一种出芽短梗霉及其发酵产物和应用的制作方法

本发明涉及微生物领域，具体而言，涉及一种出芽短梗霉及其发酵产物和应用。

背景技术：

1、皮肤修护功效是指有助于维护皮肤各部位保证正常状态的功效。皮肤维持正常功能需要皮肤的稳定和对内外损伤的及时修复。随着皮肤科学和化妆品科学研究的不断深入，皮肤修复的范围也越来越深入和广泛，不仅包括皮肤角质层、表皮细胞，还包括真皮层的胶原蛋白、真表皮连接处的层粘连蛋白等。

2、皮肤自身具有很强的修复能力，包括皮肤抗氧化系统，皮肤免疫体系、皮肤增殖与再生功能。当皮肤屏障功能受损时，将会表皮增生过度和真皮炎症因子释放。现有皮肤屏障修复的活性成分，很难做到多角度实现屏障修复效果，往往只能减轻单一因素导致的屏障损伤现象，而无法同时兼顾紫外线等环境侵害引起的皮肤屏障多个靶点的损伤修护，因此往往无法达到满意的效果，实际应用上受到很大的限制。皮肤敏感、泛红、刺痛、干燥、脱屑、瘙痒等，通常是皮肤受损之后无法及时修复出现的高敏反应状态。造成皮肤的伤害，例如光老化、表皮皱纹、皮肤免疫力失调等。出现暗纹、细纹、皱纹等皮肤老化现象。

3、因此，需要提供一种具有多种修护效果的修护成分，以满足市场需求。

4、鉴于此，特提出本发明。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种出芽短梗霉及其发酵产物和应用。

2、本发明是这样实现的：

3、第一方面，本发明实施例提供了一种出芽短梗霉，其分类学拉丁文名为aureobasidium pullulans，保藏于中国典型培养物保藏中心，保藏号为cctcc no:m2022609。

4、第二方面，本发明实施例提供了一种发酵产物，由前述实施例所述的出芽短梗霉培养获得。

5、第三方面，本发明实施例提供了一种珍珠发酵物，由前述实施例所述的出芽短梗霉在含珍珠的培养基中发酵培养获得。

6、第四方面，本发明实施例提供了一种皮肤外用剂，其包括：前述实施例所述的出芽短梗霉、前述实施例所述的发酵产物和前述实施例所述的珍珠发酵物中的任意一种或多种。

7、第五方面，本发明实施例提供了如前述实施例所述的出芽短梗霉或前述实施例所述的发酵产物或前述实施例所述的珍珠发酵物或前述实施例所述的微生物制剂在制备皮肤外用剂中的应用。

8、第六方面，本发明实施例提供了如前述实施例所述的出芽短梗霉或前述实施例所述的发酵产物或前述实施例所述的珍珠发酵物或前述实施例所述的皮肤外用剂在生产多糖或制备用于生产多糖的产品中的应用。

9、本发明具有以下有益效果：

10、本发明提供了一种新的南极来源的出芽短梗霉osm-nj02-gly-3-01，其发酵产生的多糖分子量比普通菌株发酵产生的多糖分子量更大，且分布更窄；该出芽短梗霉的发酵产物具有较好的抗紫外线活性，能提高胶原蛋白的生成，促进皮肤基底层和角质层的修护，抑制炎症因子的活性；且该出芽短梗霉可以通过与珍珠共发酵，进一步提高发酵产物的功效，为增强皮肤屏障功能，抗衰老和晒后修复提供了新的途径。

技术特征：

1.一种出芽短梗霉，其特征在于，其分类学拉丁文名为aureobasidium pullulans，保藏于中国典型培养物保藏中心，保藏号为cctcc no:

2.一种发酵产物，其特征在于，由权利要求1所述的出芽短梗霉培养获得。

3.根据权利要求2所述的发酵产物，其特征在于，所述培养的步骤包括：对出芽短梗霉进行发酵培养；

4.一种珍珠发酵物，其特征在于，由权利要求1所述的出芽短梗霉在含珍珠的培养基中发酵培养获得。

5.根据权利要求4所述的珍珠发酵物，其特征在于，所述含有珍珠的培养基包括：含珍珠粉和/或珍珠提取物的培养基；

6.一种皮肤外用剂，其特征在于，其包括：权利要求1所述的出芽短梗霉、权利要求2或3所述的发酵产物和权利要求4或5所述的珍珠发酵物中的任意一种或多种。

7.如权利要求1所述的出芽短梗霉或权利要求2或3所述的发酵产物或权利要求4或5所述的珍珠发酵物在制备皮肤外用剂中的应用。

8.根据权利要求7所述的应用，其特征在于，所述皮肤外用剂具有保护和/或增强皮肤屏障功能；

9.根据权利要求8所述的应用，其特征在于，所述皮肤外用剂包括：药物、化妆品和护肤品中的任意一种；

10.如权利要求1所述的出芽短梗霉或权利要求2或3所述的发酵产物或权利要求4或5所述的珍珠发酵物或权利要求6所述的皮肤外用剂在生产多糖或制备用于生成多糖的产品中的应用。

技术总结
本发明公开了一种出芽短梗霉及其发酵产物和应用，涉及微生物领域。本发明提供了一种新的南极来源的出芽短梗霉OSM‑NJ02‑Gly‑3‑01，其发酵产生的多糖分子量比普通菌株发酵产生的多糖分子量更大，且分布更窄，其发酵产物具有较好的抗紫外线活性，能提高胶原蛋白的生成，促进皮肤基底层和角质层的修护，抑制炎症因子的活性。且该出芽短梗霉可以通过与珍珠共发酵，进一步提高发酵产物的功效，为增强皮肤屏障功能，抗衰老和晒后修复提供了新的途径。

技术研发人员：沈真,吴慧君,张丽华,朱龙
受保护的技术使用者：欧诗漫生物股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/3/4