A向蓝宝石手机盖板抛光液及制备方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及蓝宝石手机盖板的双面抛光技术，更具体的说，涉及一种A向蓝宝石 手机盖板抛光液及制备方法。
【背景技术】
[0002] 蓝宝石晶体因为生长方向不同（沿C轴或者A轴），可分为A向蓝宝石晶体与C向 蓝宝石晶体，A向蓝宝石晶体符合晶体生长方向选用原子最密面的原则，A向蓝宝石晶体的 平均质量要远远高于C向生长的蓝宝石晶体，所以将现有的C向蓝宝石手机盖板抛光液用 于A向蓝宝石手机盖板的抛光，抛光速率低，手机盖板表面质量不佳。
[0003] 目前美国苹果公司仅是将A向蓝宝石晶片应用于苹果手机后方相机镜头和指纹 芯片上。在未来，苹果公司很有可能用A向蓝宝石晶片取代铝硅酸盐玻璃材料，成为iPhone 手机屏幕，现在已有华为、金立等公司已采用A向蓝宝石晶片作为手机盖板。研宄表明A向 蓝宝石手机盖板的去除速率低、表面质量差、加工成本高。
[0004] 现阶段关于A向蓝宝石抛光液的报道较少，例如，中国专利（申请号 201410294295. 8) "一种蓝宝石手机面板A向抛光液制备方法"提及使用了抛光液，但全文 对其组分并未报道，只是简单的阐述了抛光的工艺要求，且抛光所需工艺要求均高于目前 平均水平。为了满足蓝宝石手机面板发展的需求，拥有去除量高、表面质量好的A向蓝宝石 化学机械抛光液成为急待解决的重要问题。
【发明内容】
[0005] 本发明所要解决的技术问题在于，提供一种A向蓝宝石手机盖板抛光液及制备方 法，以解决现有抛光过程中去除速率低、表面质量差等技术问题。
[0006] 本发明解决上述技术问题的技术方案为：提供一种A向蓝宝石手机盖板抛光液， 所述抛光液为水悬浮液，包括如下质量百分比的组分：
[0007]
【主权项】
1. A向蓝宝石手机盖板抛光液，其特征在于，所述抛光液为水悬浮液，包括如下质量百 分比的组分： 硅溶胶 5%~30% 络合剂 0.1%~1% 抛光助剂 0.05 %~1.5% 表面活性剂 0.05%~丨％ 消泡剂 0.01 %~0.1 %。
2. 根据权利要求1所述的A向蓝宝石手机盖板抛光液，其特征在于，所述硅溶胶中二氧 化娃颗粒的尺寸为40~110纳米。
3. 根据权利要求1所述的A向蓝宝石手机盖板抛光液，其特征在于，所述络合剂为甘氨 酸、柠檬酸、乙二胺四乙酸、酒石酸中的至少一种。
4. 根据权利要求1所述的A向蓝宝石手机盖板抛光液，其特征在于，所述抛光助剂为过 硫酸盐、碘酸盐、高氯酸盐中的一种。
5. 根据权利要求1所述的A向蓝宝石手机盖板抛光液，其特征在于，所述表面活性剂为 十六烷基三甲基溴化铵、辛基苯基聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚、聚丙烯酸钠中的至少一 种。
6. 根据权利要求1所述的A向蓝宝石手机盖板抛光液，其特征在于，所述消泡剂为甲基 硅油、聚醚中的至少一种。
7. 根据权利要求1所述的A向蓝宝石手机盖板抛光液，其特征在于，所述抛光液还包 括PH调节剂，所述pH调节剂为三乙醇胺、碳酸钠、四甲基氢氧化铵、乙二胺、氢氧化钠中的 一种，调节所述抛光液的pH值至8. 5~11。 8. A向蓝宝石手机盖板抛光液的制备方法，其特征在于，在搅拌作用下，将硅溶胶加入 至去离子水中分散稀释，然后依次加入抛光助剂、络合剂、表面活性剂、消泡剂，其中，各组 分的质量百分比如下： 硅溶胶 5%~30% 络合剂 0.1%~1% 抛光助剂 0.05 %~1.5% 表面活性剂 0.05%~1% 消泡剂 0.01 %~0.1 %。
【专利摘要】本发明涉及一种A向蓝宝石手机盖板抛光液及制备方法，其中，所述抛光液为水悬浮液，包括如下质量百分比的组分：使用本发明提供的抛光液对A向蓝宝石手机盖板进行抛光，可以使A向蓝宝石盖板的表面粗糙度小于0.3nm，抛光速率大于2μm/hr，并可以有效消除划痕、橘皮、凹凸等表面缺陷。
【IPC分类】C09G1-02
【公开号】CN104830234
【申请号】CN201510196599
【发明人】李维民, 熊伟
【申请人】深圳杰明纳微电子科技有限公司, 李维民
【公开日】2015年8月12日
【申请日】2015年4月23日