温度响应性高分子表面处理剂的制作方法

本发明涉及温度响应性高分子表面处理剂。

背景技术：

1、以细胞为原料的生物医药由于药效的高度而期待普及，有效地培养原料细胞的技术备受注目。大多数有用细胞在培养时粘附于某种基材而增殖，但增殖后需要剥离培养细胞并进行继代培养操作。通常进行使用了胰蛋白酶等蛋白水解酶的酶处理，但酶处理因伴随去除酶的繁杂的操作而效率不充分。

2、为了解决上述，专利文献1中记载了基于冷却处理的细胞回收方法。另外，专利文献2、3中记载了修饰了温度响应性高分子的细胞培养基材。使用覆盖了温度响应性高分子的细胞培养基材进行了培养的细胞通过冷却至温度响应性高分子的溶胶转变温度以下，从而基材表面的粘附力减弱，无需繁杂的操作而能够剥离/回收细胞。另一方面，温度响应性高分子本身的细胞粘附性弱，有时根据覆盖量、细胞培养基材的种类不同而无法获得充分的细胞粘附性。

3、因此，需求兼顾基于冷却处理的细胞回收和细胞粘附性的温度响应性细胞培养基材。

4、现有技术文献

5、专利文献

6、专利文献1：日本特开第2020-110140号公报

7、专利文献2：日本专利第5846584号公报

8、专利文献3：日本专利第6447787号公报

技术实现思路

1、发明要解决的问题

2、本发明的目的在于提供温度响应性高分子表面处理剂。

3、用于解决问题的方案

4、本发明人等鉴于以上的情况而进行了深入研究，结果发现：包含温度响应性高分子、及含有具有显示出酸性的官能团的单体和hlb值(格里菲法)处于0～5.0的范围的单体的细胞粘附性高分子的表面处理剂通过覆盖于基材，从而可以得到兼顾细胞粘附性和基于冷却处理的细胞回收的温度响应性细胞培养基材，并完成了本发明。即本发明包括以下的方式。

5、＜1＞一种表面处理剂，其包含：温度响应性高分子、及由下述(a)和(b)形成的细胞粘附性高分子；

6、(a)具有显示出酸性的官能团的单体，

7、(b)hlb值(格里菲法)处于0～5.0的范围的单体。

8、＜2＞根据＜1＞所述的表面处理剂，其中，细胞粘附性高分子的导入量相对于温度响应性高分子的导入量为1～50wt％。

9、＜3＞根据＜1＞或＜2＞所述的表面处理剂，其中，温度响应性高分子在0℃～50℃的范围内显示出对水的最低临界溶解温度。

10、＜4＞根据＜1＞～＜3＞中任一项所述的表面处理剂，其中，温度响应性高分子是由3种成分以上的重复单元形成的嵌段共聚物。

11、＜5＞根据＜1＞～＜4＞中任一项所述的表面处理剂，其中，构成成分(a)的显示出酸性的官能团选自羟基、羧基、磺基、磷酸基。

12、＜6＞根据＜1＞～＜5＞中任一项所述的表面处理剂，其中，构成成分(a)的显示出酸性的官能团的酸解离常数pka为-5.0～6.0。

13、＜7＞根据＜1＞～＜6＞中任一项所述的表面处理剂，其中，表面处理剂中的温度响应性高分子的浓度为0.1～5.0wt％。

14、＜8＞一种膜，其是将＜1＞～＜7＞中任一项所述的表面处理剂涂布于基材而成的。

15、＜9＞根据＜8＞所述的膜，其膜厚为1～1000nm。

16、＜10＞一种细胞培养基材，其在表面覆盖有＜8＞或＜9＞所述的膜。

17、＜11＞根据＜10＞所述的细胞培养基材，其为薄膜状。

18、＜12＞一种＜10＞或＜11＞所述的细胞培养基材的制法，其具备将上述表面处理剂涂布于上述基材的工序。

19、发明的效果

20、包含温度响应性高分子、以及由具有显示出酸性的官能团的单体和hlb值(格里菲法)处于0～5.0的范围的单体形成的细胞粘附性高分子的表面处理剂通过覆盖于基材，从而可以得到兼顾细胞粘附性和基于冷却处理的细胞回收的温度响应性细胞培养基材。

技术特征：

1.一种表面处理剂，其包含：温度响应性高分子、及由下述(a)和(b)形成的细胞粘附性高分子；

2.根据权利要求1所述的表面处理剂，其中，细胞粘附性高分子的导入量相对于温度响应性高分子的导入量为1～50wt％。

3.根据权利要求1或2所述的表面处理剂，其中，温度响应性高分子在0℃～50℃的范围内显示出对水的最低临界溶解温度。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的表面处理剂，其中，温度响应性高分子是由3种成分以上的重复单元形成的嵌段共聚物。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的表面处理剂，其中，构成成分(a)的显示出酸性的官能团选自羟基、羧基、磺基、磷酸基。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的表面处理剂，其中，构成成分(a)的显示出酸性的官能团的酸解离常数pka为-5.0～6.0。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的表面处理剂，其中，表面处理剂中的温度响应性高分子的浓度为0.1～5.0wt％。

8.一种膜，其是将权利要求1～7中任一项所述的表面处理剂涂布于基材而成的。

9.根据权利要求8所述的膜，其膜厚为1～1000nm。

10.一种细胞培养基材，其在表面覆盖有权利要求8或9所述的膜。

11.根据权利要求10所述的细胞培养基材，其为薄膜状。

12.一种权利要求10或11所述的细胞培养基材的制造方法，其具备将所述表面处理剂涂布于所述基材的工序。

技术总结
一种表面处理剂，其包含：温度响应性高分子、及含有具有显示出酸性的官能团的单体和HLB值(格里菲法)处于0～5.0的范围的单体的细胞粘附性高分子，进而通过覆盖于基材，从而兼顾细胞粘附性和基于冷却处理的细胞回收的温度响应性细胞培养基材和温度响应性高分子表面处理剂。

技术研发人员：慈道裕美子,平床圣也,今富伸哉,伊藤博之
受保护的技术使用者：东曹株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/1/16