本发明涉及自洁材料，尤其是一种抗污自洁材料及其制备方法。
背景技术：
1、抗污自洁材料可以是一种特殊的涂层或表面材料，其具有抗污能力和自洁效果。这些材料通常应用于建筑物、家具、电子设备等各种表面，以保持其外观清洁和免受污染。抗污自洁材料使用的技术通常包括：疏水涂层：这种涂层能够使表面具有超疏水性，水滴滚落并携带污垢，从而使表面保持清洁。纳米涂层：纳米材料的运用可以增加材料表面的反射能力，减少污垢的附着，并具有一定的自清洁效果。光催化剂：将光催化剂应用于表面，当阳光照射时，可以催化有机物的分解，使污垢降解。抗菌涂层：一些抗污自洁材料还兼具抗菌效果，可以有效抑制细菌和霉菌的生长，保持表面清洁和卫生。
2、现有技术中的抗污自洁材料，在长期使用或暴露于恶劣环境条件下可能会失去其抗污和自洁效果，易出现涂层的磨损、脱落或降解，导致功能减弱或完全丧失，效果受限，在这里我们提出一种抗污自洁材料及其制备方法。
技术实现思路
1、本发明为解决上述技术不足，采用改性的技术方案，一种抗污自洁材料，包括有基材层、内涂层、抗污层、自洁层、透明保护层，所述内涂层占总涂层重量的10-20％，所述抗污层占总涂层重量的20-40％，所述自洁层占总涂层重量的20-30％，所述透明保护层占总涂层重量的5-10％，所述基材层占总涂层重量的5-20％。
2、作为本发明的进一步优选方式，所述基材层由纳米结构陶瓷、氟碳树脂涂层复合而成。
3、作为本发明的进一步优选方式，所述内涂层的原料成分包括有，聚甲基硅氧烷(pmos)2份、聚二甲基硅氧烷(pdms)3份、二氧化硅(sio2)纳米颗粒2份、光稳定剂1.5份，抗氧化剂1份，分散剂2份。
4、作为本发明的进一步优选方式，所述抗污层包括，聚四氟乙烯(ptfe)4份、聚全氟丙烯(pfa)1份、辛基三甲基硅烷(otms)2.5份、十六烷基三甲基硅烷(hdtms)2.5份、二氧化硅(sio2)纳米颗粒1.5份、苯并二唑类化合物(bdz)3份、抗氧化剂1份，水性分散剂2份。
5、作为本发明的进一步优选方式，所述自洁层的原料包括以下，二氧化钛(tio2)2份、氧化锌1份、纳米碳化硅0.5份、聚四氟乙烯(ptfe)1份、聚乙烯醇(pva)1.5份，有机溶剂3份。
6、作为本发明的进一步优选方式，所述透明保护层包括，甲基三甲氧基硅烷(mtms)4份、聚甲基丙烯酸甲酯(pmma1份、纳米氧化锌(zno)2.5份、苯并三唑类化合物(bta)2.5份、水性分散剂2份。
7、作为本发明的进一步优选方式，具体制作方法包括以下步骤，
8、s1，准备基材层：将纳米结构陶瓷作为基材，确保其表面光滑和清洁，在基材表面涂覆氟碳树脂涂层，形成基材层，使用喷涂、滚涂或浸涂涂覆方法；
9、s2，制备内涂层，将聚甲基硅氧烷(pmos)、聚二甲基硅氧烷(pdms)、二氧化硅(sio2)纳米颗粒、光稳定剂和抗氧化剂按照所述配方比例混合，加入适量的分散剂，并充分搅拌均匀，以获得均匀的内涂层溶液，将内涂层溶液涂覆在基材层上，使用刮板确保薄而均匀的涂层形成；
10、s3，制备抗污层，将聚四氟乙烯(ptfe)、聚全氟丙烯(pfa)、辛基三甲基硅烷(otms)、十六烷基三甲基硅烷(hdtms)、二氧化硅(sio2)纳米颗粒、苯并二唑类化合物(bdz)、抗氧化剂和水性分散剂按照所述配方比例混合，搅拌混合物，直至均匀分散，将抗污层混合物涂覆在内涂层上，确保薄而均匀的涂层形成；
11、s4，制备自洁层，将自洁层混合物涂覆在抗污层上；
12、s5，制备透明保护层，将透明保护层混合物涂覆在自洁层上；
13、s6，固化和烘干，将涂层的样品进行固化和烘干。
14、作为本发明的进一步优选方式，步骤s1中，基材表面创建微小的纳米结构，纳米结构包括纳米柱、纳米颗粒或纳米孔洞。
15、作为本发明的进一步优选方式，使用离子束束流对涂层进行辐照处理，使用紫外线照射涂层表面，然后热压处理，加热温度控制在75-85℃。
16、本发明所达到的有益效果是：本发明抗污性能：抗污层和自洁层的成分可以提供材料的抗污性能，使污渍难以附着在材料表面，并便于清洁，自洁层中的二氧化钛(tio2)可能具有光催化性能，当受到紫外线照射时，可以分解有机物质，从而实现自洁效果，透明保护层可以提供对材料的保护，预防划痕、腐蚀等损伤，并保持材料的透明性，通过在基材层上创建微小的纳米结构，如纳米柱、纳米颗粒或纳米孔洞，可以增加材料的表面积和特殊表面效应，从而改善材料的性能。
1.一种抗污自洁材料，其特征在于：包括有基材层、内涂层、抗污层、自洁层、透明保护层，所述内涂层占总涂层重量的10-20％，所述抗污层占总涂层重量的20-40％，所述自洁层占总涂层重量的20-30％，所述透明保护层占总涂层重量的5-10％，所述基材层占总涂层重量的5-20％。
2.根据权利要求1所述的一种抗污自洁材料，其特征在于，所述基材层由纳米结构陶瓷、氟碳树脂涂层复合而成。
3.根据权利要求1所述的一种抗污自洁材料，其特征在于，所述内涂层的原料成分包括有，聚甲基硅氧烷(pmos)2份、聚二甲基硅氧烷(pdms)3份、二氧化硅(sio2)纳米颗粒2份、光稳定剂1.5份，抗氧化剂1份，分散剂2份。
4.根据权利要求1所述的一种抗污自洁材料，其特征在于，所述抗污层包括，聚四氟乙烯(ptfe)4份、聚全氟丙烯(pfa)1份、辛基三甲基硅烷(otms)2.5份、十六烷基三甲基硅烷(hdtms)2.5份、二氧化硅(sio2)纳米颗粒1.5份、苯并二唑类化合物(bdz)3份、抗氧化剂1份，水性分散剂2份。
5.根据权利要求1所述的一种抗污自洁材料，其特征在于，所述自洁层的原料包括以下，二氧化钛(tio2)2份、氧化锌1份、纳米碳化硅0.5份、聚四氟乙烯(ptfe)1份、聚乙烯醇(pva)1.5份，有机溶剂3份。
6.根据权利要求1所述的一种抗污自洁材料，其特征在于，所述透明保护层包括，甲基三甲氧基硅烷(mtms)4份、聚甲基丙烯酸甲酯(pmma1份、纳米氧化锌(zno)2.5份、苯并三唑类化合物(bta)2.5份、水性分散剂2份。
7.根据权利要求1所述的一种抗污自洁材料的其制备方法，其特征在于，具体制作方法包括以下步骤，
8.根据权利要求7所述的一种抗污自洁材料的其制备方法，其特征在于，步骤s1中，基材表面创建微小的纳米结构，纳米结构包括纳米柱、纳米颗粒或纳米孔洞。
9.根据权利要求7所述的一种抗污自洁材料的其制备方法，其特征在于，使用离子束束流对涂层进行辐照处理，使用紫外线照射涂层表面，然后热压处理，加热温度控制在75-85℃。