本申请涉及光学膜领域,具体而言,涉及一种硅胶胶水、硅胶保护膜和光学膜组件。
背景技术:
1、随着显示屏的市场的兴起,光学膜的需求量也越来越大,由于光学膜在运输、转移等过程中,容易产生划伤等问题,所以需要再贴合保护膜。目前,硅胶保护膜主要由50μm的pet基材和10μm的有机硅压敏胶层构成,该硅胶保护膜可以保护表面带硬涂层的光学膜;在运输过程中,由于受到环境的影响,硅胶保护膜和被保护的光学膜(例如硬化膜)剥离后,硬涂层表面的动摩擦系数会增加,硬涂层的水接触角会减小。
技术实现思路
1、本申请实施例的目的在于提供一种硅胶胶水、硅胶保护膜和光学膜组件,其旨在降低硅胶保护膜对被保护的光学膜的动摩擦系数和水接触角的影响。
2、本申请提供一种硅胶胶水,胶水包括按照重量份数计的以下组分:
3、黏度为7000-10000cps的硅胶树脂90-120份、乙烯基树脂2.0-3.0份、mq硅树脂2.0-3.0份、有机硅氢化物0-2份、铂金催化剂1.3-2.0份以及溶剂233-300份。
4、通过乙烯基树脂和mq硅树脂与胶水中其他成分的配合,优化了固化后硅胶层的交联密度,有效抑制硅胶树脂中小分子的析出,降低硅胶层表面的亲水性;避免被硅胶保护膜保护的光学膜的动摩擦系数增大,也避免被硅胶保护膜保护的光学膜的水接触角减小;从而达到降低硅胶保护膜对被保护的光学膜的动摩擦系数、亲水性能的影响。此外,胶水中选择性添加有机硅氢化物,可以进一步提高胶水成膜的交联密度,以提高硅胶层的硬度。
5、在本申请的一些实施例中,胶水还包括含氢交联剂0.8-1.3份。
6、在本申请的一些实施例中,黏度为7000-10000cps的硅胶树脂包括质量比为(75-85):(15-25)的聚硅氧烷和有机硅树脂。
7、在本申请的一些实施例中,乙烯基树脂、mq硅树脂以及有机硅氢化物的质量比依次为(2.0-2.5):(2.0-2.5):(1.0-2.0);
8、可选地,所述乙烯基树脂、所述mq硅树脂以及所述有机硅氢化物的质量比为2.5:2.5:1。
9、在本申请的一些实施例中,溶剂包括异丙醇、丙酮、甲基异丁基甲酮、丁酮、丙二醇甲醚、丙二醇单丁基醚、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等中的至少一种。
10、在本申请的一些实施例中,有机硅氢化物包括带有氢硅烷官能团的硅氧烷;mq硅树脂包括甲基含氢mq型硅树脂,分子式为[(ch3)2hsio1/2]a·[(ch3)3sio1/2]b·[sio4/2]c;乙烯基树脂包括直链型乙烯基硅油,分子式为(ch2=ch)(ch3)2sio[(ch3)2sio]nsi(ch3)2(ch=ch2)。
11、本申请还提供一种硅胶保护膜,所述硅胶保护膜包括基材层和覆盖于所述基材层表面的硅胶层;所述硅胶层由上述任一种硅胶胶水固化而成。
12、在本申请的一些实施例中,基材层的厚度为38-75μm,所述硅胶层的厚度为8-23μm;
13、可选地,所述基材层的厚度为50-51μm,所述硅胶层的厚度为10-11μm。
14、在本申请的一些实施例中,基材层用于与所述硅胶层贴合的表面经过电晕处理。
15、本申请还提供一种光学膜组件,光学膜组件包括光学膜和上述任一种硅胶保护膜;所述硅胶保护膜的硅胶层覆盖所述光学膜的表面。
16、在本申请的一些实施例中,光学膜包括基材和硬涂层,所述硅胶层覆盖所述硬涂层。
17、本申请提供的光学膜组件具有前述硅胶保护膜的优点,光学膜在与硅胶保护膜贴合之前,以及与硅胶保护膜剥离之后,由于硅胶保护膜的表面几乎没有小分子析出,光学膜表面的动摩擦系数以及水接触角变化较小。
1.一种硅胶胶水,其特征在于,胶水包括按照重量份数计的以下组分:
2.根据权利要求1所述的硅胶胶水,其特征在于,所述胶水还包括含氢交联剂0.8-1.3份。
3.根据权利要求1所述的硅胶胶水,其特征在于,所述黏度为7000-10000cps的硅胶树脂包括质量比为(75-85):(15-25)的聚硅氧烷和有机硅树脂。
4.根据权利要求1所述的硅胶胶水,其特征在于,所述乙烯基树脂、mq硅树脂和有机硅氢化物的质量比依次为(2-2.5):(2.0-2.5):(1.0-2.0);
5.根据权利要求1所述的硅胶胶水,其特征在于,所述溶剂包括异丙醇、丙酮、甲基异丁基甲酮、丁酮、丙二醇甲醚、丙二醇单丁基醚、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等中的至少一种。
6.根据权利要求1-5任一项所述的硅胶胶水,其特征在于,所述有机硅氢化物包括带有氢硅烷官能团的硅氧烷;所述mq硅树脂包括甲基含氢mq型硅树脂,分子式为[(ch3)2hsio1/2]a·[(ch3)3sio1/2]b·[sio4/2]c;所述乙烯基树脂包括直链型乙烯基硅油,分子式为(ch2=ch)(ch3)2sio[(ch3)2sio]nsi(ch3)2(ch=ch2)。
7.一种硅胶保护膜,其特征在于,所述硅胶保护膜包括基材层和覆盖于所述基材层表面的硅胶层;所述硅胶层由权利要求1-6任一项所述的硅胶胶水固化而成。
8.根据权利要求7所述的硅胶保护膜,其特征在于,所述基材层的厚度为38-75μm,所述硅胶层的厚度为8-23μm;
9.根据权利要求7所述的硅胶保护膜,其特征在于,所述基材层用于与所述硅胶层贴合的表面经过电晕处理。
10.一种光学膜组件,其特征在于,所述光学膜组件包括光学膜和权利要求7-9任一项所述的硅胶保护膜;所述硅胶保护膜的硅胶层覆盖所述光学膜的表面;