低张力光电对中进布系统的制作方法

文档序号:4375421阅读:290来源:国知局
专利名称:低张力光电对中进布系统的制作方法
技术领域
本实用新型涉及ー种对中进布系统,尤其涉及ー种低张力光电对中进布系统。
背景技术
目前用于布料的对中进布系统在调整布料时采用的方法主要为一、是采用摆动导布棍来使布料能够导正后输入到后续设备中进行生产,其导正的效果不太理想,容易是布料产生皱褶;ニ、是采用摆动弯曲橡皮棍来使布料能够导正输入到后续设备中进行生产,其在对布料的导正过程中对布料的扩布张力较大,对布料产生的张カ伤害大。
发明内容针对上述缺点,本实用新型的目的在于提供ー种具有良好的导正效果且对面料的张カ伤害小的低张カ光电对中进布系统。·本实用新型的技术内容为,一种低张カ光电对中进布系统,其特征是它包括机架、紧布辊、扩幅辊、导正装置、轴承座和轴承,紧布辊安装在机架前端,扩幅辊安装在机架后端;导正装置包括转辊、支撑圈、滑条、摆动圈、滑圈、滑块、轴承I、摆杆、电机和液压机;在转辊表面设有若干支撑圈,在支撑圈上安装有若干滑条;转辊一端和电机连接,转辊的另ー端套装摆动圈,在摆动圈外侧安装有滑圈,在摆动圈和滑圈之间连接安装有ー轴承I,在滑圏外表面设有ー凹槽,在滑条一端连接有ー滑块,滑块安装在滑圏外表面的凹槽中,摆动圈通过摆杆和液压机连接;导正装置通过转辊、轴承座和轴承安装在扩幅辊后侧的机架上。本实用新型与现有技术相比所具有的优点为本实用新型是通过滑条摆动来使布料能够导正,其导正的效果好,面料不容易产生皱褶,在对布料的导正过程中对布料的扩布张カ较小,对布料产生的张カ伤害小。

图I为本实用新型的结构示意图。图2为本实用新型中导正装置的结构示意图。图3为图2中A出的局部放大图。
具体实施例如图I、图2和图3所示,一种低张カ光电对中进布系统,其特征是它包括机架I、紧布辊2、扩幅辊3、导正装置4、轴承座6和轴承7,紧布辊2安装在机架I前端,扩幅辊3安装在机架I后端;导正装置4包括转辊4. I、支撑圈4. 2、滑条4. 3、摆动圈4. 4、滑圈4. 5、滑块4. 6、轴承I 4. 7、摆杆4. 8、液压机4. 9和电机4. 10 ;在转辊4. I表面设有若干支撑圈4. 2,在支撑圈4. 2上安装有若干滑条4. 3 ;转辊4. I 一端和电机4. 10连接,转辊4. I的另一端套装ー摆动圈4. 4,在摆动圈4. 4外侧安装有滑圈4. 5,在摆动圈4. 4和滑圈4. 5之间连接安装有ー轴承I 4. 7,在滑圈4. 5外表面设有ー凹槽4. 51,在滑条4. 3 一端连接有一滑块4. 6,滑块4. 6安装在滑圈4. 5外表面的凹槽4. 51中,摆动圈4. 4通过摆杆4. 8和液压机 4. 9连接;导正装置4通过转辊4. I、轴承座6和轴承7安装在扩幅辊3后侧的机架I上。
权利要求1.低张カ光电对中进布系统,其特征是它包括机架(I)、紧布辊(2)、扩幅辊(3)、导正装置(4)、轴承座(6)和轴承(7),紧布辊⑵安装在机架⑴前端,扩幅辊(3)安装在机架(I)后端;导正装置(4)包括转辊(4. I)、支撑圈(4. 2)、滑条(4. 3)、摆动圈(4. 4)、滑圈(4. 5)、滑块(4. 6)、轴承I (4. 7)、摆杆(4. 8)、液压机(4. 9)和电机(4. 10);在转辊(4. I)表面设有若干支撑圈(4. 2),在支撑圈(4. 2)上安装有若干滑条(4. 3);转辊(4. I) 一端和电机(4. 10)连接,转辊(4. I)的另一端套装ー摆动圈(4. 4),在摆动圈(4.4)外侧安装有滑圈(4. 5),在摆动圈(4. 4)和滑圈(4. 5)之间连接安装有ー轴承I (4. 7),在滑圈(4. 5)外表面设有ー凹槽(4. 51 在滑条(4. 3) 一端连接有ー滑块(4. 6),滑块(4. 6)安装在滑圈(4. 5)外表面的凹槽(4. 51)中,摆动圈(4. 4)通过摆杆(4. 8)和液压机(4. 9)连接;导正装置(4)通过转辊(4. I)、轴承座(6)和轴承(7)安装在扩幅辊(3)后侧的机架(I)上。
专利摘要本实用新型涉及一种低张力光电对中进布系统,它包括机架、紧布辊、扩幅辊、导正装置、轴承座和轴承,紧布辊安装在机架前端,扩幅辊安装在机架后端;导正装置包括转辊、支撑圈、滑条、摆动圈、滑圈、滑块、轴承Ⅰ、摆杆、电机和液压机;导正装置通过转辊、轴承座和轴承安装在扩幅辊后侧的机架上。本实用新型具有良好的导正效果,面料不容易产生皱褶,并且对面料的张力伤害小的优点。
文档编号B65H23/032GK202642922SQ20122020895
公开日2013年1月2日 申请日期2012年5月11日 优先权日2012年5月11日
发明者张琦 申请人:江阴福达染整联合机械有限公司
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1