服马达的输出端固定安装有齿轮，且齿轮的一侧与外齿环啮合连接，所述溢流管路的底端固定安装有风机，且风机固定安装在底架的内部一侧。

5、优选的，所述底架的正面通过合页安装有检修门，底架顶部的一侧固定安装有控制器。

6、优选的，所述蒸发罐的顶部固定安装有顶罩，顶罩的正面从左往右嵌入安装有温度传感器、气体浓度传感器、真空传感器。

7、优选的，所述蒸发罐的正面通过铰链安装有密封盖，且密封盖的正面嵌入安装有观察窗，蒸发罐内部的底部固定安装有蒸发器。

8、优选的，所述底架的内部放置有水冷循环机构，水冷循环机构包括水箱、制冷器、循环泵、过滤器、水冷管，水箱顶部的一侧固定安装有延伸至内部的制冷器，水箱的顶部的另一侧通过管道安装有过滤器，过滤器的一侧通过管道安装有循环泵，循环泵的输出端通过管道安装有水冷管，水冷管固定安装在蒸发罐的内壁，且水冷管的出水端通过管道与水箱贯通连接。

9、优选的，所述蒸发罐的内部固定安装有延伸至顶部的行星伞机构，行星伞机构包括驱动电机、支架、滚轮、伞架、滑轨，驱动电机的输出端固定安装有支架，支架的底部转动安装有滚轮，滚轮的一侧通过轴杆安装有伞架，滚轮的底部接触安装有滑轨，且滑轨固定安装在蒸发罐的内壁。

10、优选的，所述驱动电机的输出端套接有防护罩，且防护罩通过螺栓安装在蒸发罐的内壁。

11、优选的，所述底架内部的一侧固定安装有抽真空机，抽真空机的抽气端固定安装有抽真空管，抽真空管的顶部通过泄压阀安装有过滤罩，且过滤罩延伸至蒸发罐的内部。

12、优选的，所述抽真空机的输出端安装有气压表，且气压表的一侧固定安装有降噪器。

13、与现有技术相比，本发明的有益效果是：

14、本发明通过溢流管路可以将风机输送的气体进行分级输送，通过整流板将气体分散，使其气体均匀输送至蒸发罐的内部，通过多路入气多级整流，即便是面对大面积的基片，其也可以使基片上的镀膜效果一致，可以明显提升整体镀膜均匀性；同时通过独立的气体控制罩独立调节各个独立气流控制区域的气流通入参数，通过伺服马达通电运行带动齿轮进行旋转，旋转的齿轮通过啮合连接的外齿环带动联动环进行旋转，旋转的联动环通过联动杆带动多组拨动槽板进行同步翻转，翻转的拨动槽板带动叶片进行同步翻转，实现可以控制叶片的开合以及控制叶片的开合角度，进而调节各个独立气流控制区域的气流通入参数，解决了分流气孔的位置距离的不同，工艺气体的浓度、气压、流速等都会存在明显的差异的问题，保证了各区域的镀膜效果区域一致，以提升整体镀膜均匀性。

技术特征：

1.一种低温真空蒸发镀膜设备，包括底架（1）、蒸发罐（2）、多层气体溢流器（3）、水冷循环机构（4）和行星伞机构（5），其特征在于：所述底架（1）的顶部固定安装有蒸发罐（2），蒸发罐（2）的内部嵌入安装有延伸出的多层气体溢流器（3）；

2.根据权利要求1所述的一种低温真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述底架（1）的正面通过合页安装有检修门（101），底架（1）顶部的一侧固定安装有控制器（102）。

3.根据权利要求1所述的一种低温真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述蒸发罐（2）的顶部固定安装有顶罩（201），顶罩（201）的正面从左往右嵌入安装有温度传感器、气体浓度传感器、真空传感器。

4.根据权利要求3所述的一种低温真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述蒸发罐（2）的正面通过铰链安装有密封盖（202），且密封盖（202）的正面嵌入安装有观察窗，蒸发罐（2）内部的底部固定安装有蒸发器（203）。

5.根据权利要求1所述的一种低温真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述底架（1）的内部放置有水冷循环机构（4），水冷循环机构（4）包括水箱（401）、制冷器（402）、循环泵（403）、过滤器（404）、水冷管（405），水箱（401）顶部的一侧固定安装有延伸至内部的制冷器（402），水箱（401）的顶部的另一侧通过管道安装有过滤器（404），过滤器（404）的一侧通过管道安装有循环泵（403），循环泵（403）的输出端通过管道安装有水冷管（405），水冷管（405）固定安装在蒸发罐（2）的内壁，且水冷管（405）的出水端通过管道与水箱（401）贯通连接。

6.根据权利要求1所述的一种低温真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述蒸发罐（2）的内部固定安装有延伸至顶部的行星伞机构（5），行星伞机构（5）包括驱动电机（501）、支架（502）、滚轮（503）、伞架（504）、滑轨（505），驱动电机（501）的输出端固定安装有支架（502），支架（502）的底部转动安装有滚轮（503），滚轮（503）的一侧通过轴杆安装有伞架（504），滚轮（503）的底部接触安装有滑轨（505），且滑轨（505）固定安装在蒸发罐（2）的内壁。

7.根据权利要求6所述的一种低温真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述驱动电机（501）的输出端套接有防护罩，且防护罩通过螺栓安装在蒸发罐（2）的内壁。

8.根据权利要求1所述的一种低温真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述底架（1）内部的一侧固定安装有抽真空机（6），抽真空机（6）的抽气端固定安装有抽真空管（601），抽真空管（601）的顶部通过泄压阀（602）安装有过滤罩（603），且过滤罩（603）延伸至蒸发罐（2）的内部。

9.根据权利要求8所述的一种低温真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述抽真空机（6）的输出端安装有气压表，且气压表的一侧固定安装有降噪器。

技术总结
本发明属于真空蒸发镀膜技术领域，本发明公开了一种低温真空蒸发镀膜设备，包括底架、蒸发罐、多层气体溢流器、水冷循环机构和行星伞机构，蒸发罐的内部嵌入安装有延伸出的多层气体溢流器，多层气体溢流器包括溢流管路、稳压阀、气体控制罩、整流板、叶片、联动环、外齿环、拨动槽板、伺服马达、齿轮。本发明通过溢流管路可以将风机输送的气体进行分级输送，通过整流板将气体分散，使其气体均匀输送至蒸发罐的内部，通过多路入气多级整流，即便是面对大面积的基片，其也可以使基片上的镀膜效果一致，可以明显提升整体镀膜均匀性；同时通过独立的气体控制罩独立调节各个独立气流控制区域的气流通入参数，保证了各区域的镀膜效果区域一致。

技术研发人员：王超,李剑飞,刘华林,潘宇,苗伟伟
受保护的技术使用者：蒙城繁枫真空科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/11/28