1.一种氧化铝陶瓷烧结体，其特征在于，所述氧化铝陶瓷烧结体包含质量分数为85.6～95.2％的氧化铝、含铈化合物(以氧化铈形式计算)和含铌化合物(以氧化铌形式计算)，所述含铈化合物(以氧化铈形式计算)的质量分数高于含铌化合物(以氧化铌形式计算)的质量分数。
2.如权利要求1所述的氧化铝陶瓷烧结体，其特征在于，所述含铈化合物(以氧化铈形式计算)的质量分数和含铌化合物(以氧化铌形式计算)的质量分数的比值为(1.4～2.2)：1。
3.如权利要求1所述的氧化铝陶瓷烧结体，其特征在于，所述含铌化合物(以氧化铌形式计算)的质量分数为2～6％，所述含铈化合物(以氧化铈形式计算)的质量分数为2.8～8.4％。
4.如权利要求1所述的氧化铝陶瓷烧结体，其特征在于，以质量分数计算，所述氧化铝陶瓷烧结体由85.6～95.2％的氧化铝、2～6％的含铌化合物(以氧化铌形式计算)和2.8～8.4％的含铈化合物(以氧化铈形式计算)组成；优先地，以质量分数计算，所述氧化铝陶瓷烧结体由89％的氧化铝、4％的含铌化合物(以氧化铌形式计算)和7％的含铈化合物(以氧化铈形式计算)组成。
5.如权利要求1所述的氧化铝陶瓷烧结体，其特征在于，所述氧化铝陶瓷烧结体中含有铈铌晶体，所述铈铌晶体为cenbo4，所述氧化铝陶瓷烧结体中还含有氧化铝和氧化铈结合形成的晶粒相ceal11o18。
6.如权利要求5所述的氧化铝陶瓷烧结体，其特征在于，所述cenbo4的平均粒径为3～4um，其d90和d10的差值为6.5～7.5um；所述ceal11o18的平均粒径为3.5～4.5um，其d90和d10的差值为7～8um。
7.如权利要求5所述的氧化铝陶瓷烧结体，其特征在于，所述氧化铝陶瓷烧结体中，单位面积内cenbo4的颗粒面积占比为3～6％，单位面积内ceal11o18的颗粒面积占比为2～3％。
8.一种氧化铝陶瓷基板，其特征在于，所述氧化铝陶瓷基板包含权利要求1～7任一项所述的氧化铝陶瓷烧结体。
9.一种覆金属层的氧化铝陶瓷基板，其特征在于，所述覆金属层的氧化铝陶瓷基板包含权利要求1～7任一项所述的氧化铝陶瓷烧结体。
10.如权利要求8所述的氧化铝陶瓷基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)按配比称取原料，将含铈化合物(以氧化铈形式计算)和含铌化合物(以氧化铌形式计算)充分混合均匀，然后与氧化铝混合，随后经湿法球磨、干燥得混合粉体；
(2)将步骤(1)所得的混合粉体装入模具内等静压成型得到生坯，将生坯进行高温烧结即得所述的氧化铝陶瓷基板；其中，所述高温烧结过程中，其温度为1450～1550℃，保温时间为0.5～3h。